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Title:
DIAMINE COMPOUND, POLYAMIC ACID, POLYIMIDE AND LIQUID CRYSTAL ALIGNING AGENT
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2008/117759
Kind Code:
A1
Abstract:
Disclosed is a novel diamine which has an effect of increasing the pretilt angle of a liquid crystal when used as a raw material for a liquid crystal aligning agent. This diamine enables to vertically align a liquid crystal even when used in a small amount.In addition, this diamine hardly precipitates even when a poor solvent is mixed in a liquid crystal aligning agent solution for improving coatability of the agent. Specifically disclosed is a diamine represented by the following formula (1). (1) (In the formula (1), R1 represents a phenylene or a cyclohexylene; and R2 represents an alkyl group having 3-12 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 3-12 carbon atoms, an alkoxy group having 3-12 carbon atoms or a fluoroalkoxy group having 3-12 carbon atoms.)

Inventors:
MINAMI SATOSHI (JP)
MIKI NORITOSHI (JP)
GOTO KOHEI (JP)
HOSAKA KAZUYOSHI (JP)
Application Number:
PCT/JP2008/055311
Publication Date:
October 02, 2008
Filing Date:
March 21, 2008
Export Citation:
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Assignee:
NISSAN CHEMICAL IND LTD (JP)
MINAMI SATOSHI (JP)
MIKI NORITOSHI (JP)
GOTO KOHEI (JP)
HOSAKA KAZUYOSHI (JP)
International Classes:
C07C217/90; G02F1/1337
Domestic Patent References:
WO2004052962A12004-06-24
Foreign References:
JP2003073474A2003-03-12
JPH09278724A1997-10-28
Attorney, Agent or Firm:
SENMYO, Kenji et al. (SIA Kanda Square17, Kanda-konyacho,Chiyoda-k, Tokyo 35, JP)
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Claims:
 下記の式(1)で表されるジアミン。
 
(式(1)中、R 1 は、フェニレン又はシクロヘキシレンであり、R 2 は炭素数3~12のアルキル基、炭素数3~12のフルオロアルキル基、炭素数3~12のアルコキシ基、又は炭素数3~12のフルオロアルコキシ基である。)
 式(1)中、R 1 が、1,4-フェニレン又は1,4-シクロヘキシレンである請求項1に記載のジアミン。
 下記の式(2-1)で示される請求項1又は請求項2に記載のジアミン。
 
(式(2-1)中、nは2~11の整数であり、1,4-シクロヘキシレンのシス-トランス異性は、それぞれトランス異性体である。)
 下記の式(2-2)で示される請求項1又は請求項2に記載のジアミン
 
(式(2-2)中、nは2~11の整数であり、1,4-シクロヘキシレンのシス-トランス異性は、トランス異性体である。)
 請求項1~請求項4のいずれかに記載のジアミンを含有するジアミン成分とテトラカルボン酸二無水物とを反応させて得られるポリアミック酸、又は該ポリアミック酸を脱水閉環させて得られるポリイミド。
 ジアミン成分中の10モル%以上が請求項1~請求項4のいずれかに記載のジアミンである請求項5に記載のポリアミック酸又はポリイミド。
 請求項5又は請求項6に記載のポリアミック酸及びポリイミド内の少なくとも一種の化合物を含有する液晶配向処理剤。
 貧溶媒を5~60質量%含む有機溶媒を含有する請求項7に記載の液晶配向処理剤。
 請求項7又は請求項8に記載の液晶配向処理剤を用いて得られる液晶配向膜。
 請求項9に記載の液晶配向膜を有する液晶表示素子。
Description:
ジアミン化合物、ポリアミック 、ポリイミド及び液晶配向処理剤

 本発明は、液晶配向膜に使用する重合体 原料として有用である新規なジアミン化合 (本発明では、単にジアミンともいう)、該 アミンを用いて得られるポリアミック酸、 リイミド、及び液晶配向処理剤に関する。

