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Title:
DEVICE FOR DISINFECTING AND/OR STERILISING A GAS FLOWING THROUGH A PIPE
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2022/029200
Kind Code:
A1
Abstract:
The present invention relates to a treatment device, for disinfecting and/or sterilising a gas flowing through a pipe, which treatment device (1) comprises: (i) at least one radiating source (2) for producing UV radiation, preferably UV-C radiation, (ii) a combination of mirrors (3), associated with the at least one radiating source (2) and intended to reflect the UV radiation. The combination of mirrors (3) comprises at least two side mirrors (4, 5) which are located on either side of a passageway (6) through which the gases to be treated flow. The at least two side mirrors (4, 5) are configured to reflect at least one portion of the UV radiation in the form of directional beams (F1, F2) of UV radiation which are directed between the at least two side mirrors (4, 5) and which pass through the passageway (6) in both directions. And at least one of the two side mirrors (4, 5) comprises a reflecting mirror (4) which is coupled to the at least one radiating source to produce a directional beam (F1, F2) of UV radiation, advantageously a parallel directional beam, which is oriented towards the other side mirror (4, 5).

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Inventors:
PERRAUD OLIVIER (FR)
Application Number:
PCT/EP2021/071812
Publication Date:
February 10, 2022
Filing Date:
August 04, 2021
Export Citation:
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Assignee:
INGENICA MAN HOLDING (FR)
International Classes:
A61L9/20; F24F8/22; G01J1/00; G02B5/08; G02B17/00; G02B26/00
Domestic Patent References:
WO2019045778A12019-03-07
WO1997007831A11997-03-06
Foreign References:
US6228327B12001-05-08
EP3378501A12018-09-26
DE102012022326A12014-05-15
Attorney, Agent or Firm:
LE CACHEUX, Samuel et al. (FR)
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Claims:
Revendications

[Revendication 1] Dispositif de traitement, pour la désinfection et/ou la stérilisation d’un gaz cheminant dans un conduit, lequel dispositif de traitement (1) comprend :

(i) au moins une source rayonnante (2), pour la production de rayonnements UV, de préférence des rayonnements IIV-C,

(ii) une combinaison de miroirs (3), associés à ladite au moins une source rayonnante (2) et destinés à réfléchir lesdits rayonnements UV, caractérisé en ce que ladite combinaison de miroirs (3) comprend au moins deux miroirs latéraux (4, 5, 45, 46, 55, 58) qui sont implantés de part et d’autre d’un passage (6) au travers duquel les gaz à traiter sont destinés à circuler, en ce que en ce que lesdits au moins deux miroirs latéraux (4, 5, 45, 46, 55, 58) sont configurés pour réfléchir au moins une partie desdits rayonnements UV sous la forme de faisceaux directionnels (F1 , F2, F3) de rayonnements UV qui sont dirigés entre lesdits au moins deux miroirs latéraux (4, 5, 45, 46, 55, 58) et qui traversent ledit passage (6) dans les deux sens, et en ce que l’un au moins desdits au moins deux miroirs latéraux (4, 5, 45, 46, 55, 58) consiste en un miroir réflecteur (4) qui est couplé à ladite au moins une source rayonnante pour produire un faisceau directionnel (F1 , F2) de rayonnements UV, avantageusement un faisceau directionnel parallèle, qui est orienté vers un autre miroir latéral (4, 5).

[Revendication 2] Dispositif de traitement, selon la revendication 1 , caractérisé en ce que ledit miroir réflecteur (4) présente un profilé concave, avantageusement à section parabolique ou semi-elliptique, lequel miroir réflecteur (4) comporte avantageusement :

- une ouverture longitudinale (41) orientée vers l’autre miroir latéral (4, 5), et/ou

- un foyer optique (42) confondu avec le centre (2’) de ladite au moins une source rayonnante (2). [Revendication 3] Dispositif de traitement, selon l’une quelconque des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que lesdits au moins deux miroirs latéraux (4, 5, 45, 46, 55, 58) sont configurés pour réfléchir au moins une partie desdits rayonnements UV sous la forme de deux faisceaux directionnels (F1 , F2) de rayonnements UV qui sont dirigés entre lesdits au moins deux miroirs latéraux (4, 5, 45, 46, 55, 58) et qui traversent chacun ledit passage (6) dans un sens, inverses l’un par rapport à l’autre.

[Revendication 4] Dispositif de traitement, selon la revendication 3, caractérisé en ce que ledit dispositif de traitement (1) comprend : - deux sources rayonnantes (2), implantées avantageusement sur un même plan optique (P), de part et d’autre dudit passage (6), et

- deux miroirs latéraux (4) consistant en des miroirs réflecteurs, avantageusement identiques l’un par rapport à l’autre, qui sont chacun couplés à l’une desdites sources rayonnantes (2) pour produire chacun un faisceau directionnel (F1 , F2) de rayonnements UV, avantageusement parallèle, qui est orienté vers l’autre miroir latéral, en sens inverses l’un par rapport à l’autre.

[Revendication 5] Dispositif de traitement, selon la revendication 3, caractérisé en ce que ledit dispositif de traitement (1) comprend :

- une source rayonnante (2),

- un premier miroir latéral (4) consistant en un miroir réflecteur (4) qui est couplé à ladite source rayonnante (2) pour produire un faisceau directionnel (F1) de rayonnements UV, avantageusement parallèle, qui est orienté vers un second miroir latéral (5), et

- ledit second miroir latéral (5) consistant en un miroir plan (5), implanté en regard dudit premier miroir latéral (4), pour générer un faisceau directionnel (F2) de rayonnements UV qui est réfléchi vers ledit premier miroir latéral (4), lequel miroir plan (5) définit un plan général qui est perpendiculaire à un plan optique (4’) dudit premier miroir latéral (4).

[Revendication 6] Dispositif de traitement, selon l’une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que ledit dispositif de traitement (1) comprend :

- une source rayonnante (2),

- un premier miroir latéral (4) consistant en un miroir réflecteur (4) qui est couplé à ladite source rayonnante (2) pour produire un faisceau directionnel (F1) de rayonnements UV, avantageusement parallèle, qui est orienté vers un second miroir latéral (5),

- au moins un premier miroir latéral additionnel (45, 46), avantageusement plan, implanté au moins d’un côté dudit premier miroir latéral (4), avantageusement de part et d’autre dudit premier miroir latéral (4), et

- ledit second miroir latéral (5), implanté en regard dudit premier miroir latéral (4), avantageusement un miroir réflecteur diédrique central, pour produire un faisceau directionnel (F2) de rayonnements UV, avantageusement parallèle, qui est orienté vers au moins un premier miroir latéral additionnel (45, 46),

- au moins un second miroir latéral additionnel (55, 58), avantageusement plan, implanté au moins d’un côté dudit second miroir latéral (5), avantageusement de part et d’autre dudit second miroir latéral (5), lequel second miroir latéral (5), lequel au moins un premier miroir latéral additionnel (45, 46) et lequel au moins un second miroir latéral additionnel (55, 58) sont configurés pour réfléchir au moins une partie desdits rayonnements UV sous la forme de faisceaux directionnels (F3) de rayonnements UV qui sont dirigés entre ledit au moins un premier miroir latéral additionnel (45, 46) et ledit au moins un second miroir latéral additionnel (55, 58) et qui traversent ledit passage (6) dans les deux sens, selon une trajectoire en zigzag.

