Title:
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤
Document Type and Number:
Japanese Patent JP5690653
Kind Code:
B2
Inventors:
川上 晃也
内海 義之
内海 義之
Application Number:
JP2011116131A
Publication Date:
March 25, 2015
Filing Date:
May 24, 2011
Export Citation:
Assignee:
東京応化工業株式会社
International Classes:
G03F7/004; C07D313/06; C09K3/00; G03F7/039; H01L21/027
Attorney, Agent or Firm:
Sumio Tanai
Masatake Shiga
Mitsuyoshi Suzuki
Igarashi Mitsunaga
Masatake Shiga
Mitsuyoshi Suzuki
Igarashi Mitsunaga