以下、本発明の実施例を添付図面を参照し� ��説明する。
 図4は本発明の一実施例を示すもので、基本 的な構成は図3と類似しており、図3と同一の� ��分には同じ符号を付して説明は省略し、以� ��では本発明の特徴部分についてのみ詳述す� ��。

 図4に示している流動層ガス化炉107の下部 には、水蒸気、空気、二酸化炭素等のガス化 剤109を導入するガス化剤ボックス110が備えて あり、更に、流動層ガス化炉107内には、上部 から流動層105内に亘って延びる区画壁112によ る区画手段によって第1室113と第2室114が形成� ��れており、第1室113は大きい容積を有してお り、第2室114は小さい容積となっている。こ� �時、前記区画壁112の下端とガス化剤ボック� �110との間には、流動層105内部を通して第1室1 13と第2室114とを連通する下部連通部108が形成 されている。上記区画壁112は、水冷手段を備 えて冷却することにより流動層ガス化炉107内 の高温から保護することが好ましい。

 前記第1室113には、前記分離機104からの高 温の粒子102が降下管104aを介して導入されて� �ると共に、石炭等の有機物原料或いはその� �のガス化を行う原料Mがスクリューフィーダ� ��の原料供給装置115を介して供給されている� ��

 前記第1室113では、ガス化剤109により流動化 される流動層105の粒子102により石炭等の原料 Mが加熱されてガス化し、水素(H ₂ )、一酸化炭素(CO)、二酸化炭素(CO ₂ )、メタン(CH ₄ )等を主体とする生成ガス106が生成される。� �のとき、前記原料Mがバイオマス等の有機性� ��料の場合には水蒸気が同時に生成される。� ��記生成ガス106は生成ガス誘引手段116にて外� ��に取り出されて目的場所に送られる。図4の 生成ガス誘引手段116は誘引ファン116aと調整� �ンパ116bにより構成されている。

 前記第2室114には、流動層105の表面層の位 置に上端が開口し、下端が流動層燃焼炉100の 内側下部に開口した傾斜管117が接続されてお り、第2室114の粒子102とガス化によって生成� �たチャーは傾斜管117を介して流動層燃焼炉10 0に循環供給される。

 一方、流動層燃焼炉100の上端から取り出� ��れる燃焼ガス101は、排ガス誘引手段118の誘� ��により分離機104に導入されて高温の粒子102� ��排ガス103とに分離されるようになっている� ��図4の排ガス誘引手段118は誘引ファン118aと� �整ダンパ118bにより構成されている。

 上記構成において、第1室113の圧力を検出 する第1圧力検出器119を設け、第1圧力検出器1 19が検出する第1室113の検出圧力が設定圧力120 に保持されるように生成ガス誘引手段116を制 御する第1圧力制御器121を設ける。このとき� �第1圧力制御器121は、図示するように調整ダ� ��パ116bの開度を調節するようにしてもよいが 、誘引ファン116aの回転数を調節するように� �てもよい。

 一方、第2室114の圧力を検出する第2圧力� �出器122を設け、該第2圧力検出器122により検� ��される第2室114の検出圧力と、前記第1圧力� �出器119によって検出している第1室113の検出� ��力の差が設定差圧123になるように排ガス誘� ��手段118を制御する第2圧力制御器124を設ける 。このとき、第2圧力制御器124は、図示する� �うに調整ダンパ118bの開度を調節するように� ��てもよいが、誘引ファン118aの回転数を調節 するようにしてもよい。

 前記流動層燃焼炉100の下方側部には、回� ��フィーダ125等を介して新たな粒子を流動層� ��焼炉100に供給するようにした粒子供給装置1 26を設けている。又、流動層燃焼炉100の下部� ��は、流動層燃焼炉100内の粒子をスクリュー� ��ンベヤ127等を介して外部に取り出すように� ��た粒子取出装置128を設けている。

