Title:
自己組織化用高分子材料、自己組織化膜、自己組織化膜の製造方法、パターン及びパターンの形成方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2017141492
Kind Code:
A1
Abstract:
ミクロ相分離不良部位に基づく欠陥を低減でき、しかも、微細及び微小なパターンを形成できる自己組織化用高分子材料、自己組織化膜、自己組織化膜の製造方法、パターン及びパターンの形成方法を提供すること。本発明の自己組織化用高分子材料は、特定構造を有する構成単位を含む第１重合体ブロックと、特定構造を有する構成単位を含む第２重合体ブロックとが連結されてなるトリブロック共重合体以上のマルチブロック共重合体を含有する。
Inventors:
Tomoyuki Himi
Yukio Kawaguchi
Akimasa Kosaka
Kazuhiro Hirahara
Yukio Kawaguchi
Akimasa Kosaka
Kazuhiro Hirahara
Application Number:
JP2017567949A
Publication Date:
January 17, 2019
Filing Date:
October 21, 2016
Export Citation:
Assignee:
HORIBA STEC Co., Ltd.
International Classes:
C08F297/02; B05D3/10; B05D7/24; B82Y30/00; B82Y40/00; C08J7/04; C09D153/00
Attorney, Agent or Firm:
Sakai International Patent Office
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