Die Erfindung betrifft eine Anlage zum zumindest einseitigen Beschichten eines bandförmigen Substrats, aufweisend wenigstens eine oberhalb des Substrats angeordnete obere Auftragswalze, wenigstens eine unterhalb des Substrats angeordnete untere Auftragswalze und wenigstens eine mit der oberen Auftragswalze verbundene Versteileinrichtung, mit der eine Stellung der oberen Auftragswalze relativ zu der unteren Auftragswalze variierbar ist.

Anlagen zum Beschichten eines bandförmigen Substrats sind in verschiedenen Ausgestaltungen bekannt. Insbesondere ist es bekannt, ein Beschichtungsmedium mittels einer solchen Anlage unter Verwendung eines Auftragswalzverfahrens auf ein bandförmiges Substrat aufzutragen.

US 5 385 610 A offenbart eine Anlage zum beidseitigen Beschichten eines bandförmigen Substrats, die eine oberhalb des Substrats angeordnete obere Auftragswalze, eine unterhalb des Substrats angeordnete untere Auftragswalze und eine mit der oberen Auftragswalze verbundene Versteileinrichtung, mit der eine Stellung der oberen Auftragswalze in vertikaler Richtung und quer zu einer Längsmittelachse der oberen Auftragswalze relativ zu der unteren Auftragswalze variierbar ist. Mit der Versteileinrichtung kann die obere Auftragswalze linear in vertikaler Richtung bewegt werden. Seitlich zu jeder Auftragswalze ist jeweils eine Dosierwalze angeordnet, deren Stellung zu der jeweiligen Auftragswalze in horizontaler Richtung variierbar ist.

CN 201 785 472 U betrifft eine Anlage zum beidseitigen Beschichten eines bandförmigen Substrats, die eine oberhalb des Substrats angeordnete obere Auftragswalze, eine unterhalb des Substrats angeordnete untere Auftragswalze und eine mit der oberen Auftragswalze verbundene Versteileinrichtung, mit der eine Stellung der oberen Auftragswalze in vertikaler Richtung und quer zu einer Längsmittelachse der oberen Auftragswalze relativ zu der unteren Auftragswalze variierbar ist. Hierzu kann ein die obere Auftragswalze haltender oberer Rahmen mit der Versteileinrichtung um eine horizontale Achse verschwenkt werden. Die untere Auftragswalze ist über einen Schlitten auf einer schiefen Bahn linear bewegbar an einem unteren Rahmen angeordnet. Seitlich zu jeder Auftragswalze ist jeweils eine Dosierwalze angeordnet, deren Stellung zu der jeweiligen Auftragswalze in horizontaler Richtung variierbar ist.

Aufgabe der Erfindung ist es, die Funktion der eingangs genannten Anlage zu verbessern.

Diese Aufgabe wird durch den unabhängigen Anspruch gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind insbesondere in den abhängigen Ansprüchen angegeben, die jeweils für sich genommen oder in verschiedener Kombination miteinander einen Aspekt der Erfindung darstellen können.

Die erfindungsgemäße Anlage zum zumindest einseitigen Beschichten eines bandförmigen Substrats umfasst wenigstens eine oberhalb des Substrats angeordnete obere Auftragswalze, wenigstens eine unterhalb des Substrats angeordnete untere Auftragswalze und wenigstens eine mit der oberen Auftragswalze verbundene Versteileinrichtung, mit der eine Stellung der oberen Auftragswalze relativ zu der unteren Auftragswalze variierbar ist, wobei die Versteileinrichtung derart ausgebildet ist, dass mit ihr die Stellung der oberen Auftragswalze relativ zu der unteren Auftragswalze in horizontaler Richtung und quer zu einer Längsmittelachse der oberen Auftragswalze variierbar ist.

Im Gegensatz zum oben genannten Stand der Technik kann bei der erfindungsgemäßen Anlage die obere Auftragswalze relativ zu der unteren Auftragswalze, insbesondere unabhängig von eventuellen vertikalen Bewegungen, in horizontaler Richtung und quer zur Längsmittelachse der oberen Auftragswalze bewegt werden. Hierdurch kann eine durch einen Kontakt des Substrats mit den Auftragswalzen entstehende Linienlast optimal an den jeweiligen Anwendungsfall angepasst bzw. eingestellt werden, um ein gewünschtes Beschichtungsergebnis zu erhalten. Die obere Auftragswalze kann insbesondere zwischen einer Position oberhalb der unteren Auftragswalze, in der die Längsmittelachse der oberen Auftragswalze vertikal über der Längsmittelachse der unteren Auftragswalze angeordnet ist und eine maximale Linienlast vorliegen kann, und einer dazu seitlich versetzten Position in horizontaler Richtung bewegt werden. Die Anstellkraft der oberen Auftragswalze wird anteilig oder vollständig von der unteren Auftragswalze aufgenommen. Zusätzlich wirkt auf die untere Auftragswalze eine aus dem Gewicht des auf ihr aufliegenden Substrats folgende Last ein. Die erfindungsgemäße Anlage zeichnet sich somit gegenüber herkömmlichen Anlagen durch einen einfacheren und robusteren Aufbau, einen sichereren Umgang mit Beschichtungsmedien, eine größere Variabilität der Prozessparameter sowie ein vereinfachtes Rüsten aus.

