Title:
ＥＵＶブランクマスクの欠陥検出によるウェーハ欠陥の改善方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP7203453
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】ＥＵＶブランクマスクの欠陥を検出し、ウェーハパターン工程における欠陥を最小化しまたは発生させないように、不良転写を改善させること。【解決手段】検査装置を用いてＥＵＶブランクマスクの欠陥の位置座標、信号強度値を含む欠陥情報を検出する第１ステップと、ＥＵＶ顕微鏡を用いて、ＥＵＶマスクによりウェーハに形成すべきパターン情報を取得し、取得された欠陥情報及びパターン情報を用いてエアリアルイメージ情報を検出する第２ステップと、エアリアルイメージ情報を用いてＥＵＶマスクによりウェーハに露光する際に、ＥＵＶマスクに存在する欠陥がウェーハに転写されるか否かを検出する第３ステップと、ウェーハへの転写により欠陥が小さくなるかまたは消えるように、ＥＵＶマスクの位置を調整するか、ＥＵＶマスクを他のものと交換するか、により、ウェーハに形成すべきパターンの欠陥を改善すｒ第４ステップと、を含んで構成される。【選択図】図１
Inventors:
Lee Dong Gun
Application Number:
JP2021144093A
Publication Date:
January 13, 2023
Filing Date:
September 03, 2021
Export Citation:
Assignee:
Isol, Inc.
International Classes:
G03F1/84; G01N21/956; H01L21/66
Domestic Patent References:
| JP2020528578A |
Foreign References:
| US20210109440 | ||||
| WO2020061241A1 |
Attorney, Agent or Firm:
Kichi Toshio Kawa
Hiroshi Ichikawa
Hiroshi Ichikawa