[Revendication 7] Dispositif de traitement, selon la revendication 6, caractérisé en ce que ledit dispositif de traitement (1) comprend une combinaison de miroirs (3) choisie parmi :

(i) une première combinaison de miroirs (3) comprenant :

- ledit second miroir latéral (5), implanté en regard dudit premier miroir latéral (4), formant un miroir réflecteur diédrique central (5),

- des premiers miroirs latéraux additionnels (45) diédriques, implantés de part et d’autre dudit premier miroir latéral (4), et

- des seconds miroirs latéraux additionnels (55) diédriques, implantés de part et d’autre dudit second miroir latéral (5), ou

(ii) une seconde combinaison de miroirs (3) comprenant :

- ledit second miroir latéral (5), implanté en regard dudit premier miroir latéral (4), formant un miroir réflecteur diédrique central,

- des premiers miroirs latéraux additionnels (45) plans, implantés de part et d’autre dudit premier miroir latéral (4), et

- des seconds miroirs latéraux additionnels (58) plans, implantés de part et d’autre dudit second miroir latéral (5), ou

(iii) une troisième combinaison de miroirs comprenant :

- ledit second miroir latéral (5), implanté en regard dudit premier miroir latéral (4), formant un miroir réflecteur plan central,

- des premiers miroirs latéraux additionnels (45), plans ou diédriques, implantés d’un côté dudit premier miroir latéral (4), et

- des seconds miroirs latéraux additionnels (55, 58), plans ou diédriques, implantés d’un côté dudit second miroir latéral (4).

[Revendication 8] Dispositif de traitement, selon l’une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que ladite combinaison de miroirs (3) comprend encore au moins un miroir source (8), profilé concave à section en arc de cercle, enveloppant partiellement ladite source rayonnante (2), lequel miroir source (8) comporte :

- une ouverture longitudinale (81), orientée vers le miroir réflecteur (4), et

- un foyer optique (82), avantageusement confondu avec le centre (2’) de ladite source rayonnante (2) et avec le foyer optique (42) dudit miroir réflecteur (4).

[Revendication 9] Dispositif de traitement, selon l’une quelconque des revendications 1 à 8, caractérisé en ce que ladite au moins une source rayonnante (2), et le cas échéant ledit au moins un miroir source (8), sont implantés, au moins partiellement, dans l’encombrement du miroir réflecteur (4) défini par un plan passant par son ouverture longitudinale (41).

[Revendication 10] Dispositif de traitement, selon l’une quelconque des revendications 1 à 9, caractérisé en ce que ladite combinaison de miroirs (3) comprend encore au moins deux miroirs transversaux (9), avantageusement parallèles l’un par rapport à l’autre, encadrant les miroirs latéraux (4, 5).

[Revendication 11] Dispositif de traitement, selon l’une quelconque des revendications 1 à 10, caractérisé en ce que ladite au moins une source rayonnante (2) consiste en au moins une lampe UV-C tubulaire.

[Revendication 12] Dispositif de traitement, selon l’une quelconque des revendications 1 à 11 , caractérisé en ce que ledit dispositif de traitement (1) comprend des moyens capteurs (11) adaptés à capter l’intensité de rayonnement au sein du passage (6).

[Revendication 13] Dispositif de traitement, selon l’une quelconque des revendications 1 à 12, caractérisé en ce que ledit dispositif de traitement (1) comporte des moyens de commande (10), adaptés à la commande de la puissance de ladite au moins une source rayonnante (2), et, de préférence, lesquels moyens de commande (10) comportent au moins un module choisi parmi :

- en combinaison avec la revendication 9, un module de pilotage (101) adapté à ajuster la puissance de ladite au moins une source rayonnante (2) tenant compte d’une consigne d’intensité de rayonnement et de l’intensité de rayonnement collectée par les moyens capteurs (11),

- un module de pilotage (102) adapté à ajuster la puissance de ladite au moins une source rayonnante (2) tenant compte de la vitesse du flux des gaz au travers dudit passage (6).

[Revendication 14] Système d’aération, par exemple pour un local, un bâtiment ou un engin, comprenant au moins un conduit muni d’un dispositif de traitement (1) selon l’une quelconque des revendications 1 à 13, lequel dispositif de traitement (1) forme un tronçon dudit conduit ou est rapporté sur un tronçon dudit conduit.

Description:
Description

Dispositif pour la désinfection et/ou la stérilisation d’un gaz dans un conduit

Domaine technique de l'invention

La présente invention concerne le domaine technique de la stérilisation et/ou désinfection aux ultraviolets.

Elle concerne en particulier les dispositifs pour la désinfection et/ou la stérilisation d’un gaz dans un conduit, en particulier de l’air cheminant dans un conduit.

Etat de la technique

La ventilation d’un espace intérieur contribue au confort et à la qualité de l’air en évacuant les polluants (odeurs, humidité, produits de combustion des appareils de chauffage, microorganismes, etc.). Elle participe également à préserver cet espace intérieur en évitant les désordres dus à une aération insuffisante (condensation et développement de moisissures).

L’air circulant est toutefois susceptible de contenir des microorganismes pathogènes (virus, bactéries, etc.). Ces derniers sont alors susceptibles d’être transportés et disséminés dans l'air ambiant de l’espace intérieur via le système de ventilation.

Cette présence de microorganismes dangereux pour la santé, transportés par l’air circulant, peut nécessiter de prendre les mesures nécessaires pour éradiquer ces agents pathogènes.

Une des solutions consiste en la mise en œuvre d’un dispositif pour la désinfection et/ou la stérilisation de l’air circulant dans les conduits.

La désinfection / stérilisation par rayonnement ultraviolet (désigné UV ci-après) est une réponse à ce problème. La désactivation des microorganismes est obtenue en les soumettant à une dose suffisante de rayonnement UV de type germicide.

Cette dose correspond au cumul du rayonnement reçu par chaque microorganisme au cours de son séjour dans la zone d’irradiation. Cette dose est donc directement proportionnelle à l’intensité du rayonnement et au temps de séjour dans le champ du rayonnement.

Or le rayonnement des lampes est diffus, dans toutes les directions, générant ainsi un rayonnement dont l’intensité diminue très rapidement avec la distance.

De ce fait, les dispositifs habituellement utilisés nécessitent l’installation d’une grande quantité de lampes individuelles dans les conduits de manière à assurer une efficacité d’irradiation suffisante. Une telle configuration créée des pertes de charges, une grande complexité d’installation et de maintenance ; elle nécessite en outre d’étudier en détail chaque implantation.

Il existe ainsi un intérêt à disposer de dispositifs pour la désinfection et/ou la stérilisation d’un gaz cheminant dans un conduit, en particulier de l’air cheminant dans un conduit, dont l’efficacité est améliorée. Présentation de l'invention

Afin de remédier à l’inconvénient précité de l’état de la technique, la présente invention propose un dispositif de traitement pour la désinfection et/ou la stérilisation d’un gaz (air par exemple) cheminant dans un conduit.

Le dispositif de traitement selon l’invention comprend :

(i) au moins une source rayonnante (dite encore « source lumineuse »), pour la production de rayonnements UV, de préférence des rayonnements IIV-C,

(ii) une combinaison de miroirs, associés à ladite au moins une source rayonnante et destinés à réfléchir lesdits rayonnements UV.

La combinaison de miroirs comprend au moins deux miroirs latéraux qui sont implantés de part et d’autre d’un passage au travers duquel le gaz à traiter est destiné à circuler.

Lesdits au moins deux miroirs latéraux sont configurés pour réfléchir au moins une partie desdits rayonnements UV sous la forme de faisceaux directionnels de rayonnements UV qui sont dirigés entre lesdits au moins deux miroirs latéraux et qui traversent ledit passage dans les deux sens.

Et l’un au moins desdits deux miroirs latéraux consiste en un miroir réflecteur qui est couplé à ladite au moins une source rayonnante pour produire un faisceau directionnel de rayonnements UV, avantageusement un faisceau directionnel parallèle, qui est orienté vers un autre miroir latéral.

Dans la présente invention, le passage est ainsi traversé, entre autre, par une combinaison de faisceaux directionnels de rayonnements UV, avantageusement parallèles, offrant une efficacité optimale pour la désactivation des microorganismes cheminant au travers du passage.

Cette combinaison de miroirs offre un rendement optimal pour ladite au moins une source rayonnante.