Das Substrat kann nach seiner Beschichtung einem horizontalen Ofen zugeführt werden, in dem durch eine Wärmebehandlung das Beschichtungsmedium getrocknet und durch chemische Reaktionen ausgehärtet wird, wodurch gegebenenfalls zusätzlich die stoffschlüssige Verbindung zwischen dem Substrat und dem Beschichtungsmedium verbessert werden kann. Das Substrat kann beispielsweise ein Metallband, insbesondere ein Stahlband, sein.

Die Auftragswalzen können jeweils einen Ballen aus Stahl mit einer Ummantelung aus elastischem Hartgummi, beispielsweise Polyurethan (PU), Ethylen-Propylen- Dien-Kautschuk (EPDM) oder Chlor-Sulfat-Polyethylen (CSM), aufweisen.

Die Versteileinrichtung kann hydraulisch, pneumatisch, elektromechanisch oder, für eine manuelle Betätigung, mechanisch ausgebildet sein. Insbesondere kann die Versteileinrichtung wenigstens einen elektrischen Spindelantrieb aufweisen. Das Beschichtungsmedium kann mit der oberen und/oder mit der unteren Auftragswalze auf das Substrat aufgetragen werden. Der Auftrag wird maßgeblich durch die jeweilige Anstellkraft zwischen den Auftragswalzen bzw. die jeweilige Eintauchtiefe der Auftragswalzen in das Substrat beeinflusst. Zur Variation der Schichtdicke der aufgetragenen Beschichtung können verschiedene Stellgrößen berücksichtigt werden. Diese sind abhängig von dem zur Einfärbung der jeweiligen Auftragswalze verwendeten Verfahren, von der mit- oder gegenläufigen Fahrweise der jeweiligen Auftragswalze relativ zur Förderrichtung des Substrats durch die Anlage, von dem Verhältnis der Umfangsgeschwindigkeit der jeweiligen Auftragswalze zur Fördergeschwindigkeit des Substrats sowie von den gegenseitigen Anpress- bzw. Abquetschdrücken der Auftragswalzen untereinander. Weitere Einflussfaktoren sind zum Beispiel die Viskosität des Beschichtungsmediums, die Rauhigkeiten der am Prozess beteiligten Oberflächen und die Temperatur des Beschichtungsmediums und des Substrats.

Die Anlage umfasst vorzugsweise eine Sensorik zur Erfassung und Einstellung des Betriebszustandes der Anlage. Es können alle Antriebe bzw. manuellen Verstellmöglichkeiten mit jeweils einem Wegmessystem (Skalen oder Sensorik) kombiniert sein, um die relative Position der Auftragswalzen zueinander und der Auftragswalzen zum Substrat erfassen zu können. Kritische Positionen können zusätzlich über Endschalter erfasst werden. Bei einem Kontakt der Auftragswalzen kann die Anstellkraft zwischen den Auftragswalzen direkt mit Kraftmessbolzen oder bei hydraulischer Anstellung indirekt über eine Druckmessung an einem Hydraulikzylinder gemessen werden. Eine Kraftmessung kann insbesondere an den Auftragswalzen, zwischen einer Auftragswalze und einer Dosierwalze und an der Versteileinrichtung erfolgen.

Gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung umfasst die Versteileinrichtung wenigstens eine Führungsstruktur, wenigstens einen an der Führungsstruktur entsprechend der oberen Auftragswalze linear bewegbar angeordneten Schlitten, an dem die obere Auftragswalze um ihre Längsmittelachse drehbar gelagert ist, und wenigstens eine mit dem Schlitten verbundene Verstelleinheit, mit der eine Stellung des Schlittens relativ zu der Führungsstruktur variierbar ist. Die Verstelleinheit kann manuell betätigbar sein oder wenigstens einen elektrisch ansteuerbaren Antrieb aufweisen. Mit der Verstelleinheit kann somit die Position der oberen Auftragswalze zur Position der unteren Auftragswalze in horizontaler Richtung variiert werden. Die Führungsstruktur kann wenigstens eine gerade Führungsschiene aufweisen, an welcher der Schlitten längsbeweglich geführt ist. Der Schlitten kann über Gleitkörper oder Rollen bewegbar an der Führungsstruktur geführt sein.

