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Title:
COOLING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURE THEREOF
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2009/075320
Kind Code:
A1
Abstract:
The object is to provide a cooling device having a low thermal contact resistance between the cooling device and other material at a low cost. The cooling device is characterized by comprising a cooling body and a composite layer which is formed on at least one surface of the cooling body and which comprises a complex of a fine whisker-like structure and a metal, wherein one end of the fine whisker-like structure is exposed on the surface of the metal in the composite layer. The fine whisker-like structure is preferably a carbonaceous material such as a carbon nanotube, a carbon nanofiber or a carbon fiber.

Inventors:
KAWAI CHIHIRO (JP)
Application Number:
PCT/JP2008/072493
Publication Date:
June 18, 2009
Filing Date:
December 11, 2008
Export Citation:
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Assignee:
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES (JP)
KAWAI CHIHIRO (JP)
International Classes:
F28D15/02; C23C26/00; C25D5/00; C25D7/04; H01L23/36; H01L23/427
Foreign References:
JP2003046038A2003-02-14
JPH09126670A1997-05-16
JP2006152372A2006-06-15
JP2001322139A2001-11-20
JP2004156074A2004-06-03
JP2002146672A2002-05-22
JP2007162079A2007-06-28
Attorney, Agent or Firm:
SAKAI, Masami et al. (13-5 Akasaka 4-chom, Mato-ku Tokyo 52, JP)
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Claims:
 冷却体と、該冷却体の少なくとも相手材と接触する一以上の接触面に形成された、微細髭状構造体と金属の複合体を有する複合層とを有し、該複合層において微細髭状構造体の一方の端部が表面に露出していることを特徴とする冷却デバイス。
 前記冷却体がヒートパイプ及び/又はヒートシンクであることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の冷却デバイス。
 前記微細髭状構造体が炭素系材料であることを特徴とする請求の範囲第1項又は2項に記載の冷却デバイス。
 前記微細髭状構造体がカーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー又はカーボンファイバーであることを特徴とする請求の範囲第3項に記載の冷却デバイス。
 前記微細髭状構造体は、長さ1μm以上、かつアスペクト比が10以上であることを特徴とするが請求の範囲第1~4項のいずれか一に記載の冷却デバイス。
 前記微細髭状構造体が前記冷却体に対してほぼ垂直に配向していることを特徴とする請求の範囲第1~5項のいずれか一に記載の冷却デバイス。
 少なくとも、冷却体の表面にめっき法により微細髭状構造体と金属の複合体を有する複合層を形成するめっき工程を有することを特徴とする冷却デバイスの製造方法。
 前記めっき工程において、前記冷却体に対して垂直方向に磁界を印加することを特徴とする請求の範囲第7項に記載の冷却デバイスの製造方法。
 前記めっき工程後に、前記金属のみを溶出させて、前記微細髭状構造体を前記複合層表面に露出させる露出工程を有することを特徴とする請求の範囲第7項又は8項に記載の冷却デバイスの製造方法。
 前記微細髭状構造体が炭素系材料であることを特徴とする請求の範囲第7~9項のいずれか一に記載の冷却デバイスの製造方法。
 前記微細髭状構造体がカーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー又はカーボンファイバーであることを特徴とする請求の範囲第7~10項のいずれか一に記載の冷却デバイスの製造方法。
Description:
冷却デバイスとその製造方法

 本発明は、効率よく熱を輸送できる冷却 バイスとその製造方法に関する。

 パーソナルコンピュータの高機能化に伴 、CPUの発熱量が飛躍的に増大しており、放 デバイスの高性能化が求められている。放 手法としてはヒートパイプを用いる方法が 果が高い。一般的なヒートパイプは、両端 封止した金属製の中空パイプで、内部に冷 となる液体が予定の量含まれている。ヒー パイプの内壁には、通称、ウィックと呼ば る多孔質層が形成されている。

 ヒートパイプの一端を高温部、もう一端 低温部に接触させると、高温部では液体が 発してガス化し、ガスは低温部に移動する 低温部では、ガスが凝縮して液体に変化し この液体は毛細管力により多孔質層を移動 て高温部に環流される。高温部で液体が蒸 する時に熱源から潜熱を奪い、低温部で凝 する時に潜熱を奪われて冷却が進行する。

