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Title:
A manufacturing method of a high silicon steel strip by the continuation Dipping silicon method
Document Type and Number:
Japanese Patent JP6123954
Kind Code:
B1
Abstract:
高い反応効率で優れた表面性状を有する高珪素鋼帯を製造する。各ガスノズル１の近傍位置から炉長方向に沿って鋼帯パスラインと平行な仕切板２を設けるとともに、炉長方向での仕切板末端部２０に面して、鋼帯に沿ったガス流れを堰き止める堰体３を設けることにより、鋼帯と仕切板２と堰体３で囲まれる浸珪空間ｓを形成し、仕切板末端部２０と堰体３との間隙部ｅａなどを、浸珪空間ｓからその外側の炉内空間にガスを排気する排気部ｅとし、各ガスノズル１から鋼帯面に吹き付けられた後、浸珪空間ｓ内を流れた処理ガスが排気部ｅから排気されるようにする、という基本構成とした上で、浸珪空間ｓの体積に対する排気部ｅの面積を浸珪空間ｓ内での鋼帯量に応じて特定の条件で適正化する。

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JP5664286Manufacturing method of high silicon steel plate
WO/2005/045089COMPONENT ANTI-OXIDATION COATING FOR SUCH A COMPONENT AND CORRESPONDING PRODUCTION METHOD
Inventors:
Katsuji Kasai
Takashi Doi
Masatoshi Nishide
Application Number:
JP2016564276A
Publication Date:
May 10, 2017
Filing Date:
September 01, 2016
Export Citation:
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Assignee:
jfe Steel Corporation
International Classes:
C23C10/08
Domestic Patent References:
JPH11131149A1999-05-18
JPH10330908A1998-12-15
JPH10212566A1998-08-11
JPH10237621A1998-09-08
Attorney, Agent or Firm:
Shigeru Inoue
Kazuhiro Mori
Tetsuya Sakai



 
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