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Title:
基板洗浄液、これを用いる洗浄された基板の製造方法およびデバイスの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023528174
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】基板を洗浄し、パーティクルを除去し得る基板洗浄液を得ること。【解決手段】不溶または難溶の溶質(A)、可溶の溶質(B)、および溶媒(C)を含んでなり、ここで溶媒(C)は水(C-1)を含んでなり;水(C-1)を基準として、可溶の溶質(B)の含有量は、0.1~500質量%である、基板洗浄液の提供。

Inventors:
Takashi Kinda
Tatsuro Nagahara
Application Number:
JP2022566290A
Publication Date:
July 04, 2023
Filing Date:
May 31, 2021
Export Citation:
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Assignee:
Merck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung
International Classes:
H01L21/304
Attorney, Agent or Firm:
Manabu Miyajima
Hideaki Maekawa
Itsuko Endo