 例えば、Cu製のヒートパイプを実際に使 する際には、ヒートパイプで輸送した熱を より面積の大きいCu製のヒートシンク材に伝 熱させなければならない。この際には、ネジ 止め等で両者を圧着させる、または、はんだ などを用いて接触させることになる(特許文 1等参照)。

 しかし、圧着させた場合には両者の部材 表面に存在する凹凸のために、接触熱抵抗 大きくなり、これが熱輸送の律速となって まう。また、後者の場合は熱抵抗は低いが はんだ付け工程が必要でありコストが上が 。また、はんだは相手材によっては、例え セラミックス材など、均一に広がらないた に不良品の発生につながるという問題もあ 。

特開平9-126670号公報

 本発明は、上記問題点に鑑みて、相手材 の接触熱抵抗が小さい冷却デバイスを低コ トで提供することを目的とする。

 本発明者は上記課題を解決すべく鋭意検 を重ねた結果、ヒートパイプ、ヒートシン 等の冷却体の表面に、微細な髭状構造体と 属との複合体からなる複合層を設けること 有効であることを見出した。該複合層は、 なくとも冷却体の相手部材と接触する表面 設けてあればよい。これにより、髭状構造 が相手材表面の微細な凹凸に隙間なく接触 、接触熱抵抗を小さくすることができる。 に、髭状構造体層をめっき法により設ける とにより、低コストで接触熱抵抗の低い冷 デバイスを製造することができることを見 した。

 本発明に係る冷却デバイスは、ヒートパイ 、ヒートシンク等の冷却体の表面に微細な 状構造体を露出させることにより、相手材 種類を選ばず、単に接触させるだけで低い 抵抗にすることを可能とした。すなわち、 下の特徴を有する。
(1)本発明に係る冷却デバイスは、冷却体と、 少なくとも該冷却体の一面に形成された、微 細髭状構造体と金属の複合体を有する複合層 とを有し、該複合層において微細髭状構造体 の一方の端部が表面に露出していることを特 徴とする。
(2)上記(1)に記載の冷却デバイスは、前記冷却 体がヒートパイプ又はヒートシンクであるこ とを特徴とする。
(3)上記(1)又は(2)に記載の冷却デバイスは、前 記微細髭状構造体が炭素系材料であることを 特徴とする。
(4)上記(3)に記載の冷却デバイスは、前記微細 髭状構造体がカーボンナノチューブ、カーボ ンナノファイバー又はカーボンファイバーで あることを特徴とする。
(5)上記(1)~(4)の冷却デバイスは、前記微細髭 構造体が、長さ1μm以上、かつアスペクト比 10以上であることを特徴とする。
(6)上記(1)~(5)のいずれか一に記載の冷却デバ スは、前記微細髭状構造体が前記冷却体に してほぼ垂直に配向していることを特徴と る。

(7)本発明に係る冷却デバイスの製造方法は、 少なくとも、冷却体の表面にめっき法により 微細髭状構造体と金属の複合体を有する複合 層を形成するめっき工程を有することを特徴 とする。
(8)上記(7)に記載の冷却デバイスの製造方法は 、前記めっき工程において、前記冷却体に対 して垂直方向に磁界を印加することを特徴と する。
(9)上記(7)又は(8)に記載の冷却デバイスの製造 方法は、前記めっき工程後に、前記金属のみ を溶出させて、前記微細髭状構造体を前記複 合層表面に露出させる露出工程を有すること を特徴とする。
(10)上記(7)~(9)のいずれか一に記載の冷却デバ スの製造方法は、前記微細髭状構造体が炭 系材料であることを特徴とする。
(11)上記(7)~(10)のいずれか一に記載の冷却デバ イスの製造方法は、前記微細髭状構造体がカ ーボンナノチューブ、カーボンナノファイバ ー又はカーボンファイバーであることを特徴 とする。

 本発明により、相手材との接触熱抵抗の小 い冷却デバイスが低コストで作製できる。
 本発明に係る冷却デバイスは、ノートパソ ンや携帯電話などのモバイル電子機器用ヒ トパイプ他、あらゆる発熱対策に適用でき 。また、ヒートパイプに限らず、半導体素 を直接貼り付けることにより、熱抵抗の小 いヒートシンクやヒートスプレッダとして 有効に動作することができる。

