Title:
プラズマ処理装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024039508
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】基板処理の均一性を図る。【解決手段】基板を載置するステージを有する処理容器と、プラズマ生成用の高周波電力が供給される第１電極と、前記第１電極に対向し、前記第１電極との間にプラズマ生成空間を形成するように構成される第２電極と、誘電体で形成され、前記第１電極の外周に沿って形成された導波路から前記プラズマ生成空間に前記高周波電力を放射するように構成される放射部と、を備え、前記第２電極は、前記ステージとの間に処理空間を形成するように構成され、第１処理ガスを前記プラズマ生成空間から前記処理空間に向かう方向と逆の方向に通流させ、前記プラズマ生成空間に供給する構造を有する、プラズマ処理装置が提供される。【選択図】図１
Inventors:
Masaki Hirayama
Takaaki Kato
Takaaki Kato
Application Number:
JP2022144117A
Publication Date:
March 22, 2024
Filing Date:
September 09, 2022
Export Citation:
Assignee:
東京エレクトロン株式会社
International Classes:
H05H1/46; C23C16/40; C23C16/44; C23C16/505; H01L21/3065; H01L21/31
Attorney, Agent or Firm:
Tadashige Ito
Tadahiko Ito
Tadahiko Ito
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