Vorteilhafterweise umfasst die Anlage wenigstens eine zumindest teilweise seitlich zu der oberen Auftragswalze angeordnete Dosierwalze, wenigstens einen an der Führungsstruktur entsprechend der oberen Auftragswalze linear bewegbar angeordneten weiteren Schlitten, an dem die Dosierwalze um ihre Längsmittelachse drehbar gelagert ist, und wenigstens eine mit dem weiteren Schlitten verbundene weitere Verstelleinheit, mit der eine Stellung des weiteren Schlittens relativ zu dem die obere Auftragswalze haltenden Schlitten variierbar ist, wobei die weitere Verstelleinheit die beiden Schlitten miteinander verbindet. Die Dosierwalze ist mit einem System zur Einfärbung der Dosierwalze verbunden. Die Dosierwalze kann einen Ballen aus Stahl mit oder ohne einer umlaufenden Beschichtung aufweisen. Die Beschichtung kann beispielsweise eine Keramikbeschichtung oder eine Gummierung sein. Die Dosierwalze kann als Rasterwalze ausgeführt sein. Die weitere Verstelleinheit kann hydraulisch, pneumatisch, elektromechanisch oder, zur manuellen Betätigung, mechanisch ausgebildet sein. Wird die obere Auftragswalze durch die Verstelleinheit in horizontaler Richtung verfahren, so verfährt gleichzeitig die Dosierwalze in horizontaler Richtung. Die Dosierwalze wird durch die weitere Verstelleinheit unabhängig von der oberen Auftragswalze und relativ zu der oberen Auftragswalze verfahren. Die obere Auftragswalze und die Dosierwalze und die ihnen jeweilig zugeordneten Verstelleinheiten sind in Reihe angeordnet, so dass ein zwischen diesen beiden Walzen eingestellter Linienkontakt beim Verfahren der oberen Auftragswalze mittels der Verstelleinheit unverändert bleibt. Die Einfärbung der oberen Auftragswalze kann durch eine Einleitung des Beschichtungsmediums über ein Rohr in einen zwischen der oberen Auftragswalze und der Dosierwalze vorhandenen Walzenspalt erfolgen, wobei das Beschichtungsmedium derart zugeführt werden kann, dass es sich unter Ausbildung einer Art Rückstaubecken zwischen den Walzen rückstaut, in dem Walzenspalt steht und hierdurch dosiert wird. Die Beschichtung des Substrats kann bezüglich einer Förderrichtung des Substrats durch eine mitläufige oder gegenläufige Fahrweise der oberen Auftragswalze erfolgen. Für einen Wechsel zwischen diesen Fahrweisen der oberen Auftragswalze muss die Dosierwalze auf der jeweils anderen Seite der oberen Auftragswalze angeordnet werden. Die Führungsstruktur kann wenigstens eine gerade Führungsschiene aufweisen, an welcher der weitere Schlitten längsbeweglich geführt ist. Der weiteren Schlitten kann über Gleitkörper oder Rollen bewegbar an der Führungsstruktur geführt sein.

Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung umfasst die Anlage zwei auf gegenüberliegenden Seiten der oberen Auftragswalze, jeweils zumindest teilweise seitlich zu der oberen Auftragswalze und in einem festen Abstand zueinander angeordnete Dosierwalzen, die um ihre jeweilige Längsmittelachse drehbar an dem weiteren Schlitten gelagert sind. Die Dosierwalzen sind derart beabstandet voneinander an dem weiteren Schlitten angeordnet, dass stets nur eine der Dosierwalzen zum Einfärben der oberen Auftragswalze verwendet wird, während die jeweils andere Dosierwalze sich in einem größeren Abstand zu der oberen Auftragswalze befindet. Bei einem Wechsel zwischen einer mitläufigen und einer gegenläufigen Fahrweise der oberen Auftragswalze kann ein schneller Wechsel zwischen den Dosierwalzen über eine Ansteuerung der weiteren Verstelleinheit erfolgen, so dass die obere Auftragswalze mittels der jeweils anderen Dosierwalze eingefärbt wird. Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung umfasst die Anlage wenigstens eine einlaufseitig angeordnete Walzeinheit mit zumindest einer unterhalb des Substrats angeordneten Tragwalze, die bezüglich einer Förderrichtung des Substrats durch die Anlage der unteren Auftragswalze vorgeschaltet ist. Die Tragwalze steht permanent mit dem Substrat in Kontakt und definiert eine Kettenlinie, das heißt den Bandlauf des Substrats durch die Anlage. Die Tragwalze kann zudem eine Höhe definieren, auf der das Substrat in einen nachgeschalteten horizontalen Ofen einläuft. Bei einer Anlage in Form eines chemischen Coaters erfolgt in dem Ofen eine Trocknung des wässrigen Beschichtungsmediums und eine Unterstützung oder Initiierung von chemischen Reaktionen in dem Beschichtungsmedium sowie zwischen dem Substrat und dem Beschichtungsmedium. Die obere Auftragswalze kann zwischen einer mittig zwischen der unteren Auftragswalze und der Tragwalze angeordneten Mittelposition und der Position vertikal über der unteren Auftragswalze in horizontaler Richtung verfahren werden. Eine minimale Linienlast auf die untere Auftragswalze ergibt sich, wenn die obere Auftragswalze sich in der Mittel position befindet. In dieser Position verteilt sich die Anstellkraft der oberen Auftragswalze jeweils hälftig auf die untere Auftragswalze und die weitere Tragwalze.

Es ist des Weiteren von Vorteil, wenn die Walzeinheit wenigstens eine oberhalb des Substrats angeordnete Anpresswalze aufweist, wobei zwischen der Tragwalze und der Anpresswalze ein Walzspalt ausgebildet ist, durch den das Substrat förderbar ist. Die Anpresswalze kann gegen das auf der Tragwalze aufliegende Substrat gepresst werden. Mit der Anpresswalze kann im Einlauf der Anlage ein eventuell vorhandener Querbogen des Substrats elastisch aus dem Substrat herausgedrückt werden, wodurch der Linienkontakt des Substrats mit den Auftragswalzen verbessert wird, was wiederum mit einem verbesserten Beschichtungsergebnis einhergeht. Durch die Anpresswalze bzw. die Walzeinheit erhält die Anlage somit eine größere Toleranz gegenüber ungewünschten bzw. bezüglich eines gewünschten Beschichtungsergebnisses unvorteilhaften Substratgeometrien. Vorteilhafterweise umfasst die Walzeinheit eine feststehende Basiseinheit, an der die Tragwalze um ihre Längsmittelachse drehbar angeordnet ist, wenigstens eine oberhalb des Substrats und bewegbar an der Basiseinheit angeordnete Halteeinheit, an der die Anpresswalze um ihre Längsmittelachse drehbar angeordnet ist, und wenigstens eine an der Basiseinheit und der Halteeinheit angreifende Antriebseinheit zum Bewegen der Halteeinheit, wobei die Halteeinheit um eine horizontale Achse schwenkbar oder in vertikaler Richtung linear bewegbar an der Basiseinheit angeordnet ist. Hierdurch lässt sich die Anstellkraft der Anpresswalze variieren.

Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung umfasst die Anlage wenigstens eine mit der unteren Auftragswalze verbundene weitere Versteileinrichtung, mit der eine Stellung der unteren Auftragswalze relativ zu der oberen Auftragswalze in vertikaler Richtung und quer zu einer Längsmittelachse der unteren Auftragswalze variierbar ist. Hierdurch kann die untere Auftragswalze gegen das Band (Passlinie) angestellt werden. Die Eintauchtiefe und der Umschlingungswinkel der unteren Auftragswalze kann durch einen vertikalen Hub der oberen Auftragswalze definiert werden. Es ist des Weiteren von Vorteil, wenn die weitere Versteileinrichtung wenigstens eine vertikale Führungsstruktur, wenigstens einen an der vertikalen Führungsstruktur entsprechend der unteren Auftragswalze linear bewegbar angeordneten Vertikalschlitten, an dem die untere Auftragswalze um ihre Längsmittelachse drehbar gelagert ist, und wenigstens eine mit dem Vertikalschlitten verbundene vertikale Verstelleinheit, mit der eine Stellung des Vertikalschlittens relativ zu der Führungsstruktur variierbar ist, aufweist. Die vertikale Verstelleinheit kann manuell betätigbar sein oder wenigstens einen elektrisch ansteuerbaren Antrieb aufweisen. Mit der vertikalen Verstelleinheit kann somit die Position der unteren Auftragswalze zur Position der oberen Auftragswalze in vertikaler Richtung variiert werden. Die vertikale Führungsstruktur kann wenigstens eine gerade Führungsschiene aufweisen, an welcher der Vertikalschlitten längsbeweglich geführt ist. Der Vertikalschlitten kann über Gleitkörper oder Rollen bewegbar an der vertikalen Führungsstruktur geführt sein. Vorteilhafterweise umfasst die Anlage wenigstens eine zumindest teilweise unterhalb der unteren Auftragswalze angeordnete Schöpfwalze, wenigstens eine zumindest teilweise unterhalb der Schöpfwalze angeordnete Wanne zur Aufnahme eines Beschichtungsmediums, in welche die Schöpfwalze teilweise eintaucht, wenigstens einen an der vertikalen Führungsstruktur entsprechend der unteren Auftragswalze linear bewegbar angeordneten weiteren Vertikalschlitten, an dem die Schöpfwalze um ihre Längsmittelachse drehbar gelagert ist, und wenigstens eine mit dem weiteren Vertikalschlitten verbundene weitere vertikale Verstelleinheit, mit der eine Stellung des weiteren Vertikalschlittens relativ zu dem die untere Auftragswalze haltenden Vertikalschlitten variierbar ist, aufweist, wobei die weitere vertikale Verstelleinheit die beiden Vertikalschlitten miteinander verbindet. Hiernach kann mit der Anlage das Substrat beidseitig beschichtet werden. Die Schöpfwalze kann aus Edelstahl oder Normalstahl bestehen. Sie kann eine Keramikbeschichtung aufweisen. Des Weiteren kann sie als Rasterwalze ausgebildet sein. Insbesondere kann die Schöpfwalze entsprechend der oben genannten Dosierwalze ausgebildet sein. Zudem kann die Oberfläche der Schöpfwalze chromatiert sein. Mit der vertikalen Verstelleinheit kann Eintauchtiefe der unteren Auftragswalze in das Substrat eingestellt werden. Mit der weiteren vertikalen Verstelleinheit kann die Anstellkraft zwischen der unteren Auftragswalze und der Schöpfwalze eingestellt werden. Die untere Auftragswalze und die Schöpfwalze und die ihnen jeweilig zugeordneten vertikalen Verstelleinheiten sind in Reihe angeordnet, so dass ein zwischen diesen beiden Walzen eingestellter Linienkontakt beim vertikalen Verfahren der unteren Auftragswalze unverändert bleibt. Beim Schöpfen des Beschichtungsmediums mittels der Schöpfwalze aus der Wanne müssen für einen Wechsel von der mitläufigen zur gegenläufigen Fahrweise der unteren Auftragswalze lediglich die Drehrichtungen der unteren Auftragswalze und der Schöpfwalze umgekehrt werden. Die weitere vertikale Verstelleinheit kann manuell betätigbar sein oder wenigstens einen elektrisch ansteuerbaren Antrieb aufweisen. Die vertikale Führungsstruktur kann wenigstens eine gerade Führungsschiene aufweisen, an welcher der weitere Vertikalschlitten längsbeweglich geführt ist. Der weitere Vertikalschlitten kann über Gleitkörper oder Rollen bewegbar an der vertikalen Führungsstruktur geführt sein.

Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung ist die Versteileinrichtung derart ausgebildet, dass mit ihr die Stellung der oberen Auftragswalze relativ zu der unteren Auftragswalze in vertikaler Richtung und quer zu einer Längsmittelachse der oberen Auftragswalze variierbar ist. Hierdurch kann die Anstellkraft der oberen Auftragswalze gegen das Substrat eingestellt werden. Hierzu kann die Versteileinrichtung wenigstens eine manuell betätigbare oder elektrisch ansteuerbare Antriebseinheit aufweisen.

Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung umfasst die Anlage wenigstens eine feststehende Basisstruktur, an der wenigstens eine oberhalb des Substrats angeordnete obere Tragstruktur, welche die obere Auftragswalze trägt, und wenigstens eine unterhalb des Substrats angeordnete untere Tragstruktur, welche die untere Auftragswalze trägt, bewegbar angeordnet sind, wobei die obere Tragstruktur und/oder die untere Tragstruktur mittels wenigstens einer gemeinsamen Antriebseinrichtung oder mittels jeweils einer eigenen Antriebseinrichtung um jeweils eine horizontale Achse schwenkbeweglich oder in vertikaler Richtung linear beweglich an der Basisstruktur angeordnet sind bzw. ist. Durch diese Bewegbarkeit der Tragstruktur bzw. Tragstrukturen können die obere Auftragswalze und/oder die untere Auftragswalze vertikal in das Substrat eingetaucht werden. Die Versteileinrichtung ist an der oberen Tragstruktur und die weitere Versteileinrichtung ist an der unteren Tragstruktur angeordnet. Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung umfasst die Anlage wenigstens einen fahrbaren Walzentransportwagen, der wenigstens eine Aufnahme für die obere Auftragswalze und wenigstens eine Aufnahme für die untere Auftragswalze aufweist, wobei die obere Auftragswalze und die untere Auftragswalze durch Bewegungen der oberen Tragstruktur bzw. der unteren Tragstruktur in den jeweiligen Aufnahmen des Walzentransportwagen ablegbar sind. Hierdurch können ein vereinfachter Walzenwechsel und eine vereinfachte Wartung der Auftragswalzen außerhalb der Anlage erfolgen. Mittels des mit der gemeinsamen Antriebseinheit bzw. den jeweiligen eigenen Antriebseinheiten erzeugbaren Hubs der oberen Tragstruktur und der unteren Tragstruktur können die Auftragswalzen angehoben und in den jeweiligen Aufnahmen des Walzentransportwagens abgelegt werden. Hierzu ist somit kein Kran oder dergleichen erforderlich. Dies geht mit einer verbesserten Handhabbarkeit der Anlage und einer verbesserten Zugänglichkeit von Komponenten der Anlage zu Wartungszwecken und einem schnelleren Wechsel von Auftragswalzen einher. Sind die Auftragswalzen in den jeweiligen Aufnahmen des Rollentransportwagens abgelegt, kann der Walzentransportwagen aus der Anlage herausgefahren werden.

Im Folgenden wird die Erfindung unter Bezugnahme auf die anliegenden Figuren anhand von bevorzugten Ausführungsformen beispielhaft erläutert, wobei die nachfolgend dargestellten Merkmale sowohl jeweils für sich genommen als auch in verschiedener Kombination miteinander einen Aspekt der Erfindung darstellen können. Es zeigen:

Figur 1 : eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispiels für eine erfindungsgemäße Anlage in einem ersten Anlagenzustand;

Figur 2 eine schematische Darstellung der in Figur 1 gezeigten Anlage in einem weiteren Anlagenzustand;

Figur 3 eine schematische Detaildarstellung der in den Figuren 1 und 2 gezeigten Anlage; Figur 4: eine schematische Detaildarstellung eines weiteren Ausführungsbeispiels für eine erfindungsgemäße Anlage;

Figur 5: eine schematische Detaildarstellung der in Figur 4 gezeigten Anlage bei mitläufiger Fahrweise der oberen Auftragswalze;

Figur 6: eine schematische Detaildarstellung der in Figur 4 gezeigten Anlage bei gegenläufiger Fahrweise der oberen Auftragswalze; Figur 7: eine schematische Detaildarstellung der in Figur 4 gezeigten Anlage bei mitläufiger Fahrweise der unteren Auftragswalze;

Figur 8: eine schematische Detaildarstellung der in Figur 4 gezeigten Anlage bei gegenläufiger Fahrweise der unteren Auftragswalze;

Figur 9: eine schematische Darstellung eines weiteren Ausführungsbeispiels für eine erfindungsgemäße Anlage; und

Figur 10: eine schematische Darstellung eines weiteren Ausführungsbeispiels für eine erfindungsgemäße Anlage.