 以下に本発明の特徴をより詳細に説明する
 本発明に係る冷却デバイスは、冷却体と、 細髭状構造体及び金属の複合体からなる複 層とを有することを特徴とする。複合層は 少なくとも冷却体が相手材と接する表面部 に形成されていればよい。また、複合層に いて微細髭状構造体の一方の端部が表面に 出していることを特徴とする。これにより 冷却体表面に形成された複合層中の微細な 状構造体が発熱源等の相手材表面に存在す 微小な凹凸の隙間に、隙間なく侵入するよ にして接触することが可能となり、相手材 の間の接触熱抵抗を著しく低減できる効果 持ち、冷却効率の高い放熱装置等の冷却デ イスが実現できる。とりわけ、冷却体とし ヒートパイプ、ヒートシンクを用いると効 が高い。

 以下は、冷却体としてヒートパイプを用い 冷却デバイスを例に説明するが、実施例2の ように冷却体としてヒートシンクを用いても よいし、またその他の冷却体を用いても構わ ない。
 微細な髭状構造体(以下、単に髭状物質とも 記す)を有する複合層を形成する面は、その 途によってヒートパイプの片面のみの場合 両面の場合があるが、両面に形成し、一面 発熱源と接触させ、もう一面を放熱フィン 接触させて使用する場合が多い。

 複合層において、髭状物質はヒートパイ の表面に形成されており、例えば、この髭 物質は発熱源と接するように使用する。髭 物質の先端は発熱源表面の凹凸に侵入して 好な接触状態になることから、発熱源から 生する熱は効率的に髭状物質に伝えられて ートパイプへと伝わる。熱はヒートパイプ よってヒートパイプの長さまたは面方向に 送され、さらに裏面に形成された複合層の 状物質を介して最終的には放熱フィンへと わるのである。

 髭状物質は、ヒートパイプ表面に強固に 着していることが必要である。本発明者は CVD法等でカーボンナノチューブやカーボン ノファイバー等の髭状物質をコーティング るよりも、めっき法を用いることで冷却体 面との密着力の高い微細髭状物質を形成で ることを見出した。すなわち、本発明に係 冷却デバイスの製造方法は、冷却体の表面 、めっき法により微細髭状構造体と金属の 合材料からなる複合層を形成するめっき工 を有することを特徴とする。また、めっき 程後に、前記金属のみを溶出させて、前記 細髭状構造体を前記複合層表面に露出させ 露出工程を有することを特徴とする。なお めっきする金属としては、CuやCu合金等の熱 伝導率の高い材料が好ましい。

 例えば、ヒートパイプ(冷却体)表面に、 っき法によりカーボンナノチューブ(微細髭 構造体)とCu(金属)の複合めっきを施した後 Cuのみを溶出させることで、表面にはカーボ ンナノチューブが露出する。カーボンナノチ ューブは、露出する側と逆側の端部が、Cu等 金属めっき中に埋没しているため、ヒート イプ表面と金属を介して強固に結合してい 。複合するカーボンナノチューブの長さを くすると、溶出させるCuの厚さを大きくす ことができ、結果として表面に露出するカ ボンナノチューブの長さを大きくできる。 の結果、発熱源表面の面粗度が粗かったり また発熱源にうねりがあったりする場合で 、カーボンナノチューブの先端は発熱源表 に効率よく接触できるので熱抵抗が低下す のである。前記複合層を50μm以上侵食して、 前記微細髭状構造体(50μm以上)を露出させる 、どのような表面祖度を持つ相手材に対し も良好に接触するようになり、接触熱抵抗 低下するため好ましい。

 髭状物質は、長さ1μm以上、かつアスペク ト比が10以上であることが好ましい。長さが1 μmに満たない場合には、発熱体の面が荒れて いる、すなわち相手材表面の面粗度が低い場 合に、髭状物質が凹凸部の底部まで達しなく なる場合があり、その分接触熱抵抗が増大す る。アスペクト比が10に満たない場合は、髭 物質のしなり性が低く、相手材表面の微細 凹凸部に十分侵入しきれず、接触熱抵抗が 大する。髭状物質の長さが10μm以上である 、ほぼどのような発熱源にも対応できる。 た、髭状物質は、直径0.1μm以下であること 好ましい。直径が0.1μm以下の場合、髭状物 が相手材表面の微細な凹凸部の隙間に侵入 やすくなり、より接触熱抵抗を小さくする とができる。

