Title:
めっき方法及びめっき装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP7079388
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】イオン抵抗体の孔に付着した気泡を除去することができる技術を提供する。【解決手段】めっき方法は、アノード及びイオン抵抗体がめっき液に浸漬された状態でイオン抵抗体よりも上方に配置されたパドルを駆動することでめっき液を撹拌すること（ステップＳ２０）、パドルによるめっき液の撹拌が停止された状態でカソードとしての基板をめっき液に浸漬させること（ステップＳ４０）、基板がめっき液に浸漬された状態でイオン抵抗体よりも上方且つ基板よりも下方に配置されたパドルによるめっき液の撹拌を再開させること（ステップＳ５０）、及び、パドルによるめっき液の撹拌が再開された状態で基板とアノードとの間に電気を流すことで基板にめっき処理を施すこと（ステップＳ６０）を含む。【選択図】図６
Inventors:
Kazuhito Tsuji
Mizuki Nagai
Mizuki Nagai
Application Number:
JP2022066972A
Publication Date:
June 01, 2022
Filing Date:
April 14, 2022
Export Citation:
Assignee:
Ebara Corporation
International Classes:
C25D21/10; C25D7/12
Domestic Patent References:
| JP6937972B1 | 2021-09-22 | |||
| JP2021130848A | 2021-09-09 | |||
| JPH0637972B2 | 1994-05-18 |
Attorney, Agent or Firm:
Toru Miyamae
Yukio Kanegae
Makoto Watanabe
Yuki Yamada
Yukio Kanegae
Makoto Watanabe
Yuki Yamada