Title:
触媒活性足場を調製するためのプロセス
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023533330
Kind Code:
A
Abstract:
本開示は、概して、足場材料から触媒活性足場を調製するためのプロセスに関し、特に、足場の表面から犠牲材料を化学的に除去することによって、足場の表面を活性化させて、足場の表面上の触媒反応性部位を提供することに関する。【選択図】図１
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Inventors:
Joo, Euton
Hornung, Christian
Tanactidis, John
Nguyen, Xuan
Fraser, Darren
Hornung, Christian
Tanactidis, John
Nguyen, Xuan
Fraser, Darren
Application Number:
JP2023501296A
Publication Date:
August 02, 2023
Filing Date:
July 09, 2021
Export Citation:
Assignee:
Commonwealth Scientific and Industrial Research Organization
International Classes:
B01F33/301; B01J23/755; B01J23/888; B01J23/889; B01J32/00; B01J35/10; B01J37/00; B01J37/18
Attorney, Agent or Firm:
Patent Attorney Corporation Suzue Patent General Office