In den Figuren sind gleiche bzw. funktionsgleiche Bauteile mit denselben Bezugszeichen versehen. Figur 1 zeigt eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispiels für eine erfindungsgemäße Anlage 1 zum beidseitigen Beschichten eines bandförmigen Substrats 2. Die Anlage 1 umfasst eine oberhalb des Substrats 2 angeordnete obere Auftragswalze 3 und eine unterhalb des Substrats 2 angeordnete untere Auftragswalze 4. Des Weiteren umfasst die Anlage 1 eine mit der oberen Auftragswalze 3 verbundene Versteileinrichtung 5, mit der eine Stellung der oberen Auftragswalze 3 entsprechend den gezeigten Doppelpfeilen 6 und 7 relativ zu der unteren Auftragswalze 4 sowohl in vertikaler als auch unabhängig davon in horizontaler Richtung und quer zu einer Langsmittelachse 8 der oberen Auftragswalze 3 variierbar ist. Zudem umfasst die Anlage 1 eine mit der unteren Auftragswalze 4 verbundene weitere Versteileinrichtung 9, mit der eine Stellung der unteren Auftragswalze 4 relativ zu der oberen Auftragswalze 3 entsprechend dem gezeigten Doppelpfeil 10 in vertikaler Richtung und quer zu einer Längsmittelachse 1 1 der unteren Auftragswalze 4 variierbar ist.

Die Versteileinrichtung 5 umfasst eine Führungsstruktur 12, einen an der Führungsstruktur 12 entsprechend der oberen Auftragswalze 3 linear bewegbar angeordneten Schlitten 13, an dem die obere Auftragswalze 3 um ihre Längsmittelachse 8 drehbar gelagert ist, und eine in Figur 3 gezeigte, mit dem Schlitten 13 verbundene Verstelleinheit, mit der eine Stellung des Schlittens 13 entsprechend dem Doppelpfeil 7 relativ zu der Führungsstruktur 12 in horizontaler Richtung variierbar ist.

Die weitere Versteileinrichtung 9 umfasst eine vertikale Führungsstruktur 14, einen an der vertikalen Führungsstruktur 14 entsprechend der unteren Auftragswalze 4 linear bewegbar angeordneten Vertikalschlitten 15, an dem die untere Auftragswalze 4 um ihre Längsmittelachse 1 1 drehbar gelagert ist, und eine mit dem Vertikalschlitten 15 verbundene, nicht gezeigte vertikale Verstelleinheit, mit der eine Stellung des Vertikalschlittens 15 entsprechend dem gezeigten Doppelpfeil 10 relativ zu der Führungsstruktur 14 in vertikaler Richtung variierbar ist.

Die Anlage 1 umfasst des Weiteren zwei auf gegenüberliegenden Seiten der oberen Auftragswalze 3, jeweils zumindest teilweise seitlich und höhenversetzt zu der oberen Auftragswalze 3 und in einem festen Abstand zueinander angeordnete Dosierwalzen 16 und 17, einen an der Führungsstruktur 12 entsprechend der oberen Auftragswalze 3 linear bewegbar angeordneten weiteren Schlitten 18, an dem die Dosierwalzen 16 und 17 um ihre jeweilige Längsmittelachse 19 bzw. 20 drehbar gelagert sind, und eine mit dem weiteren Schlitten 18 verbundene, in Figur 3 gezeigte weitere Verstelleinheit, mit der eine Stellung des weiteren Schlittens 18 relativ zu dem die obere Auftragswalze 3 haltenden Schlitten 13 in horizontaler Richtung variierbar ist. Die weitere Verstelleinheit verbindet die beiden Schlitten 13 und 18 miteinander. In Figur 1 wird die links dargestellte Dosierwalze 16 zur Einfärbung der oberen Auftragswalze 3 eingesetzt, während sich die rechts dargestellte Dosierwalze 17 in einem größeren Abstand zu der oberen Auftragswalze 3 befindet. In einen zwischen der Dosierwalze 16 und der oberen Auftragswalze 3 vorhandenen Walzspalt ist ein Beschichtungsmedium 21 mit einem nicht näher dargestellten Zuführsystem eingeleitet worden.

Die Anlage 1 umfasst zudem eine zumindest teilweise unterhalb der unteren Auftragswalze 4 angeordnete Schöpfwalze 22, eine zumindest teilweise unterhalb der Schöpfwalze 22 angeordnete Wanne 23 zur Aufnahme eines Beschichtungsmediums 24, in welche die Schöpfwalze 22 teilweise eintaucht, einen an der vertikalen Führungsstruktur 14 entsprechend der unteren Auftragswalze 4 linear bewegbar angeordneten weiteren Vertikalschlitten 25, an dem die Schöpfwalze 22 um ihre Längsmittelachse 26 drehbar gelagert ist, und eine mit dem weiteren Vertikalschlitten 25 verbundene, nicht gezeigte weitere vertikale Verstelleinheit, mit der eine Stellung des weiteren Vertikalschlittens 25 relativ zu dem die untere Auftragswalze 4 haltenden Vertikalschlitten 15 variierbar ist. Die weitere vertikale Verstelleinheit verbindet die beiden Vertikalschlitten 15 und 25 miteinander. Die vertikale Führungsstruktur 14 bildet eine feststehende Basisstruktur 55 aus, an der die Führungsstruktur 12, die eine oberhalb des Substrats 2 angeordnete obere Tragstruktur 56, welche die obere Auftragswalze 3 trägt, ausbildet, entsprechend dem Doppelpfeil 27 in vertikaler Richtung linear bewegbar angeordnet ist. Der Vertikalschlitten 15 bildet eine unterhalb des Substrats 2 angeordnete untere Tragstruktur 57 aus, welche die untere Auftragswalze 4 trägt. Die obere Tragstruktur 56 und die untere Tragstruktur 57 sind somit mittels wenigstens einer nicht gezeigten gemeinsamen Antriebsein chtung oder mittels jeweils einer nicht gezeigten eigenen Antriebseinrichtung in vertikaler Richtung linear beweglich an der Basisstruktur 55 bzw. vertikalen Führungsstruktur 14 angeordnet. Die Anlage 1 umfasst des Weiteren eine einlaufseitig angeordnete Walzeinheit 28 mit einer unterhalb des Substrats 2 angeordneten Tragwalze 29, die bezüglich einer Förderrichtung des Substrats 2 durch die Anlage 1 der unteren Auftragswalze 4 vorgeschaltet ist. Zudem umfasst die Walzeinheit 28 eine oberhalb des Substrats 2 angeordnete Anpresswalze 30, wobei zwischen der Tragwalze 29 und der Anpresswalze 30 ein Walzspalt ausgebildet ist, durch den das Substrat 2 förderbar ist. Ferner umfasst die Walzeinheit 28 eine feststehende Basiseinheit 31 , an der die Tragwalze 29 um ihre Längsmittelachse 32 drehbar angeordnet ist, eine oberhalb des Substrats 2 und entsprechend dem Doppelpfeil 33 in vertikaler Richtung linear bewegbar an der Basiseinheit 31 angeordnete Halteeinheit 34, an der die Anpresswalze 30 um ihre Längsmittelachse 35 drehbar angeordnet ist, und eine an der Basiseinheit 31 und der Halteeinheit 34 angreifende, nicht gezeigte Antriebseinheit zum Bewegen der Halteeinheit 34.

