Title:
後処理装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024013851
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】ステープラーが退避位置から意図せず移動することを抑制する。【解決手段】後処理装置は、ステープラーと、ガイド溝が形成されたベース部と、駆動部と、制御部と、を備え、ステープラーは、ガイド溝に嵌め込まれる第１被ガイド部と、ガイド溝に嵌め込まれる第２被ガイド部と、を有し、ガイド溝は、メイン溝部と、メイン溝部のうち所定方向の一方側の端部から外側に延びる退避用溝部と、を有し、ステープル処理を行うとき、制御部は、ステープラーをメイン溝部の所定位置に配置し、ステープラーを退避させる退避処理を行うとき、制御部は、ステープラーを退避用溝部に移動して退避位置に配置し、退避用溝部は、メイン溝部から外側に向かって下り傾斜となるように形成されている。【選択図】図９
Inventors:
Satoru Yonemoto
Application Number:
JP2022116243A
Publication Date:
February 01, 2024
Filing Date:
July 21, 2022
Export Citation:
Assignee:
Kyocera Document Solutions Inc.
International Classes:
B65H37/04
Attorney, Agent or Firm:
Patent Attorney Corporation Sano Patent Office
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