Title:
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024001871
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】良好なＣＤ均一性を有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤、レジスト組成物等を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。TIFF2024001871000189.tif35158［式中、Ｑ１、Ｑ２、Ｒ１及びＲ２は其々水素原子、フッ素原子、アルキル基等；ｚは０～６の整数；Ｘ１は、＊－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－等；Ｌ１及びＬ２は其々単結合又は脂肪族炭化水素基；Ａｒ１は芳香族炭化水素基又は複素環式芳香族炭化水素基；Ｒ３は＊－Ｏ－Ｒ１０、＊－Ｏ－ＣＯ－Ｒ１０等、Ｒ１０は酸不安定基；Ｒ４は、ハロゲン原子、ハロアルキル基又は炭化水素基；ｍ４は０～８の整数；Ｚ＋は有機カチオンを表す。］【選択図】なし
Inventors:
Katsuhiro Komuro
Koji Ichikawa
Koji Ichikawa
Application Number:
JP2023100750A
Publication Date:
January 10, 2024
Filing Date:
June 20, 2023
Export Citation:
Assignee:
Sumitomo Chemical Co., Ltd.
International Classes:
G03F7/004; C07C381/12; C07D333/76; C07J9/00; C09K3/00; G03F7/038; G03F7/039; G03F7/20
Attorney, Agent or Firm:
Patent Attorney Corporation Shinju Global IP