 現在、液晶表示素子に用いられる液晶配 膜には、多くの場合ポリイミド膜が使用さ ており、このポリイミド膜は、ポリイミド 前駆体であるポリアミック酸の溶液、又は 媒可溶性ポリイミドの溶液を基板に塗布し 焼成する方法がとられている。このポリア ック酸又は溶媒可溶性ポリイミドは、一般 に、テトラカルボン酸二無水物などのテト カルボン酸誘導体と、ジアミンとの反応に って合成されている。

 液晶配向膜に求められる特性の一つとし 、基板面に対する液晶分子の配向傾斜角を 意の値に保つ、いわゆる液晶のプレチルト 制御がある。このプレチルト角の大きさは 液晶配向膜を構成しているポリイミドの構 を選択することで変更できることが知られ いる。

 ポリイミドの構造によってプレチルト角 制御する技術の中でも、側鎖を有するジア ンをポリイミド原料の一部として用いる方 は、このジアミンの使用割合に応じてプレ ルト角が制御できるので、目的のプレチル 角にせしめることが比較的容易であり、プ チルト角を大きくする手段として有用であ 。液晶のプレチルト角を大きくするジアミ の側鎖構造としては、長鎖のアルキル基又 フルオロアルキル基(例えば特許文献1参照) 環状基又は環状基とアルキル基の組み合わ (例えば特許文献2参照)、ステロイド骨格(例 えば特許文献3参照)などが知られている。

 また、このように液晶のプレチルト角を きくする為のジアミンは、プレチルト角の 定性やプロセス依存性を改善するための構 検討もされており、ここで用いられる側鎖 造としては、フェニル基やシクロヘキシル などの環構造を含むものが提案されている( 例えば特許文献4,5参照)。更には、このよう 環構造を3個から4個側鎖に有するジアミンも 提案されている(例えば特許文献6参照)。

 近年、液晶表示素子が、大画面の液晶テ ビや高精細なモバイル用途(デジタルカメラ や携帯電話の表示部分)に広く実用化される に伴い、従来に比べて使用される基板の大 化、基板段差の凹凸が大きくなってきてい 。そのような状況においても、表示特性の から大型基板や段差に対して、均一に液晶 向膜が塗布されることが求められてきた。

 液晶配向膜の作製の工程において、ポリ ミック酸の溶液や溶媒可溶性ポリイミドの 液を基板に塗布する場合、工業的にはフレ ソ印刷などで行うことが一般的である。塗 液の溶媒は、樹脂の溶解性に優れる溶媒(以 下、良溶媒ともいう)であるN-メチル-2-ピロリ ドンやγ-ブチロラクトンなどに加えて、塗膜 均一性を高めるために、樹脂の溶解性が低い 溶媒(以下、貧溶媒ともいう)であるブチルセ ソルブなどが混合されている。しかしなが 、貧溶媒は、ポリアミック酸やポリイミド 溶解させる能力に劣る為、多量に混合する 析出が発生する(例えば特許文献7参照)。特 、溶媒可溶性ポリイミドの溶液では、この 題が顕著に表れる。また、前記したような 鎖を有するジアミンを使用して得られるポ イミドは、溶液の塗布均一性が低下する傾 にあるため、貧溶媒の混合量を多くする必 があり、このような溶媒の混合許容量もポ イミドの重要な特性となる。

特開平2-282726号公報

特開平3-179323号公報

特開平4-281427号公報

特開平9-278724号公報

国際公開第2004/52962号パンフレット

特開2004-67589号公報

特開平2-37324号公報

 本発明は、液晶配向膜を構成するポリアミ ク酸及び/又はポリイミド(以下、重合体と いう)の原料として使用したときに、液晶の レチルト角を大きくする効果を有しており 少ない使用割合でも液晶を垂直に配向させ ことができ、また、液晶配向処理剤の塗布 に貧溶媒を混合したときにも析出が発生し にくい、ポリアミック酸及び/又はポリアミ ドの原料となる、新規なジアミンを提供する ことを目的とする。
 また、本発明は、上記の新規なジアミンか 得られる重合体、該重合体を含有する液晶 向処理剤、さらには、該液晶配向処理剤を いて得られる液晶配向膜を有する液晶表示 子を提供することを目的とする。

