Title:
プラズマ反応器およびプラズマ化学反応
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023539037
Kind Code:
A
Abstract:
本開示は、化学の分野に関し、ナノ秒パルス放電による高活性化障壁を有する気相における吸熱反応の刺激のための方法およびデバイスを提供する。これは、例えば、メタンのＣＯ２官能基化、Ｈ２Ｓ解離、水素および合成ガス製造、アンモニア合成および解離の処理などに使用され得る。いくつかの実施形態は、ガス流の存在下でのナノ秒パルス放電によるプラズマ化学反応の刺激に関連する方法およびデバイスを含む。【選択図】図９
Inventors:
Medvedev, Dmitry
Marni, Mikhail
Gorelik, Evgeny
Mislavsky, Boris
Iliev, Roman
Marni, Mikhail
Gorelik, Evgeny
Mislavsky, Boris
Iliev, Roman
Application Number:
JP2023508537A
Publication Date:
September 13, 2023
Filing Date:
August 04, 2021
Export Citation:
Assignee:
Nanoplats Technologies Limited
International Classes:
H05H1/24; B01J12/02; B01J19/00; B01J19/08; C01B3/04; C01B3/24; C01B3/36; C01B32/40; C07C2/80; C07C11/24
Attorney, Agent or Firm:
Ryoichi Takaoka
Nao Oda
Akiyo Iwahori
Rena Miyoshi
Kamoto Takahashi
Nao Oda
Akiyo Iwahori
Rena Miyoshi
Kamoto Takahashi