 図4に示した実施例では、原料供給装置115 から第1室113に供給された原料Mは、流動層105� ��高温の粒子102により加熱されると同時に下� ��から供給されるガス化剤109の作用によりガ� ��化され、ガス化によって生成した生成ガス1 06は生成ガス誘引手段116により誘引されて目� ��場所へ送られる。このとき、第1圧力制御器 121は、第1圧力検出器119で検出している第1室1 13の検出圧力が設定圧力120に保持されるよう� ��生成ガス誘引手段116による誘引を制御する� ��で、第1室113からは一定の生成ガス106が安定 して取り出される。

 第1室113のガス化によって生成したチャー と前記粒子102は、矢印で示すように前記区画 壁112下部連通部108を潜るように通って第2室11 4に導かれ、傾斜管117にオーバーフローによ� �供給されて流動層燃焼炉100に循環される。

 流動層燃焼炉100に供給された粒子102は、� ��ャーが流動燃焼することによって加熱され� ��。このとき、前記流動層燃焼炉100内部は前� ��排ガス誘引手段118によって誘引されている� ��で、流動層燃焼炉100の下部より投入される� ��気によって粒子は上昇し、燃焼ガス101とな� ��て分離機104に導入され、分離機104により高� ��の粒子102と排ガス103とに分離され、粒子102� ��再び流動層ガス化炉107の第1室113に供給され る。

 前記第1室113の流動層105の層高が高い時は 、粒子102が第1室113内に留まっているため粒� �102の循環量は小さく、一方、第1室113の流動� ��105の層高が低い時は、粒子102が第1室114内に 留まる時間が短かいため流動層燃焼炉100への 粒子102の循環量が大きくなる。

 従って、第2圧力検出器122により検出して いる第2室114の検出圧力と、前記第1圧力検出� ��119によって検出している第1室113の検出圧力 の差が設定差圧123になるように、第2圧力制� �器124によって排ガス誘引手段118を制御する� �即ち、例えば第1圧力検出器119が検出してい� ��第1室113の検出圧力に対して、該第2圧力検� �器122で検出している第2室114の検出圧力が低� ��なるように設定した設定差圧123で排ガス誘� ��手段118を制御すると、第1室113の流動層105の 層高は低く保持されて、流動層ガス化炉107か ら流動層燃焼炉100へ供給される粒子102の循環 量が増加する。上記設定差圧123を大きく設定 すると、粒子102の循環量を更に増加すること ができる。

 粒子102の循環量が増加すると、流動層燃� ��炉100にて加熱された粒子102が流動層ガス化� ��107に供給される量が増加することになるた� ��、流動層ガス化炉107内の温度を高く保持し� ��流動層ガス化炉107でのガス化効率を高める� ��とができ、また、原料Mのガス化処理量を増 大して生成ガス106の生産量を増大することが できる。

 尚、前記第2室114の圧力と流動層燃焼炉100 内下部の圧力とは略同等であるため、前記第 2圧力検出器122で検出している第2室114の検出� ��力に代えて、流動層燃焼炉100内下部の圧力� ��検出する第2圧力検出器122’を前記第2圧力� �御器124に導入して制御するようにしてもよ� �。

 上記したように、第1室113の圧力を設定圧 力120に制御した状態において、第1室113の流� �層105の層高を調節することにより流動層ガ� �化炉107から流動層燃焼炉100へ供給する粒子10 2の循環量を制御するようにしたので、流動� �ガス化炉107に供給するガス化剤109の流量を� �更することなしに粒子102の循環量を任意に� �整することができ、よって流動層ガス化炉10 7でのガス化効率を安定して任意に高めるこ� �ができるようになる。

 又、前記第2圧力制御器124によって第1室11 3の流動層105の層高を制御する操作に加えて� �粒子供給装置126により流動層燃焼炉100内に� �たな粒子を供給する操作を行うことができ� �。又、前記層高を制御する操作に加えて、� �子取出装置128により流動層燃焼炉100内の粒� �を取り出す操作を行うことができる。上記� �子供給装置126又は粒子取出装置128による操� �を付加すると、系内の粒子量を変更できる� �共に、粒子の循環量を迅速に調節すること� �できる。

 図5は本発明の別の実施例を示したもので ある。図5の実施例が図4の実施例と異なる点� ��、流動層ガス化炉107内部を区画壁112による� ��画手段によって区画した第1室は容積が小さ い前段処理室113Aであり、第2室は容積が大き� ��ガス化室114Aとしている点である。