 本発明者は鋭意研究を進めたところ、上記 目的を達成しうる本発明に到達したもので り、本発明は以下の要旨を有する。
1.下記の式(1)で表されるジアミン。
(式(1)中、R 1 は、フェニレン又はシクロヘキシレンであり 、R 2 は炭素数3~12のアルキル基、炭素数3~12のフル ロアルキル基、炭素数3~12のアルコキシ基、 又は炭素数3~12のフルオロアルコキシ基であ 。)
2.式(1)中、R 1 が、1,4-フェニレン又は1,4-シクロヘキシレン ある上記1に記載のジアミン。
3.下記の式(2-1)で示される上記1又は上記2に記 載のジアミン。
(式(2-1)中、nは2~11の整数であり、1,4-シクロヘ キシレンのシス-トランス異性は、それぞれ ランス異性体である。)
4.下記の式(2-2)で示される上記1又は上記2に記 載のジアミン
(式(2-2)中、nは2~11の整数であり、1,4-シクロヘ キシレンのシス-トランス異性は、トランス 性体である。)
5.上記1~上記4のいずれかに記載のジアミンを 有するジアミン成分とテトラカルボン酸二 水物とを反応させて得られるポリアミック 、又は該ポリアミック酸を脱水閉環させて られるポリイミド。
6.ジアミン成分中の10モル%以上が上記1~上記4 いずれかに記載のジアミンである上記5に記 載のポリアミック酸又はポリイミド。
7.上記5又は上記6に記載のポリアミック酸及 ポリイミドの内の少なくとも一種の化合物 含有する液晶配向処理剤。
8.貧溶媒を5~60質量%含む有機溶媒を含有する 記7に記載の液晶配向処理剤。
9.上記7又は上記8に記載の液晶配向処理剤を いて得られる液晶配向膜。
10.上記9に記載の液晶配向膜を有する液晶表 素子。

 本発明のジアミンは、液晶配向膜を構成す 重合体の原料として使用したときに、液晶 プレチルト角を顕著に大きくする効果を有 る。例えば、後記する表2に示されるように 、式(2-1)で表される本発明のジアミン(PBCH5DAB) から得られる液晶配向膜のプレチルト角は約 82°、ジアミン(PBCH7DAB)から得られる液晶配向 のプレチルト角は約83°であるが、類似の構 造を有する特許文献4に記載される従来のジ ミン(PCH7DAB)から得られる液晶配向膜のプレ ルト角は約22°であり、約4倍も大きく予想外 のことである。
 このため、本発明のジアミンから得られる 晶配向処理剤は少ない使用割合でも液晶に きいプレチルト角を与えることができ、ま 、液晶を垂直に配向させることができる。

 さらに、液晶配向膜を得るための塗布液 調製する場合に、塗布性を改善するため良 媒とともに貧溶媒を多く用いた場合にも、 発明のジアミンから得られる液晶配向処理 は重合体が析出しにくく、大型の基版に塗 する場合にも、均一な薄膜を形成すること でき優れた特性の液晶配向膜を作製するこ ができる。

 以下に、本発明について詳細に説明する。
1.ジアミン
 本発明のジアミンは、ジアミノベンゼン環 結合基(-O-)を介して、-フェニレン-フェニレ ン環又はシクロヘキシレン-シクロヘキシレ -R 2 の構造を有する側鎖が結合した化合物である 。即ち、下記式(1)で表される新規なジアミノ ベンゼン誘導体である。