 髭状物質としては、しなり性のよい炭素系 料が好ましい。特に、カーボンナノチュー 、カーボンナノファイバーが好ましい。通 のカーボンファイバーは直径が10μm以上あ ので効果は低下するが、それでも未処理Cu材 よりはよい。ZnOやTiO 2 のようなセラミックスウィスカーを髭状物質 として用いてもよいが、しなり性という点で は上記のカーボン系材料が好ましい。すなわ ち、カーボン系材料はしなり性が良いため、 相手材表面の微細な凹凸に良好に追従するこ とが可能であり、より接触熱抵抗を低くする ことができる。

 この時、髭状物質がヒートパイプ等の冷 体に対してほぼ垂直に形成されていること 好ましい。ほぼ垂直に成長していると、発 体の表面と接触する髭状物質の比率が高く り熱抵抗は低下する。髭状物質を垂直に形 するためには、めっき工程において、基板( 冷却体)に磁界等を印加する方法がある。基 的には、磁力線の方向とカーボンナノチュ ブの長さ方向が平行になるので、冷却体表 に対して垂直の磁界を印加することで、複 めっき層中で垂直に配向するカーボンナノ ューブが増大する。磁場の強度が高いほど 向しやすく、数テスラ~10テスラ程度の磁場 印加することが好ましい。

[実施例1]
(1)ヒートパイプ
 幅20×長さ150×厚さ0.7mmの市販のヒートパイ を用いた(古河電工製、ペラフレックス(登録 商標))。
(2)ヒートパイプの表面処理
<原理>
 図1及び2は、複合めっきの工程を模式的に す図である。
 容器に入れためっき浴に、基板となるヒー パイプまたは銅板と、別の電極を挿入し、 板上の基準配線が負極、別の電極が正極に るように、基板上の基準配線と別の電極と 直流電源につなぐ。めっき浴は、銅イオン 含む銅浴に髭状物質(カーボンナノチューブ またはカーボンナノファイバー)を混合した のを用いる。基準配線と別の電極との間に 圧をかけると、図中の矢印で示すように、 っき浴中の銅イオンは基板側に引かれて銅 して析出する。この際、髭状物質は、析出 てくる銅に取り込まれることで、複合めっ ができる。

<めっき工程>
 めっき液として、硫酸銅211g/L、硫酸60g/L、 酸50mg/Lの組成のものを用いた。
 カーボン系材料として、下記を用いた。
 [1]昭和電工製、気相法炭素繊維(カーボンナ ノファイバー)、商品名:VGCF(登録商標)
   平均直径150nm、平均長さ15μmであった。
 [2]GSIクレオス社製、カーボンナノチューブ 商品名:カルベール(登録商標)
   平均直径70nm、平均長さ20μmであった。

 めっき液中にカーボン系材料を各種体積含 率(表1参照)になるように分散させた。この 、界面活性剤(和光純薬工業株式会社、商品 名:PA1000)を、0.05g/Lになるように添加した。
 基板を電解脱脂、酸洗いした後、上記のめ き液に供して分散めっきを、基板の全面(表 裏面全面)に対して行った。めっき条件は、 極として含リン銅を用い、電流密度3.5A/dm 2 、電気量10C/cm 2 、液温28℃、スターラー撹拌(強)の条件とし 各種厚さ(表1参照)となるまでめっきした。 っき後は、水洗、超音波洗浄、アルコール 浄等を行った後に乾燥させた。

<露出工程>
 その後、複合めっきした基板を浸食液に浸 して複合めっき層中の銅のみを所定の厚さ で溶出させた。浸食液は、アンモニア水50m H 2 O 3 (3%)20~50ml、水0~50mlの混合液を用いた。

(3)ヒートパイプの熱輸送性能評価
 図3に示すように、供試ヒートパイプの一端 をセラミックヒーターによって加熱し,加熱 及び断熱部の周囲は断熱材で断熱した。外 に露出した放熱部をIRカメラで撮影するとと もに,8本のシース熱電対(0.1mmφ)によって温度 測定した。ヒートパイプを水平状態で幅20× 長さ20mmのセラミックヒーターで4.0Wの発熱量 加熱した。また、比較として、ヒートパイ の代わりに同形状の銅板も用いた。