 そして、前段処理室113Aには、前記分離機 104からの高温の粒子102が導入されていると共 に、バイオマスや汚泥等の有機物からなる原 料M’が原料供給装置115により供給されてお� �、前段処理室113Aで有機物の原料M’が加熱さ れて生成する水蒸気129が水蒸気誘引手段130に より外部に取り出されるようになっている。 図5の水蒸気誘引手段130は誘引ファン130aと調� ��ダンパ130bから構成されている。

 上記実施例においては、前記分離機104か� ��降下管104aを介して流下してくる粒子102を、 二点鎖線で示す分配手段133を備えて前段処理 室113Aとガス化室114Aに分配して供給すること� ��より、前段処理室113A内の温度が有機物の原 料M’の乾燥に適した温度になるように粒子10 2の供給量を調整することが好ましい。

 そして、前記第1圧力制御器121には、前段 処理室113A内の水蒸気129の圧力を検出する第1� ��力検出器119の検出圧力が導入されており、� ��段処理室113Aの検出圧力が設定圧力120に保持 されるように水蒸気誘引手段130を制御してい る。このとき、第1圧力制御器121は、図5に示� ��ように調整ダンパ130bの開度を調節するよう にしてもよいが、誘引ファン130aの回転数を� �節するようにしてもよい。

 一方、第2室であるガス化室114Aには、前� �処理室113Aで水分が除去された原料M’が区画 壁112の下端を潜るようにして導入される。そ して、粒子102による加熱とガス化剤109により 原料M’がガス化されて生成した生成ガス106� �、生成ガス誘引手段131により外部に取り出� �れて目的場所に送られる。図5の生成ガス誘� ��手段131は誘引ファン131aと調整ダンパ131bか� �構成されている。そして、生成ガス誘引手� �131は一定取出量制御器132によって、常に一� �量の生成ガス106をガス化室114Aから取り出す� ��うにしている。

 更に、前記第2圧力検出器122で検出してい るガス化室114Aの検出圧力と、前記第1圧力検� ��器119で検出している前段処理室113Aの検出圧 力とが第2圧力制御器124に入力され、前段処� �室113Aの圧力とガス化室114Aの圧力の差が設定 差圧123になるように、前記排ガス誘引手段118 の誘引を制御するようにしている。

 図5の実施例によれば、有機物の原料M’� �前段処理室113Aに供給されることにより水蒸� ��が生成して前段処理室113Aの圧力は上昇する 。しかし、第1圧力制御器121は第1圧力検出器1 19が検出している前段処理室113Aの圧力が設定 圧力120に保持されるように水蒸気誘引手段130 による水蒸気の誘引を制御するので、前段処 理室113Aの圧力は一定に保持される。

 前段処理室113Aで水分が除去されて乾燥し た原料M’は区画壁112の下端を潜ってガス化� �114Aに導入されてガス化剤109によりガス化さ� ��、ガス化により生成した生成ガス106は生成� ��ス誘引手段131により外部に取り出される。� ��のとき、生成ガス誘引手段131に備えた一定� ��出量制御器132によって、常に一定量の生成� ��ス106がガス化室114Aから取り出される。

 この状態において、第1圧力検出器119が検 出している前段処理室113Aの検出圧力に対し� �、第2圧力検出器122が検出しているガス化室1 14Aの検出圧力が低くなるように第2圧力制御� �124に設定した設定差圧123によって排ガス誘� �手段118を制御すると、流動層105の層高が低� �保持され、流動層ガス化炉107から流動層燃� �炉100へ供給される粒子102の循環量が増加さ� �るようになる。

 更に、図5の実施例では、有機物の原料M� �が前段処理室113Aで乾燥された後、ガス化室1 14Aに供給されてガス化されるため、ガス化室 114Aからは水蒸気を含まない生成ガスを取り� �すことができる。