Sans être limité par une quelconque théorie, ladite combinaison de miroirs offre un rendement optimal pour ladite au moins une source rayonnante, d’autant plus élevé en présence d’un rayonnement parallèle (avantageusement orienté perpendiculairement aux miroirs). En présence d’un tel rayonnement parallèle, le rayonnement diminue peu avec la distance parcourue, et ainsi il est avantageusement réfléchi alternativement d’un miroir vers l’autre, un grand nombre de fois, multipliant l’efficacité du rayonnement à chaque passage.

De préférence, le miroir réflecteur présente un profilé concave, avantageusement à section parabolique ou semi-elliptique.

Le miroir réflecteur comporte avantageusement :

- une ouverture longitudinale orientée vers l’autre miroir latéral, et/ou

- un foyer optique confondu avec le centre de ladite au moins une source rayonnante.

De manière générale, lesdits au moins deux miroirs latéraux sont configurés pour réfléchir au moins une partie desdits rayonnements UV sous la forme de deux faisceaux directionnels de rayonnements UV qui sont dirigés entre lesdits au moins deux miroirs latéraux et qui traversent chacun ledit passage dans un sens, inverses l’un par rapport à l’autre.

Selon un premier mode de réalisation préféré, le dispositif de traitement comprend :

- deux sources rayonnantes, implantées avantageusement sur un même plan optique, de part et d’autre dudit passage, et

- deux miroirs latéraux consistant en des miroirs réflecteurs, avantageusement identiques l’un par rapport à l’autre, qui sont chacun couplés à l’une desdites sources rayonnantes pour produire chacun un faisceau directionnel de rayonnements UV, avantageusement parallèle, qui est orienté vers l’autre miroir latéral, en sens inverse l’un par rapport à l’autre.

Selon un second mode de réalisation préféré, ledit dispositif de traitement comprend :

- une source rayonnante,

- un premier miroir latéral consistant en un miroir réflecteur qui est couplé à ladite source rayonnante pour produire un faisceau directionnel de rayonnements UV, avantageusement parallèle, qui est orienté vers un second miroir latéral, et

- ledit second miroir latéral consistant en un miroir plan, implanté en regard dudit premier miroir latéral, pour générer un faisceau directionnel de rayonnements UV qui est réfléchi vers ledit premier miroir latéral, lequel miroir plan définit un plan général qui est perpendiculaire à un plan optique dudit premier miroir latéral.

La largeur du miroir plan est avantageusement supérieure, ou égale, à la largeur de l’ouverture longitudinale du miroir réflecteur.

Encore selon un autre mode de réalisation, ledit dispositif de traitement comprend :

- une source rayonnante,

- un premier miroir latéral consistant en un miroir réflecteur qui est couplé à ladite source rayonnante pour produire un faisceau directionnel de rayonnements UV, avantageusement parallèle, qui est orienté vers un second miroir latéral,

- au moins un premier miroir latéral additionnel, implanté au moins d’un côté dudit premier miroir latéral, avantageusement d’un côté dudit premier miroir latéral ou de part et d’autre dudit premier miroir latéral, et

- ledit second miroir latéral, implanté en regard dudit premier miroir latéral, avantageusement un miroir réflecteur central plan (cas où ledit au moins un premier miroir latéral additionnel est implanté d’un côté dudit premier miroir latéral) ou un miroir réflecteur diédrique central (cas où ledit au moins un premier miroir latéral additionnel est implanté de part et d’autre dudit premier miroir latéral), pour produire un faisceau directionnel de rayonnements UV, avantageusement parallèle, qui est orienté vers au moins un premier miroir latéral additionnel, - au moins un second miroir latéral additionnel, implanté au moins d’un côté dudit second miroir latéral, avantageusement d’un côté dudit second miroir latéral ou de part et d’autre dudit second miroir latéral.

Ledit second miroir latéral, ledit au moins un premier miroir latéral additionnel et ledit au moins un second miroir latéral additionnel sont configurés pour réfléchir au moins une partie desdits rayonnements UV sous la forme de faisceaux directionnels de rayonnements UV qui sont dirigés entre ledit au moins un premier miroir latéral additionnel et ledit au moins un second miroir latéral additionnel et qui traversent ledit passage dans les deux sens, selon une trajectoire en zigzag.

Ledit au moins un premier miroir latéral additionnel et ledit au moins un second miroir latéral additionnel sont avantageusement des miroirs latéraux plans, de préférence sous la forme de miroirs simples parallèles ou sous la forme de miroirs diédriques.

De préférence, ledit dispositif de traitement comprend une combinaison de miroirs choisie parmi :

(i) une première combinaison de miroirs comprenant :

- ledit second miroir latéral, implanté en regard dudit premier miroir latéral, formant un miroir réflecteur diédrique central,

- des premiers miroirs latéraux additionnels diédriques, implantés de part et d’autre dudit premier miroir latéral, et

- des seconds miroirs latéraux additionnels diédriques, implantés de part et d’autre dudit second miroir latéral, ou

(ii) une seconde combinaison de miroirs comprenant :

- ledit second miroir latéral, implanté en regard dudit premier miroir latéral, formant un miroir réflecteur diédrique central,

- des premiers miroirs latéraux additionnels plans, implantés de part et d’autre dudit premier miroir latéral, et

- des seconds miroirs latéraux additionnels plans, implantés de part et d’autre dudit second miroir latéral, ou

(iii) une troisième combinaison de miroirs comprenant :

- ledit second miroir latéral, implanté en regard dudit premier miroir latéral, formant un miroir réflecteur plan central,

- des premiers miroirs latéraux additionnels, plans ou diédriques, implantés d’un côté dudit premier miroir latéral, et

- des seconds miroirs latéraux additionnels, plans ou diédriques, implantés d’un côté dudit second miroir latéral. D’autres caractéristiques non limitatives et avantageuses de la première combinaison conforme à l’invention, prises individuellement ou selon toutes les combinaisons techniquement possibles, sont les suivantes :

- les premiers miroirs réflecteurs diédriques et les seconds miroirs réflecteurs diédriques comprennent avantageusement plusieurs miroirs diédriques juxtaposés ;

- chaque miroir diédrique est agencé de sorte que son plan bissecteur s’étend parallèlement au plan optique du premier miroir latéral et au plan bissecteur des autres miroirs diédriques ; chaque réflecteur plan s’étend en plus parallèlement à l’axe longitudinal passant par le centre de la source rayonnante ;

- les premiers miroirs réflecteurs diédriques et les seconds miroirs réflecteurs diédriques sont identiques les uns par rapport aux autres ;

- les premiers miroirs réflecteurs diédriques et les seconds miroirs réflecteurs diédriques sont inversés de part et d’autre du passage ;

- deux miroirs diédriques attenants du second miroir latéral forment un couple de réflecteurs plans primaires, convexe, qui est implanté et centré en regard du miroir réflecteur primaire ;

- les premiers miroirs réflecteurs diédriques et/ou les seconds miroirs réflecteurs diédriques portent un réflecteur plan d’extrémité qui est prévu pour réfléchir le faisceau directionnel issu d’un réflecteur plan d’extrémité.

De manière générale, ladite combinaison de miroirs comprend encore au moins un miroir source, profilé concave à section en arc de cercle, enveloppant partiellement ladite source rayonnante.

Le miroir source comporte :

- une ouverture longitudinale, orientée vers le miroir réflecteur, et

- un foyer optique, avantageusement confondu avec le centre de ladite source rayonnante et avec le foyer optique dudit miroir réflecteur.

Le miroir source s’étend avantageusement sur un secteur angulaire d’au moins 170°, voire de 175°, voire encore de 180°.

Le miroir source s’étend avantageusement sur un secteur angulaire optique de la source rayonnante, avantageusement complémentaire à celui reçu dudit miroir réflecteur.

Ladite au moins une source rayonnante et ledit au moins un miroir source sont avantageusement implantés, au moins partiellement, dans l’encombrement du miroir réflecteur défini par un plan passant par son ouverture longitudinale.