In dem in Figur 1 gezeigten Anlagenzustand befindet sich die obere Auftragswalze 3 vertikal über der unteren Auftragswalze 4, wodurch eine maximale Linienlast erzeugt wird.

Figur 2 zeigt eine schematische Darstellung der in Figur 1 gezeigten Anlage 1 in einem weiteren Anlagenzustand. Dieser Anlagenzustand geht aus dem in Figur 1 gezeigten Anlagenzustand dadurch hervor, dass der Schlitten 13 entsprechend dem Doppelpfeil 7 in eine zwischen der unteren Auftragswalze 4 und der Tragwalze 29 liegende Mittelposition horizontal verfahren worden ist. Hierdurch wird eine minimale Linienlast erzeugt. Figur 3 zeigt eine schematische Detaildarstellung der in den Figuren 1 und 2 gezeigten Anlage 1 . Es ist die Führungsstruktur 12 zu sehen, die eine Führungsschiene 36 aufweist, an welcher der Schlitten 13 entsprechend dem Doppelpfeil 7 in horizontaler Richtung linear bewegbar angeordnet ist. Die Versteileinrichtung 5 umfasst eine mit dem Schlitten 13 verbundene Verstelleinheit 37, mit der die Stellung des Schlittens 13 entsprechend dem Doppelpfeil 7 relativ zu der Führungsschiene 36 bzw. der Führungsstruktur 12 in horizontaler Richtung variierbar ist. Die Verstelleinheit 37 ist als doppeltwirkender Hydraulikzylinder ausgebildet, der einerseits an der Führungsschiene 36 und andererseits an dem Schlitten 13 angreift. Des Weiteren ist eine weitere Verstelleinheit 38 zu sehen, über die der Schlitten 13 mit dem weiteren Schlitten 18 verbunden ist, um die Stellung des weiteren Schlittens 18 in horizontaler Richtung relativ zu dem Schlitten 13 variieren zu können. Hierzu ist der weitere Schlitten 18 an einer weiteren Führungsschiene 39 der Führungsstruktur 12 linear bewegbar angeordnet. Auch die weitere Verstelleinheit 38 ist als doppeltwirkender Hydraulikzylinder ausgebildet.

Figur 4 zeigt eine schematische Detaildarstellung eines weiteren Ausführungsbeispiels für eine erfindungsgemäße Anlage 1 . Diese Anlage 1 unterscheidet sich dadurch von dem in den Figuren 1 bis 3 gezeigten Ausführungsbeispiel, dass lediglich eine Dosierwalze 16 vorhanden ist und dass der weitere Schlitten 18 entsprechend reduziert ausgebildet ist. Im Übrigen ist die Anlage 1 entsprechend den Figuren 1 bis 3 ausgebildet, weshalb hier zur Vermeidung von Wiederholungen auf die obige Beschreibung verwiesen wird.

Figur 5 zeigt eine schematische Detaildarstellung der in Figur 4 gezeigten Anlage 1 bei mitläufiger Fahrweise der oberen Auftragswalze 3. Die Förderrichtung des Substrats 2 ist durch den Pfeil 40 angedeutet. Die Drehrichtungen der oberen Auftragswalze 3 und der Dosierwalze 16 sind durch die Pfeile 41 bzw. 42 angedeutet. Figur 6 zeigt eine schematische Detaildarstellung der in Figur 4 gezeigten Anlage 1 bei gegenläufiger Fahrweise der oberen Auftragswalze 3. Hierzu muss die Dosierwalze 16 auf der gegenüberliegenden Seite der oberen Auftragswalze 3 angeordnet sein, wie es in Figur 6 gezeigt ist. Ein solcher Wechsel der Anordnung der Dosierwalze 16 ist bei dem in den Figuren 1 bis 3 gezeigten Ausführungsbeispiel nicht erforderlich, so dass schneller zwischen einer mitläufigen Fahrweise und einer gegenläufigen Fahrweise der oberen Auftragswalze 3 umgeschaltet werden kann.