 図6は、前記図5の装置を変化させた本発明� �更に別の実施例を示したものである。図6の� ��施例が図5の実施例と異なる点は、前段処理 室113Aにおいて、有機物の原料M’が熱分解反� ��される温度まで加熱処理されるようにした� ��である。例えば破線で示す分配手段133を備� ��ることによって前段処理室113Aとガス化室114 Aに供給する粒子102の供給量を調節する。こ� �とき、前段処理室113Aにおいては、有機物の� ��料M’の熱分解反応によって、メタン(CH ₄ )、タール等の炭化水素(CH)を含む成分、その� ��一酸化炭素(CO)、二酸化炭素(CO ₂ )、水素(H ₂ )等を主体とする熱分解ガス134が生成される� �うに、供給される粒子102の量と原料M’が前� ��処理室113Aに留まる滞留時間とを制御するよ うにしてる。原料M’の滞留時間は前段処理� �113Aの圧力によって設定することができる。� ��ス化室114Aからは前記熱分解ガス134と共に水 蒸気が生じる。

 前段処理室113Aで生成した熱分解ガス134及 び水蒸気は、熱分解ガス誘引手段135により外 部に取り出される。図5の熱分解ガス誘引手� �135は誘引ファン135aと調整ダンパ135bから構成 されている。

 尚、図6の実施例では、前段処理室113Aか� �熱分解ガス誘引手段135によって取り出した� �分解ガス134を流動層燃焼炉100に供給してお� �、熱分解ガス134は流動層燃焼炉100で粒子を� �熱するための燃料として用いられている。

 前記第1圧力制御器121には、前段処理室113 A内の熱分解ガス134の圧力を検出する第1圧力� ��出器119の検出圧力が導入されており、前段� ��理室113Aの検出圧力が設定圧力120に保持され るように熱分解ガス誘引手段135を制御してい る。

 一方、ガス化室114Aには、前段処理室113Aで� �分解処理された原料M”が区画壁112の下端を� ��るようにして導入される。そして、粒子102� ��よる加熱とガス化剤109によるガス化反応に� ��って原料M”がガス化される。水蒸気ガス化 の場合には、一酸化炭素(CO)、水素(H ₂ )を主成分とする生成ガス106が生じる。この� �成ガス106は、生成ガス誘引手段131により外� �に取り出されて目的場所に送られる。生成� �ス誘引手段131は誘引ファン131aと調整ダンパ1 31bから構成されている。そして、生成ガス誘 引手段131は、一定取出量制御器132によって、 常に一定量の生成ガス106をガス化室114Aから� �り出すように制御する。

 更に、前記第2圧力検出器122で検出してい るガス化室114Aの検出圧力と、前記第1圧力検� ��器119で検出している前段処理室113Aの検出圧 力とが第2圧力制御器124に入力されており、� �2圧力制御器124は、前段処理室113Aの圧力とガ ス化室114Aの圧力の差が設定差圧123になるよ� �に前記排ガス誘引手段118の誘引を制御する� �

 図6の装置においては、第1圧力検出器119� �検出している前段処理室113Aの検出圧力に対� ��て、第2圧力検出器122が検出しているガス化 室114Aの検出圧力が低くなるように第2圧力制� ��器124に設定した設定差圧123によって排ガス� ��引手段118を制御すると、前段処理室113Aの流 動層105の層高が低く保持され、流動層ガス化 炉107から流動層燃焼炉100へ供給される粒子102 の循環量が増加されるようになる。

 更に、図6の装置では、前段処理室113Aにお� �て熱分解ガス134と水蒸気を分離しているた� �、ガス化室114Aでは熱分解処理された原料M” をガス化するので、一酸化炭素(CO)、水素(H ₂ )を主成分とする高品質の生成ガス106を生成� �て取り出すことができるようになる。

 又、前段処理室113Aで生成した熱分解ガス 134を熱分解ガス誘引手段135によって流動層燃 焼炉100に供給することにより、熱分解ガス134 が流動層燃焼炉100での粒子の加熱に利用され 、これにより粒子の温度が更に高められるの で、流動層ガス化炉107におけるガス化効率を 更に高めることができる。

 なお、本発明の循環流動層炉における粒� ��循環量制御装置は、種々の有機物原料のガ� ��化に用い得ること、その他、本発明の要旨� ��逸脱しない範囲内において種々変更を加え� ��ることは勿論である。