D’autres caractéristiques non limitatives et avantageuses du produit/procédé conforme à l’invention, prises individuellement ou selon toutes les combinaisons techniquement possibles, sont les suivantes :

- ladite combinaison de miroirs comprend encore au moins deux miroirs transversaux, parallèles l’un par rapport à l’autre et encadrant les miroirs latéraux ; ces deux miroirs transversaux, en présence de lampes et de miroirs réflecteurs à génératrices rectilignes, offrent l’avantage de renvoyer le faisceau parallèle plan vers le centre du passage, évitant ainsi les déperditions dans le plan du rayonnement :

- ladite au moins une source rayonnante consiste en au moins une lampe IIV-C tubulaire ; de préférence, la surface de ladite au moins une source rayonnante est cylindrique et ledit au moins un miroir source est attenant de la surface de ladite au moins une source rayonnante ;

- ledit dispositif de traitement comprend avantageusement des moyens capteurs adaptés à capter l’intensité du rayonnement au sein du passage ;

- ledit dispositif de traitement comporte des moyens de commande, adaptés à la commande de la puissance de ladite au moins une source rayonnante et, de préférence, lesquels moyens de commande comportent au moins un module choisi parmi un module de pilotage adapté à ajuster la puissance de ladite au moins une source rayonnante tenant compte d’une consigne d’intensité de rayonnement (dit encore « intensité rayonnante ») et de l’intensité de rayonnement collectée par les moyens capteurs et/ou un module de pilotage adapté à ajuster la puissance de ladite au moins une source rayonnante tenant compte de la vitesse du flux des gaz au travers dudit passage.

La présente invention concerne encore le système d’aération, par exemple pour un local, un bâtiment ou un engin, comprenant au moins un conduit muni d’un dispositif de traitement selon l’invention.

Le dispositif de traitement forme un tronçon dudit conduit ou est rapporté sur un tronçon dudit conduit.

Bien entendu, les différentes caractéristiques, variantes et formes de réalisation de l'invention peuvent être associées les unes avec les autres selon diverses combinaisons dans la mesure où elles ne sont pas incompatibles ou exclusives les unes des autres.

Description détaillée de l'invention

De plus, diverses autres caractéristiques de l'invention ressortent de la description annexée effectuée en référence aux dessins qui illustrent des formes, non limitatives, de réalisation de l'invention et où :

[Fig. 1] est une vue générale et en perspective d’un dispositif de traitement selon l’invention, sous la forme d’un premier mode de réalisation comprenant deux couples source rayonnante / miroir réflecteur ;

[Fig. 2] est une vue de côté du dispositif de traitement selon la figure 1 ;

[Fig. 3] est une vue en coupe selon le plan lll-lll illustré sur la figure 2 ;

[Fig. 4] est une vue en coupe et agrandie d’une source rayonnante associée à un miroir source ; [Fig. 5] est une vue générale et en perspective d’un dispositif de traitement selon l’invention, sous la forme d’un second mode de réalisation comprenant un couple source rayonnante / miroir réflecteur en combinaison avec un miroir plan ;

[Fig. 6] est une vue en coupe du dispositif de traitement selon la figure 5 ;

[Fig. 7] est une vue générale et en coupe d’un dispositif de traitement selon l’invention, sous la forme d’un troisième mode de réalisation comprenant plusieurs miroirs diédriques ;

[Fig. 8] est une vue générale et en coupe d’un dispositif de traitement selon l’invention, sous la forme d’un quatrième mode de réalisation comprenant une combinaison de miroirs ;

[Fig. 9] est une vue générale et en perspective d’une variante du dispositif de traitement selon la figure 1 , dans laquelle l’axe longitudinal des sources rayonnantes est parallèle au flux d’air.

Il est à noter que, sur ces figures, les éléments structurels et/ou fonctionnels communs aux différentes variantes peuvent présenter les mêmes références.

Les figures 1 et suivantes illustrent ainsi un dispositif de traitement 1 selon l’invention, qui est adapté à la désinfection et/ou la stérilisation, par rayonnement ultraviolet, d’un gaz cheminant dans un conduit.

L’invention décrite ci-après concerne par exemple le traitement de l’air. La présente invention peut également s’appliquer à d’autres gaz.

De manière générale, la stérilisation par rayonnement ultraviolet (connue en soi) est une méthode de stérilisation (destruction de la totalité des microorganismes) reposant sur la sensibilité des microorganismes à l'exposition aux basses longueurs d'onde des ultraviolets.

La désinfection par rayonnement ultraviolet (également connue en soi) est une méthode de désinfection (réduction du nombre de microorganismes vivants) reposant également sur la sensibilité des microorganismes à l'exposition aux basses longueurs d'onde des ultraviolets.

Par « ultraviolets », on entend avantageusement les UV-C, ayant une longueur d’onde allant de 100 à 280 nm et utilisés classiquement en laboratoire de biologie pour les effets germicides.

Le dispositif de traitement 1 selon l’invention est avantageusement destiné à équiper un conduit qui fait partie d’un système d’aération, avantageusement classique en soi.

Un tel système d’aération est avantageusement conçu pour le renouvellement général d’air dans un espace intérieur, par exemple pour un local, un bâtiment ou un engin.

Ce système d’aération assure en effet une entrée d’air neuf (parfois mélangé avec une partie de l’air vicié extrait du bâtiment) et une sortie d’air vicié, grâce à un dispositif naturel ou mécanique.

Le système d’aération comprend donc au moins un conduit (non représenté), avantageusement pour l’entrée d’air neuf et/ou pour la sortie d’air vicié (voire d’un mélange d’air neuf et vicié), muni du dispositif de traitement 1 selon l’invention. De manière générale, par « conduit », on englobe avantageusement les conduits, et autres volumes, adaptés à une circulation de gaz, par exemple l’air.

Par « conduit », on englobe avantageusement les conduits, et autres volumes, adaptés à une circulation d’air. Un tel conduit est encore couramment appelé, sans être limitatif, « gaine » ou « conduit de ventilation » ou « chambre d’aération » ou « centrale de traitement d’air ».

La circulation de l’air dans ce conduit est avantageusement assurée par un module ventilateur destiné à réguler la vitesse de cheminement du flux d’air.

Le dispositif de traitement 1 selon l’invention forme avantageusement un tronçon du conduit ; ce dispositif de traitement 1 est pour cela interposé / raccordé (hermétiquement aux gaz, en particulier à l’air) entre deux tronçons de conduit. De manière alternative, le dispositif de traitement 1 est rapporté sur (ou au sein de) un tronçon du conduit (avantageusement classique en soi).

Selon l’invention, le dispositif de traitement 1 comprend :

- au moins une source rayonnante 2, pour la production de rayonnements UV, de préférence des rayonnements UV-C, et

- une combinaison de miroirs 3, associés à ladite au moins une source rayonnante 2.

Ladite au moins une source rayonnante 2 consiste avantageusement en une lampe qui est conçue pour émettre les rayonnements UV précités.

De préférence, ladite au moins une source rayonnante 2 consiste en au moins une lampe UV-C tubulaire.

La surface 21 de cette source rayonnante 2 est alors avantageusement cylindrique (figure 4).

La source rayonnante 2 comporte encore avantageusement un centre 2’, correspondant ici à l’axe longitudinal de la lampe tubulaire (figure 4).

L’axe longitudinal de la source rayonnante 2 est désignée par le même repère 2’ dans un souci de simplification.

De manière général, l’axe longitudinal 2’ de la source rayonnante 2 est avantageusement :

- perpendiculaire au flux d’air (figure 1 notamment), ou

- parallèle au flux d’air (figure 9).

Les miroirs 3 sont adaptés et destinés à réfléchir les rayonnements UV générés par ladite au moins une source rayonnante 2.

