Title:
基板搬送方法、基板処理装置及びプログラム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024007375
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】露光機による露光後の基板間での搬送状態のばらつきを抑制し、現像によって基板に形成されるパターンのばらつきを抑制する。【解決手段】基板をモジュール群及び露光機を経由してキャリアに搬送する搬送機構群を備え、搬送機構群には、前段モジュール、露光機、第１後段モジュールの順で基板を搬送する第１搬送機構と、第１後段モジュール、加熱モジュール、現像モジュール、第２後段モジュールの順で基板を搬送する第２搬送機構と、後段搬送機構と、が含まれる基板処理装置を用いた基板処理方法において、露光機の後段側の搬送経路にて、基板の搬送を行う各搬送機構に対応する搬送区間毎に、基板を次の搬送区間へと搬送するために要する区間搬送時間を取得する工程と、区間搬送時間のうちで最も長い最大区間搬送時間に基づいて、第１搬送機構による露光機に対する基板の搬入または搬出を行う工程と、を行う。【選択図】図５
Inventors:
Kenichiro Matsuyama
Kano Reef
Kano Reef
Application Number:
JP2023098716A
Publication Date:
January 18, 2024
Filing Date:
June 15, 2023
Export Citation:
Assignee:
東京エレクトロン株式会社
International Classes:
H01L21/027; H01L21/677
Attorney, Agent or Firm:
Patent Attorney Corporation Yayoi Patent Office
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