 式(1)中、R 1 は、フェニレン又はシクロヘキシレンである 。フェニレン又はシクロへキシレンの環には 、必要に応じて置換基を有していてもよい。 好ましくは、1,4-フェニレン又は1,4-シクロヘ シレンである。1,4-フェニレン又は1,4-シク へキシレンの環には、必要に応じて置換基 有していてもよい。
 R 2 は炭素数3~12のアルキル基、炭素数3~12のフル ロアルキル基、炭素数3~12のアルコキシ基、 又は炭素数3~12のフルオロアルコキシ基であ 。アルキル基、フルオロアルキル基、アル キシ基、およびフルオロアルコキシ基は直 状又は分岐状でもよいが、直鎖状が好まし 、また、適宜の置換基を有していてもよい なかでも、R 2 は炭素数3~12のアルキル基又は炭素数3~12のフ オロアルキル基が好ましく、より好ましく 炭素数3~12のアルキル基であり、更に好まし くは炭素数3~9のアルキル基であり、特には炭 素数3~7のアルキル基である。

 上記ジアミノベンゼン環を構成するベン ン環におけるアミノ基の結合位置は限定さ ない。具体例としては、側鎖の結合基(-O-) 対して、ベンゼン環上の2,3の位置、2,4の位 、2,5の位置、2,6の位置、3,4の位置、3,5の位 が挙げられる。なかでも、ポリアミック酸 合成する際の反応性の観点から、2,4の位置 2,5の位置、3,5の位置が好ましい。ジアミン 成の容易性も加味すると、2,4の位置、又は2, 5の位置がより好ましい。

 上記式(1)のジアミンのなかでも、R 1 が1,4-トランス-シクロへキシレンである、下 の式(2-1)及び式(2-2)で表されるジアミンは、 少ない使用割合で液晶のプレチルト角を大き くすることができる効果が大きいことから好 ましい。特に式(2-1)で表されるジアミンは、 の効果が優れているのでより好ましい。

 式(2-1)中、nは2~11の整数であり、1,4-シクロ キシレンのシス-トランス異性は、それぞれ ランス異性体が好ましい。

 式(2-2)中、nは2~11の整数であり、1,4-シクロ キシレンのシス-トランス異性は、それぞれ ランス異性体が好ましい。

 本発明の上記式(1)で表されるジアミンの ましい具体例は以下の通りである。なお、 記式中のnは2~11の整数であり、好ましくは2~ 8の整数であり、より好ましくは2~6の整数で る。また、式中の1,4-シクロへキシレンのシ -トランス異性は、それぞれトランス異性体 である。

 上記本発明の式(1)で表されるジアミンを製 する方法は特に限定されないが、好ましい 法としては以下の方法が挙げられる。

 上記式(3)のジニトロ化合物を合成し、通常 方法でニトロ基を還元してアミノ基に
変換することで得られる。式(3)中のR 1 、R 2 は式(1)で定義したのと同じである。

 式(3)のジニトロ化合物は、下記式(4)で表わ れる水酸基含有化合物とジニトロクロロベ ゼンなどとの反応により得ることができる なお、式(4)中のR 1 、R 2 は式(1)で定義したのと同じである。