Les miroirs 3 en question consistent par exemple, et de manière classique en soi, en des surfaces métalliques polies, ou tout autre surface offrant une bonne qualité de réflexion des rayonnements.

Pour un rayonnement UV-C, le matériau est avantageusement l’aluminium (offrant une bonne qualité de réflexion). Afin de garantir une tenue dans le temps de la qualité réflectrice de l’aluminium, on traitera avantageusement ce matériau par anodisation complété par un traitement redonnant le brillant perdu suite à ladite anodisation.

Pour une efficacité optimale des rayonnements UV émis par ladite au moins une source rayonnante 2, la combinaison de miroirs 3 est configurée pour réfléchir au moins une partie desdits rayonnements UV sous la forme de faisceaux directionnels F1 , F2, F3 de rayonnements UV qui sont dirigés entre lesdits miroirs 3 et qui traversent latéralement ledit passage 6 dans les deux sens.

Ladite combinaison de miroirs 3 est avantageusement prévue pour réfléchir au moins une partie des rayonnements UV sous la forme de deux faisceaux directionnels F1 , F2 de rayonnements UV, avantageusement parallèles, inverses l’un par rapport à l’autre (les faisceaux sont illustrés très schématiquement sur les figures 2 et 6).

Pour cela, la combinaison de miroirs 3 comprend au moins deux miroirs latéraux 4, 5, 45, 46, 55, 58 (au nombre de deux ou plus) qui sont implantés de part et d’autre d’un passage 6 au travers duquel les gaz à traiter sont destinés à circuler.

Chacun des miroirs latéraux 4, 5, 45, 46, 55, 58 est configuré pour réfléchir au moins une partie des rayonnements UV (émis par ladite au moins une source rayonnante 2), avantageusement en direction d’un miroir latéral 4, 5, 45, 46, 55, 58 opposé.

Le passage 6 est ainsi avantageusement traversé latéralement par les faisceaux directionnels F1 , F2, F3 de rayonnements UV, de préférence selon une même direction mais dans deux sens inverses l’un par rapport à l’autre.

Par « faisceau directionnel », on entend avantageusement un faisceau de rayonnements, avantageusement parallèle (ou au moins approximativement parallèle), dans lequel les rayonnements UV sont orientés dans une seule direction générale.

Les faisceaux directionnels F1 , F2, F3 de rayonnements UV sont avantageusement ainsi confondus (ou superposés) et dirigés entre lesdits au moins deux miroirs latéraux 4, 5, 45, 46, 55, 58. En d’autres termes, les deux faisceaux directionnels F1 , F2 comportent des directions générales qui passent par lesdits au moins deux miroirs latéraux 4, 5, 45, 46, 55, 58 et qui sont coaxiales.

Les faisceaux directionnels F1 , F2, F3 de rayonnements UV sont en plus avantageusement orientés en sens inverses l’un par rapport à l’autre (figures 2 et 6).

En d’autres termes, lesdits au moins deux miroirs latéraux 4, 5 sont configurés pour générer avantageusement deux faisceaux directionnels F1 , F2 de rayonnements UV :

- un premier faisceau directionnel F1 de rayonnements UV dirigé depuis un premier miroir latéral 4 vers un second miroir latéral 4, 5 (de gauche à droite sur les figures), et

- un second faisceau directionnel F2 de rayonnements UV dirigé depuis ledit second miroir latéral 4, 5 vers ledit premier miroir latéral 4 (de droite à gauche sur les figures). En l’espèce, chaque faisceau directionnel F1 , F2 de rayonnements UV peut être issu d’une source rayonnante 2 (dit encore « faisceau incident »), tel que décrit ci-après en relation avec les figures 1 à 4.

De manière alternative, un premier faisceau directionnel F1 de rayonnements UV peut être issu d’une source rayonnante 2 (dit encore « faisceau incident ») et le second faisceau directionnel F2 de rayonnements UV (dit encore « faisceau réfléchi »), en sens inverse, peut consister en un faisceau obtenu par réflexion dudit premier faisceau directionnel F1 de rayonnements UV.

Toujours selon l’invention, tel qu’illustré sur les figures, l’un au moins deux miroirs latéraux 4 consiste en un miroir réflecteur 4 qui est couplé à ladite au moins une source rayonnante 2 pour produire un faisceau directionnel F1 de rayonnements UV (dit encore « faisceau incident ») qui est orienté vers l’autre miroir latéral 4, 5.

Pour une efficacité optimale, le miroir réflecteur 4 en question (couplé à ladite au moins une source rayonnante 2) est avantageusement adapté à produire un faisceau directionnel F1 , F2 de rayonnements UV parallèle (dont les rayons qui le constituent sont parallèles).

En d’autres termes, le miroir réflecteur 4 a avantageusement la propriété de refléter / convertir (après réflexion) les rayonnements issus de la source rayonnante 2 « multidirectionnelle » en un faisceau dit « parallèle » (avantageusement lorsque la source rayonnante 2 est placée en son foyer optique).

Un faisceau parallèle présente avantageusement la particularité de conserver une intensité rayonnante (dit encore « intensité de rayonnement ») constante, quel que soit la distance de la source rayonnante 2.

Le faisceau parallèle comprend avantageusement des rayons qui sont tous parallèles à un même plan, en l’occurrence le plan directeur 4’ (dit encore « axe optique » ou « plan optique ») du miroir réflecteur 4.

Ce principe permet ainsi d’assurer un rayonnement d’intensité très homogène et très concentré dans le passage 6.

Pour cela, le miroir réflecteur 4 présente avantageusement un profilé concave, avantageusement à section parabolique ou semi-elliptique.

Un tel miroir réflecteur 4 comporte avantageusement :

- une ouverture longitudinale 41 orientée vers l’autre miroir latéral 4, 5, et/ou

- un foyer optique 42 confondu avec le centre 2’ de ladite au moins une source rayonnante 2.

L’ouverture longitudinale 41 présente avantageusement, sans être limitatif, une largeur qui s’étend sur un secteur angulaire optique égal à celui reçu par ledit miroir réflecteur 4 (correspondant au secteur angulaire optique émis par la source rayonnante 2, avantageusement en combinaison avec un miroir source décrit par la suite). Des modes de réalisation selon l’invention, non limitatifs, sont décrits ci-après en relation avec les figures.

Selon un premier mode de réalisation décrit ci-après en relation avec les figures 1 à 4, ledit dispositif de traitement 1 comprend :

- deux sources rayonnantes 2, implantées avantageusement sur un même plan optique P, de préférence de part et d’autre du passage 6 (figure 3), et

- deux miroirs latéraux 4 consistant chacun en un miroir réflecteur 4.

Les deux miroirs latéraux 4 sont avantageusement identiques l’un par rapport à l’autre. Ils sont en outre avantageusement symétriques par rapport à un plan transversal médian qui est orienté perpendiculairement au plan optique P.

Les deux miroirs latéraux 4 comportent des plans optiques 4’ (dits encore « axes optiques ») qui sont avantageusement confondus.

Chaque miroir réflecteur 4 est couplé à l’une desdites sources rayonnantes 2 pour produire chacun un faisceau directionnel F1 , F2 de rayonnements UV (dit encore « faisceau indicent »), avantageusement parallèle, qui est orienté vers l’autre miroir latéral 4 et qui sont en sens inverses l’un par rapport à l’autre.

Le passage 6 est ainsi traversé par deux faisceaux directionnels F1 , F2 de rayonnements UV, en sens inverses l’un par rapport à l’autre, qui sont produits chacun par l’une des deux sources rayonnantes 2.

Ces deux faisceaux directionnels F1 , F2 de rayonnements U sont orientés avantageusement selon une même direction, confondue avec le plan optique P, mais en sens inverses l’un par rapport à l’autre.

Les deux sources rayonnantes 2 forment ainsi un rideau ou une lame optique de rayonnements UV dans le passage 6, s’étendant avantageusement sur toute sa largeur, au travers duquel vont circuler les gaz à traiter.

