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Title:
電解槽
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024510009
Kind Code:
A
Abstract:
超臨界条件において動作するための電解槽（１０、２０、５０）が開示され、それぞれの流体反応生成物を保持するためのチャンバ（２００、２１０、５２０）が、それを通る電解質液の流れを可能にし、それぞれの反応生成物の逆流を抑制する多孔質壁によって分離されている。コントローラが、電解質液の超臨界条件を維持するように、流動制御機器を制御する。電解槽を動作させる方法、および、そのような電解槽のための複合多孔質電極を製造する方法も開示される。【選択図】図５

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Inventors:
Russ, Michael
Gobail-Shau, Ger Peter Abraham
Application Number:
JP2023557127A
Publication Date:
March 05, 2024
Filing Date:
March 18, 2022
Export Citation:
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Assignee:
SUPER CRITICAL SOLUTIONS LIMITED.
International Classes:
C25B15/08; C25B1/04; C25B9/00; C25B9/15; C25B13/02
Attorney, Agent or Firm:
IBC Ichibancho Patent Attorney Corporation



 
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