 セラミックヒーターは、Cu製のホルダと断 性セラミックスの接合体からなる加熱ホル 内に収納し、加熱ホルダをヒートパイプに してネジ止めした。尚、ネジ止めは、ヒー パイプの肉厚を考慮し、ヒートパイプ表面 ら10μmの深さまでとした。
 一方、ヒートパイプの別の端部には、25×20m mサイズのアルミニウム製放熱フィンを取り け、同様にネジ止めした。放熱フィンの上 からファンによって空冷した。
 実験は,セラミックヒーターにステップ状に 入力を印加し,冷却部にファンで直接風を流 ,断熱部T3の蒸気温度を約50℃で一定になるよ うに温調して実施した。そして,定常状態を 認し,データを取得した。

 ヒートパイプの性能を示す熱抵抗値(R)は、
   R={T1-(T4+T5+T6+T7+T8)/5}/Q
で計算した。Qはインプットした熱量を示す
 表1に結果を示す。図4及び5は、表1の「評価 」を図化したものである。

 ヒートパイプ表面に髭状炭素材料を形成す ことにより、熱抵抗を低下させることがで た。めっき液中の髭状物質量が多くなるほ 熱抵抗は低下した。ヒーターからの熱が効 的に髭状物質に伝わり、および、ヒートパ プの熱が効率的に冷却フィンに伝わったた と考えられる。
 髭状物質の形成は、銅板に対しても有効で ることが分かった。

[実施例2]
(1)ヒートシンク
 図6に示すように、30×30mmの純Al製ヒートシ クを用いた。
(2)ヒートシンクの表面処理
<めっき工程>
 カーボンナノファイバーの長さを変化させ 点を除き、実施例1と同様にして、純Al製ヒ トシンクの30×30mmの面上に複合めっき層を 成した。その後、一部の試料を除き、実施 1と同様に露出工程を行った。

(3)ヒートシンクの熱抵抗の測定
 試料を、図7に示す熱抵抗測定装置にセット した。
 幅30×30mm、厚さが10mmのCu製ホルダの最上部 熱電対を埋め込んだ(温度:T1)Cuホルダの上に 試料(ヒートシンク)を設置した。一部の試 については、Cuホルダの表面に市販のシリコ ングリース(熱伝導率0.8W/mK)を厚さ100μmで塗布 した後に、試料を設置した。
 その後、ヒートシンクとCuホルダ間の距離 各種値になるように締めつけた。めっき層 形成しなかったヒートシンクについては、 離がゼロになるまで締めつけた。なお、ヒ トシンクとCuホルダ間の距離とは、Cuホルダ らヒートシンク表面に露出したカーボンナ ファイバーまでの距離では無く、ヒートシ ク基材(めっき層)までの距離を意味してい 。

 熱抵抗は、AlNヒータで加熱しながらヒー シンクのフィン部を冷却ファンで空冷した の、ヒートシンクの先端に埋め込んだ熱電 (温度:T2)との間の温度差から算出した。試 条件は、測定時間10分間、12Wの発熱量(Q)にて 行い、熱抵抗は下記の式で算出した。

    熱抵抗の測定(K/W)=(T1-T2)/Q
 表2に結果を示す。

 本発明に係るヒートシンクは熱抵抗が小さ った。
 本発明の試料の熱抵抗が、カーボンナノフ イバーの露出工程をしない場合でも比較例 試料より小さいのは、カーボンナノファイ ーを複合めっきした時点で、ファイバーの 端がめっき層から露出していたためと考え れる。また、露出工程を施すことでさらに 抵抗が低下したのは、露出するファイバー 長さが増大したことで相手材であるCuホル の表面に存在する形状のうねりにも十分追 できるようになり、より接触性が高くなっ ためと考えられる。

 また、グリースを併用することによって 抵抗がさらに低下した。これは、グリース Cuホルダ表面に存在する凹凸に隙間無く入 込んで接触熱抵抗が低下して熱を吸い上げ 効果が高くなり、その後吸い上げた熱が主 してファイバーを通してヒートシンクに伝 るためと考えられる。このように、本発明 係る冷却デバイスは、グリースのような熱 導性樹脂と併用すると放熱性能をさらに向 させることができる。

実施例において利用しためっき工程の 略を表す図である。 髭状物質の露出工程の様子の概略を表 図である。 実施例1において利用した評価装置の概 略を表す図である。 表1中の試料No.1及び2の評価をグラフに たものである。 表1中の試料No.3~6の評価をグラフにした ものである。 実施例2の試料(表面処理前)の概略を表 図である。 実施例2において利用した評価装置の概 略を表す図である。