La figure 9 illustre une variante de réalisation de cette figure 1 , dans laquelle l’axe longitudinal 2’ des sources rayonnantes 2 est orienté parallèlement au flux gazeux.

Selon cette variante, ledit dispositif de traitement 1 comprend au moins un module, voire deux ou plus de deux modules juxtaposés, comportant chacun :

- deux sources rayonnantes 2, implantées avantageusement sur un même plan optique P, de préférence de part et d’autre du passage 6 (figure 3), et

- deux miroirs latéraux 4 consistant chacun en un miroir réflecteur 4.

Là encore, au sein de chaque module, les deux miroirs latéraux 4 sont avantageusement identiques l’un par rapport à l’autre. Ils sont en outre avantageusement symétriques par rapport à un plan transversal médian qui est orienté perpendiculairement au plan optique P.

Les deux miroirs latéraux 4 comportent des plans optiques 4’ (dits encore « axes optiques ») qui sont avantageusement confondus. Chaque miroir réflecteur 4 est couplé à l’une desdites sources rayonnantes 2 pour produire chacun un faisceau directionnel F1 , F2 de rayonnements UV (dit encore « faisceau indicent »), avantageusement parallèle, qui est orienté vers l’autre miroir latéral 4 et qui sont en sens inverses l’un par rapport à l’autre.

Le passage 6 est ainsi traversé par deux faisceaux directionnels F1 , F2 de rayonnements UV, en sens inverses l’un par rapport à l’autre, qui sont produits chacun par l’une des deux sources rayonnantes 2.

Au sein de chaque module, ces deux faisceaux directionnels F1 , F2 de rayonnements UV sont orientés avantageusement selon une même direction, confondue avec le plan optique P, mais en sens inverses l’un par rapport à l’autre.

Au sein de chaque module, les deux sources rayonnantes 2 forment ainsi un rideau ou une lame optique de rayonnements UV dans le passage 6, s’étendant avantageusement sur une partie de la largeur, au travers duquel vont circuler les gaz à traiter.

Les modules juxtaposés forment ainsi un rideau ou une lame optique de rayonnements UV dans le passage 6, s’étendant avantageusement sur toute la largeur, au travers duquel vont circuler les gaz à traiter.

Selon un second mode de réalisation décrit ci-après en relation avec les figures 5 et 6, le dispositif de traitement 1 comprend :

- une source rayonnante 2, unique,

- un premier miroir latéral 4 consistant en un miroir réflecteur 4 qui est couplé à ladite source rayonnante 2 pour produire un premier faisceau directionnel F1 de rayonnements UV (dit encore « faisceau indicent »), avantageusement parallèle, qui est orienté vers un second miroir latéral 5, et

- ledit second miroir latéral 5 consistant en un miroir plan, implanté en regard dudit premier miroir latéral 4, pour générer un second faisceau directionnel F2 de rayonnements UV (dit encore « faisceau réfléchi »), avantageusement parallèle, qui réfléchit le premier faisceau directionnel F1 vers ledit premier miroir latéral 4.

Pour assurer cette réflexion, le miroir plan 5 définit un plan général 5’ qui est perpendiculaire au plan optique 4’ du premier miroir latéral 4 (figure 6).

La largeur du miroir plan 5 est de préférence supérieure, ou égale, à la largeur de l’ouverture longitudinale 41 du miroir réflecteur 4.

Le miroir plan 5 et le miroir réflecteur 4 sont encore avantageusement agencés de sorte que le plan optique 4’ du miroir réflecteur 4 passe par la ligne médiane du miroir plan 5.

Selon les modes de réalisation décrits ci-après en relation avec les figures 7 et 8, la combinaison de miroirs 3 est configurée pour réfléchir au moins une partie desdits rayonnements UV sous la forme de faisceaux directionnels F3 de rayonnements UV qui sont dirigés entre lesdits miroirs 3, de part et d’autre d’un premier miroir latéral 4, et qui traversent latéralement le passage 6 dans les deux sens, selon une trajectoire en zigzag.

De manière générale, un tel ledit dispositif de traitement 1 comprend avantageusement :

- une source rayonnante 2,

- un premier miroir latéral 4 consistant en un miroir réflecteur 4 qui est couplé à ladite source rayonnante 2 pour produire un faisceau directionnel F1 de rayonnements UV, avantageusement parallèle, qui est orienté vers un second miroir latéral 5,

- au moins un premier miroir latéral additionnel 45, 46, implanté au moins d’un côté dudit premier miroir latéral 4, avantageusement d’un côté dudit premier miroir latéral 4 ou de part et d’autre dudit premier miroir latéral 4,

- ledit second miroir latéral 5, avantageusement un miroir réflecteur diédrique central ou un miroir réflecteur plan central, implanté en regard dudit premier miroir latéral 4, pour produire un faisceau directionnel F2 de rayonnements UV, avantageusement parallèle, qui est orienté vers au moins un premier miroir latéral additionnel 45, 46, et

- au moins un second miroir latéral additionnel 55, 58, implanté au moins d’un côté dudit second miroir latéral 5, avantageusement d’un côté dudit second miroir latéral 5 ou de part et d’autre dudit second miroir latéral 5.

Et ledit second miroir latéral 5, ledit au moins un premier miroir latéral additionnel 45, 46 et ledit au moins un second miroir latéral additionnel 55, 58 sont configurés pour réfléchir au moins une partie desdits rayonnements UV sous la forme de faisceaux directionnels F3 de rayonnements UV qui sont dirigés entre ledit au moins un premier miroir latéral additionnel 45, 46 et ledit au moins un second miroir latéral additionnel 55, 58 et qui traversent ledit passage 6 dans les deux sens, selon une trajectoire en zigzag.

De préférence, le faisceau directionnel F1 de rayonnements UV issu du premier miroir latéral 4 est ici scindé en des faisceaux F3 par le second miroir latéral 5.

Ces faisceaux F3 sont ensuite destinés à cheminer de part et d’autre de ce premier miroir latéral 4, entre ledit au moins un premier miroir latéral additionnel 45, 46 et ledit au moins un second miroir latéral additionnel 55, 58.

Dans ce cadre, selon un troisième mode de réalisation décrit ci-après en relation avec la figure 7, le dispositif de traitement 1 comprend :

- une source rayonnante 2,

- un premier miroir latéral 4 consistant en un miroir réflecteur 4 qui est couplé à ladite source rayonnante 2 pour produire un faisceau directionnel F1 de rayonnements UV (dit encore « faisceau indicent »), avantageusement parallèle, qui est orienté vers un second miroir latéral 5,

- ledit second miroir latéral 5, implanté en regard dudit premier miroir latéral 4, formant un miroir réflecteur diédrique central, - des premiers miroirs latéraux additionnels 45 diédriques, implantés de part et d’autre dudit premier miroir latéral 4, et

- des seconds miroirs latéraux additionnels 55 diédriques, implantés de part et d’autre dudit second miroir latéral 5.

Les premiers miroirs latéraux additionnels 45 diédriques et les seconds miroirs latéraux additionnels 55 diédriques sont configurés pour réfléchir au moins une partie desdits rayonnements UV sous la forme de faisceaux directionnels F3 de rayonnements UV qui sont dirigés entre les premiers miroirs latéraux additionnels 45 diédriques et les seconds miroirs latéraux additionnels 55 diédriques et qui traversent chacun ledit passage 6 dans deux sens, selon une trajection en zigzag.

Un tel système permet alors de générer une fluence homogène de rayonnements UV dans le volume du dispositif de traitement 1 à partir d’une seule source rayonnante 2.

En particulier, le faisceau directionnel F1 de rayonnements UV issu du premier miroir latéral 4 est ici scindé en des faisceaux F3 par le second miroir latéral 5, destinés à cheminer de part et d’autre de ce premier miroir latéral 4 (ici selon une forme générale en créneau).