Figur 7 zeigt eine schematische Detaildarstellung der in Figur 4 gezeigten Anlage 1 bei mitläufiger Fahrweise der unteren Auftragswalze 4. Die Förderrichtung des Substrats 2 ist durch den Pfeil 40 angedeutet. Die Drehrichtungen der unteren Auftragswalze 4 und der Schöpfwalze 22 sind durch die Pfeile 43 bzw. 44 angedeutet.

Figur 8 zeigt eine schematische Detaildarstellung der in Figur 4 gezeigten Anlage 1 bei gegenläufiger Fahrweise der unteren Auftragswalze 4. Die Anordnung der Schöpfwalze 22 zur unteren Auftragswalze 4 muss hierbei nicht entsprechend der in den Figuren 5 und 6 gezeigten Dosierwalze verändert werden.

Figur 9 zeigt eine schematische Darstellung eines weiteren Ausführungsbeispiels für eine erfindungsgemäße Anlage 1 . Diese Anlage 1 unterscheidet sich dadurch von dem in den Figuren 1 bis 3 gezeigten Ausführungsbeispiel, dass die durch Führungsstruktur 12 gebildete obere Tragstruktur 56 und die unterhalb des Substrats 2 angeordnete untere Tragstruktur 45, welche die untere Auftragswalze 4 trägt, um jeweils eine horizontale Achse 46 bzw. 47 entsprechend den Doppelpfeilen 48 bzw. 49 schwenkbeweglich an der durch die vertikale Führungsstruktur 14 ausgebildeten Basisstruktur 55 angeordnet sind. Zudem ist die Halteeinheit 34 entsprechend dem Doppelpfeil 50 um eine horizontale Achse 51 schwenkbeweglich an der feststehenden Basiseinheit 31 angeordnet. Figur 10 zeigt eine schematische Darstellung eines weiteren Ausführungsbeispiels für eine erfindungsgemäße Anlage 1 . Die Anlage 1 unterscheidet sich dadurch von dem in Figur 9 gezeigten Ausführungsbeispiel, dass sie einen fahrbaren Walzentransportwagen 52 aufweist, der eine Aufnahme 53 für die obere Auftragswalze 3 und eine Aufnahme 54 für die untere Auftragswalze 4 aufweist. Die obere Auftragswalze 3 und die untere Auftragswalze 4 sind durch Bewegungen der durch die Führungsstruktur 12 gebildeten oberen Tragstruktur 56 bzw. der unteren Tragstruktur 45 in den jeweiligen Aufnahmen 53 bzw. 54 des Walzentransportwagen 52 ablegbar, wie es in Figur 10 gezeigt ist. Der Walzentransportwagen 52 kann zum Verfahren mehrere nicht gezeigte Rollen aufweisen. Im Übrigen entspricht die Anlage 1 dem in Figur 9 gezeigten Ausführungsbeispiel, weshalb hier zur Vermeidung von Wiederholungen auf die obige Beschreibung zu Figur 9 verwiesen wird.

Die Anlage 1 gemäß den Figuren 1 bis 10 kann eine nicht gezeigte elektronische Steuer- und/oder Regeleinheit aufweisen, die signaltechnisch mit den Versteileinrichtungen, Verstelleinheiten, Antriebseinheiten bzw. Antriebseinrichtungen verbindbar ist, um diese elektrisch anzusteuern. Hierzu kann die Steuer- und/oder Regeleinheit signaltechnisch mit einer nicht gezeigten Anlagensensorik verbunden sein, mit der ein aktueller Zustand der Anlage bzw. momentane Anstellkräfte und Positionen von Anlagenbauteilen erfassbar sind. Die von der Anlagensensorik erzeugten Signale können von der Steuer- und/oder Regeleinheit bei der Ansteuerung der aktiven Anlagenkomponenten berücksichtigt werden.

Bezugszeichenliste

1 Anlage

2 Substrat

3 obere Auftragswalze

4 untere Auftragswalze

5 Versteileinrichtung

6 Doppelpfeil

7 Doppelpfeil

8 Längsmittelachse

9 weitere Versteileinrichtung

10 Doppelpfeil

1 1 Längsmittelachse

12 Führungsstruktur

13 Schlitten

14 vertikale Führungsstruktur

15 Vertikalschlitten

16 Dosierwalze

17 Dosierwalze

18 weiterer Schlitten

19 Längsmittelachse

20 Längsmittelachse

21 Beschichtungsmedium

22 Schöpfwalze

23 Wanne

24 Beschichtungsmedium

25 weiterer Vertikalschlitten

26 Längsmittelachse

27 Doppelpfeil

28 Walzeinheit

29 Tragwalze 30 Anpresswalze

31 Basiseinheit

32 Längsmittelachse

33 Doppelpfeil

34 Halteeinheit

35 Längsmittelachse

36 Führungsschiene

37 Verstelleinheit

38 weitere Verstelleinheit

39 Führungsschiene

40 Pfeil

41 Pfeil

42 Pfeil

43 Pfeil

44 Pfeil

45 untere Tragstruktur

46 Achse

47 Achse

48 Doppelpfeil

49 Doppelpfeil

50 Doppelpfeil

51 Achse

52 Walzentransportwagen

53 Aufnahme

54 Aufnahme

55 Basisstruktur

56 obere Tragstruktur

57 untere Tragstruktur