Pour cela, en l’espèce, les premiers miroirs latéraux additionnels 45 diédriques et les seconds miroirs latéraux additionnels 55 diédriques comprennent avantageusement plusieurs miroirs diédriques 44, 55 juxtaposés (en série).

Les premiers miroirs latéraux additionnels 45 diédriques et les seconds miroirs latéraux additionnels 55 diédriques s’étendent respectivement dans deux plans généraux, parallèles l’un par rapport à l’autre.

Par « miroir diédrique », on entend avantageusement un réflecteur diédrique 45, 55 qui se compose de deux réflecteurs plans 45a, 55a (dits encore « miroirs plans » ou « plans conducteurs ») définissant entre eux un angle (en Vé), par exemple un angle orthogonal (à 90°).

Ces miroirs diédriques 45, 55 forment ainsi avantageusement des réflecteurs prisme à 45°.

Chaque miroir diédrique 45, 55 est avantageusement agencé de sorte que son plan bissecteur 45’, 55’ s’étend parallèlement au plan optique 4’ du premier miroir latéral 4 et au plan bissecteur 45’, 55’ des autres miroirs diédriques 45, 55.

Chaque réflecteur plan 45a, 55a s’étend en plus parallèlement à l’axe longitudinal passant par le centre 2’ de la source rayonnante 2.

En outre, les premiers miroirs latéraux additionnels 45 diédriques et les seconds miroirs latéraux additionnels 55 diédriques sont avantageusement identiques les uns par rapport aux autres.

Les premiers miroirs latéraux additionnels 45 diédriques et les seconds miroirs latéraux additionnels 55 diédriques sont ici inversés du part et d’autre du passage 6 : un miroir diédrique 45, 55 situé d’un côté du passage 6 est ici implanté en regard d’un couple de réflecteurs plans 45a, 55a, convexes, appartenant à deux miroirs diédriques 45, 55 attenants situés d’un autre côté du passage 6.

De plus, le second miroir latéral 5, avantageusement un miroir réflecteur diédrique central, forme avantageusement un couple de réflecteurs plans 5a primaires, convexe, qui est implanté et centré en regard du miroir réflecteur primaire 4.

La largeur de ce second miroir latéral 5, convexe, est identique à la largeur de l’ouverture longitudinale 41 du miroir réflecteur primaire 4.

Les premiers miroirs latéraux additionnels 45 ou les seconds miroirs latéraux additionnels 55 portent encore avantageusement un réflecteur plan d’extrémité 56 qui est prévu pour réfléchir en sens inverse le faisceau directionnel issu d’un réflecteur plan 55a d’extrémité.

Ce réflecteur plan d’extrémité 56 s’étend pour cela ici parallèlement au plan optique 4’ du premier miroir latéral 4 et au plan bissecteur 45’, 55’ des autres miroirs diédriques 45, 55.

Ladite combinaison de miroirs 3 est ainsi adapté à réfléchir au moins une partie des rayonnements UV sous la forme de faisceaux directionnels F1 , F2 de rayonnements UV, cheminant dans deux sens inverses l’un par rapport à l’autre.

Le premier miroir latéral 4 est avantageusement pivotant par rapport aux premiers miroirs réflecteurs diédriques 45, de sorte à faciliter l’accès à la source rayonnante 2 (notamment pour les opérations de maintenance).

Ce premier miroir latéral 4 est ainsi mobile entre :

- une position déployée, pour produire le faisceau directionnel F1 de rayonnements UV qui est orienté vers un second miroir latéral 5, et

- une position escamotée, pour libérer un accès à la source rayonnante 2.

Selon un quatrième mode de réalisation décrit ci-après en relation avec la figure 8, le dispositif de traitement 1 comprend :

- une source rayonnante 2,

- un premier miroir latéral 4 consistant en un miroir réflecteur 4 qui est couplé à ladite source rayonnante 2 pour produire un faisceau directionnel F1 de rayonnements U (dit encore « faisceau indicent »), avantageusement parallèle, qui est orienté vers un second miroir latéral 5,

- ledit second miroir latéral 5, implanté en regard dudit premier miroir latéral 4, formant un miroir réflecteur diédrique central 5,

- des premiers miroirs latéraux additionnels 46 plans, implantés de part et d’autre dudit premier miroir latéral 4, et

- des seconds miroirs latéraux additionnels 58 plans, implantés de part et d’autre dudit second miroir latéral 5.

Les premiers miroirs latéraux additionnels 46 plans et les seconds miroirs latéraux additionnels 58 plans sont configurés pour réfléchir au moins une partie desdits rayonnements UV sous la forme de faisceaux directionnels F3 de rayonnements UV qui sont dirigés entre les premiers miroirs latéraux additionnels 45 inclinés et les seconds miroirs latéraux additionnels 58 plans et qui traversent chacun ledit passage 6 dans les deux sens.

Là encore, un tel système permet alors de générer une fluence homogène de rayonnements UV dans le volume du dispositif de traitement 1 à partir d’une seule source rayonnante 2.

En particulier, le faisceau directionnel F1 de rayonnements UV issu du premier miroir latéral 4 est ici scindé en des faisceaux F3 par le second miroir 5, destinés à cheminer de part et d’autre de ce premier miroir latéral 4 (ici selon une trajectoire en zigzag en forme générale de dents de scie).

Pour cela, en l’espèce, le second miroir latéral 5 se présente sous la forme d’un miroir réflecteur diédrique central.

Par « miroir réflecteur diédrique », on entend avantageusement un réflecteur diédrique qui se compose de deux réflecteurs plans 5a (dits encore « miroirs plans » ou « plans conducteurs ») définissant entre eux un angle (en Vé) convexe, par exemple un angle allant de 2 à 30°.

Le miroir réflecteur diédrique central 5 est avantageusement agencé de sorte que son plan bissecteur 5’ s’étend coaxialement au plan optique 4’ du premier miroir latéral 4.

Ce miroir réflecteur diédrique central 5, convexe, est implanté et centré en regard du miroir réflecteur primaire 4.

La largeur de ce miroir réflecteur diédrique central 5, convexe, est identique à la largeur de l’ouverture longitudinale 41 du miroir réflecteur primaire 4.

Les premiers miroirs latéraux additionnels 46 plans et les seconds miroirs latéraux additionnels 58 plans, consistant en des miroirs plans simples qui sont ici inclinés et s’étendent avantageusement parallèlement les uns par rapport aux autres et parallèlement aux deux réflecteurs plans 5a du second miroir latéral 5.

En outre, les premiers miroirs latéraux additionnels 46 plans et les seconds miroirs latéraux additionnels 58 plans sont avantageusement identiques les uns par rapport aux autres.

Les premiers miroirs latéraux additionnels 46 plans et les seconds miroirs latéraux additionnels 58 plans sont ici inclinés en sens inverse du part et d’autre du passage 6.

En d’autres termes, les premiers miroirs latéraux additionnels 46 plans et les seconds miroirs latéraux additionnels 58 plans sont implantés selon au moins un couple comprenant un premier miroir latéral additionnel 46 plan et un second miroir latéral additionnel 58 plan.

Et, au sein d’un couple, le premier miroir latéral additionnel 46 plan et le second miroir latéral additionnel 58 plan sont agencés, l’un par rapport à l’autre, selon une symétrie centrale.

En outre, un premier miroir latéral additionnel 46 plan est avantageusement incliné vers le plan optique 4’ du premier miroir latéral 4 (sa droite normale converge vers le plan optique 4’ du premier miroir latéral 4) ; un second miroir latéral additionnel 58 plan est avantageusement incliné en sens inverse, à l’opposé dudit plan optique 4’ (sa droite normale diverge par rapport au plan optique 4’ du premier miroir latéral 4).

Un premier miroir latéral additionnel 46 plan est avantageusement incliné pour générer un rayon réfléchi parallèle au plan optique 4’ du premier miroir latéral 4 ; un second miroir latéral additionnel 58 plan est avantageusement incliné pour générer un rayon réfléchi incliné par rapport au plan optique 4’ du premier miroir latéral, en direction d’un premier miroir latéral additionnel 46 plan.

En l’espèce, la combinaison de miroirs 3 comprend un seul couple premier miroir latéral additionnel 46 plan / miroir latéral additionnel 58 plan.

Chaque premier miroir latéral additionnel 46 plan et chaque second miroir latéral additionnel 58 plan s’étend en plus parallèlement à l’axe longitudinal passant par le centre 2’ de la source rayonnante 2.

Les seconds miroirs latéraux 58 comprennent encore avantageusement un réflecteur plan d’extrémité 581 qui est prévu pour réfléchir en sens inverse le faisceau directionnel issu d’un premier miroir latéral additionnel 46 plan terminal.

Ce réflecteur plan d’extrémité 581 s’étend pour cela ici perpendiculairement au plan optique 4’ du premier miroir latéral 4.

La combinaison de miroir 3 comprend ainsi avantageusement un couple terminal composé d’un réflecteur plan d’extrémité 581 et d’un premier miroir latéral additionnel 46 plan terminal.

Ladite combinaison de miroirs 3 est ainsi adapté à réfléchir au moins une partie des rayonnements UV sous la forme de faisceaux directionnels F1 , F2, F3 de rayonnements UV, cheminant dans deux sens inverses l’un par rapport à l’autre.

Selon encore une variante de réalisation, non représentée, la combinaison de miroirs comprend :

- ledit second miroir latéral 5, implanté en regard dudit premier miroir latéral 4, formant un miroir réflecteur plan central,

- des premiers miroirs latéraux additionnels 45, plans ou diédriques, implantés d’un côté dudit premier miroir latéral 4, et

- des seconds miroirs latéraux additionnels 55, 58, plans ou diédriques, implantés d’un côté dudit second miroir latéral 4.

De manière générale, encore selon l’invention, ladite combinaison de miroirs 3 comprend encore au moins un miroir source 8 enveloppant partiellement ladite source rayonnante 2 (figure 4).

Un tel miroir source 8 est destiné à diriger au maximum les rayonnements de la source rayonnante 2 associée vers le miroir réflecteur 4 associé.

Pour cela, ce miroir source 8 consiste ici en un profilé concave, à section en arc de cercle.

Le miroir source 8 comporte encore avantageusement : - une ouverture longitudinale 81 , orientée vers le miroir réflecteur 4 associé, et

- un foyer optique 82, avantageusement confondu avec le centre 2’ de la source rayonnante 2 associée et avec le foyer optique 42 du miroir réflecteur 4.

L’ouverture longitudinale 81 est avantageusement centrée par rapport au plan optique 4’ du miroir réflecteur 4.

Le miroir source 8 s’étend avantageusement sur un secteur angulaire d’au moins 170°, voire de 175°, voire encore de 180°.

Le miroir source 8 s’étend avantageusement sur un secteur angulaire optique de la source rayonnante 2, avantageusement complémentaire de celui reçu dudit miroir réflecteur 4.

De préférence, le miroir source 8 est attenant de la surface 21 cylindrique de la source rayonnante 2.

Par « attenant », on entend avantageusement une distance allant de 0 à 10 mm, voire de 0 à 5 mm (voire choisie parmi 1 , 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10 mm), entre le miroir source 8 et la surface 21 cylindrique de la source rayonnante 2.

Encore de manière générale, l’encombrement du miroir réflecteur 4 est défini notamment par un plan 41’ qui passe par son ouverture longitudinale 41 (figure 3 notamment).

Et, pour limiter les obstacles à la circulation d’un gaz dans le passage 6, ladite au moins une source rayonnante 2 et/ou ledit au moins un miroir source 8 sont implantés, au moins partiellement, dans l’encombrement du miroir réflecteur 4.

Encore de manière générale, ladite au moins une source rayonnante 2 et/ou la combinaison de miroirs 3 sont implantés de part et d’autre du passage 6, de sorte notamment à limiter les obstacles à la circulations des gaz dans ce passage 6.

Toujours de manière générale, ladite combinaison de miroirs 3 comprend encore au moins deux miroirs transversaux 9, avantageusement parallèles l’un par rapport à l’autre, encadrant les miroirs latéraux 4, 5.

Les miroirs transversaux 9 sont avantageusement raccordés avec les bordures latérales des miroirs latéraux 4, 5.

Les miroirs transversaux 9 définissent, en association avec les miroirs latéraux 4, 5, un châssis ou cadre qui délimite le passage 6.

Ces miroirs transversaux 9 participent à réfléchir / maintenir les rayonnements UV au sein du passage 6.

Chaque faisceau directionnel F1 , F2, F3 de rayonnements UV s’étend ainsi avantageusement sur la largeur du passage 6 qui est délimitée par les miroirs transversaux 9.

Encore de manière générale, le dispositif de traitement 1 comporte encore des moyens de commande 10 qui sont adaptés à la commande de la puissance de ladite au moins une source rayonnante 2. Les moyens de commande 10 comprennent par exemple des moyens électroniques classiques en soi, par exemple du type microcontrôleur intégrant un programme d’ordinateur comportant des moyens de code de programme exécutés par ledit microcontrôleur.

Dans ce contexte, le dispositif de traitement 1 comprend avantageusement des moyens capteurs 11 adaptés à capter l’intensité rayonnante (en rayonnements UV) au sein du passage 6.

La surveillance de cette mesure permet notamment de détecter une baisse d’efficacité du dispositif de traitement 1 , nécessitant par exemple un nettoyage ou un remplacement de ladite au moins une source rayonnante 2.

De préférence, les moyens capteurs 11 comprennent au moins un radiomètre UV, qui permet la mesure de l’intensité de rayonnement effectivement émise dans le passage 6.

Par « intensité de rayonnement » (dite encore « intensité rayonnante »), on attend avantageusement une valeur exprimée en J / cm 2 .

En l’espèce, les moyens capteurs 11 sont avantageusement répartis sur les miroirs transversaux 9.

Les moyens de commande 10 comportent alors un module de pilotage 101 adapté à ajuster la puissance de ladite au moins une source rayonnante 2 tenant compte d’une consigne d’intensité rayonnante.

Une diminution de l’intensité rayonnante (en rayonnements UV) au sein du passage 6 est alors compensée par une augmentation de la puissance de ladite au moins une source rayonnante 2.

Par ailleurs, les moyens de commande 10 peuvent comporter un module de pilotage 102 adapté à ajuster la puissance de ladite au moins une source rayonnante 2 tenant compte de la vitesse du flux de gaz au travers dudit passage 6.

Une augmentation de la vitesse du flux d’air au sein du passage 6 est alors compensée par une augmentation de la puissance de ladite au moins une source rayonnante 2.

En pratique, les moyens de commande 10 pilotent ladite au moins une source rayonnante 2 pour produire des rayonnements UV.

Par le jeu de miroirs 3, ces rayonnements UV sont réfléchis sous la forme des deux faisceaux directionnels F1 , F2 de rayonnements UV qui sont dirigés entre les miroirs latéraux 4, 5.

Ces faisceaux directionnels F1 , F2 de rayonnements UV traversent chacun le passage 6 dans un sens, inverses l’un par rapport à l’autre.

De même, dans le troisième mode de réalisation, les faisceaux directionnels F3 de rayonnements UV sont dirigés entre les premiers miroirs réflecteurs diédriques 45 et les seconds miroirs réflecteurs diédriques 55 et traversent le passage 6 dans deux sens, inverses l’un par rapport à l’autre, formant ici un flux de rayonnements UV en forme général de créneau. Le flux de gaz traverse ces faisceaux directionnels F1 , F2, F3 de rayonnements UV, soumettant les éventuels microorganismes à une dose suffisante de rayonnement UV de type germicide.

Bien entendu, diverses autres modifications peuvent être apportées à l’invention dans le cadre des revendications annexées.