 上記式(4)で表される水酸基含有化合物は、 下の反応式[1]ないし反応式[2]に示す方法に り製造できるが、本発明はこれに限定され ものではない。
 R 1 がシクロヘキシレンの場合、反応式[1]の合成 経路が挙げられる。反応式[1]中のR 1 、R 2 は、式(1)で定義したのと同じであり、X 1 はメチル基又はベンジル基などの保護基を表 わし、X 2 はMgBr、MgClまたはLiなどを表わす。
 脱水反応に用いられる試剤としては、塩酸 は硫酸などの無機酸類、p-トルエンスルホ 酸などの有機酸類、無水酢酸又は無水トリ ルオロ酢酸などの酸無水物類などが挙げら る。
 還元反応としては、パラジウム(Pd)または白 金(Pt)などを触媒として用いた水素添加反応 又は、鉄、錫または亜鉛などの金属を用い 接触還元反応などが挙げられる。脱保護基 反応としては、3臭化ボロン(BBr 3 )を用いたメチル基の脱離反応又はPd触媒など を用いた水素添加による脱ベンジル化反応な どが挙げられる。
 上記反応式[1]により、以下に示す上記式(4) 表される水酸基含有化合物を製造すること できる。
 R 1 がフェニレンの場合、反応式[2]の合成経路が 挙げられる。反応式[1]中のR 1 、R 2 は、式(1)で定義したのと同じであり、X 1 はメチル基またはベンジル基などの保護基を 表わし、X 3 はハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基 、ベンゼンスルホニルオキシ基、トリフルオ ロメタンスルホニルオキシ基、B(OH) 2 、MgBr、MgClまたはLiなどを表わし、X 4 は、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ 基、ベンゼンスルホニルオキシ基、トリフル オロメタンスルホニルオキシ基、B(OH) 2 、MgBr、MgClまたはLiなどを表わす。脱保護基 反応としては、BBr 3 を用いたメチル基の脱離反応またはPd触媒な を用いた水素添加による脱ベンジル化反応 どが挙げられる。
 上記反応式[2]により、以下に示す上記式(4) 表される水酸基含有化合物を製造すること できる。
 本発明のジアミンは、テトラカルボン酸、 トラカルボン酸ジハライド、テトラカルボ 酸二無水物など、テトラカルボン酸又はそ 誘導体と反応させることで側鎖に特定の構 を有するポリアミック酸を得ることができ 更には、このポリアミック酸を脱水閉環さ ることで側鎖に特定の構造を有するポリイ ドを得ることができる。

2.ポリアミック酸
 本発明のポリアミック酸は、式(1)で表され ジアミンを含有するジアミン成分とテトラ ルボン酸二無水物との反応によって得られ ポリアミック酸である。本発明のポリイミ はこのポリアミック酸を脱水閉環させて得 れるポリイミドである。かかるポリアミッ 酸及びポリイミドのいずれも液晶配向膜を るための重合体として有用である。

 上記テトラカルボン酸二無水物との反応 よりポリアミック酸を得るためのジアミン 分(以下、ジアミン成分ともいう)において 式(1)で表されるジアミンの含有割合に制限 ない。本発明のポリアミック酸又はポリイ ドを用いて得られる液晶配向膜は、上記ジ ミン成分における式(1)で表されるジアミン 含有割合が多くなるほど、液晶のプレチル 角が大きくなる。

 液晶のプレチルト角を大きくするという 的では、ジアミン成分の1モル%以上が式(1) 表されるジアミンであることが好ましい。 晶を垂直に配向させるという目的では、ジ ミン成分の10モル%以上が式(1)で表されるジ ミンであることが好ましく、より好ましく 15モル%以上である。

 液晶を垂直に配向させるという目的では ジアミン成分の100モル%が式(1)で表されるジ アミンであってもよいが、後述する液晶配向 処理剤を塗布する際の均一塗布性の観点から 、式(1)で表されるジアミンはジアミン成分の 80モル%以下が好ましく、より好ましくは40モ %以下である。

 上記ジアミン成分において、式(1)で表され ジアミンが100モル%未満の場合に使用される 、式(1)で表されるジアミン以外のジアミンは 特に限定されない。その具体例を以下に挙げ る。
 p-フェニレンジアミン
 m-フェニレンジアミン
 2,4-ジアミノトルエン
 2,5-ジアミノトルエン
 2,6-ジアミノトルエン
 2,4-ジメチル-1,3-ジアミノベンゼン
 2,5-ジメチル-1,4-ジアミノベンゼン
 2,3,5,6-テトラメチル-1,4-ジアミノベンゼン
 2,4-ジアミノフェノール
 2,5-ジアミノフェノール
 4,6-ジアミノレゾルシノール
 2,5-ジアミノ安息香酸
 3,5-ジアミノ安息香酸
 N,N-ジアリル-2,4-ジアミノアニリン
 N,N-ジアリル-2,5-ジアミノアニリン
 4-アミノベンジルアミン
 3-アミノベンジルアミン
 2-(4-アミノフェニル)エチルアミン
 2-(3-アミノフェニル)エチルアミン
 1,5-ナフタレンジアミン
 2,7-ナフタレンジアミン
 4,4’-ジアミノビフェニル
 3,4’-ジアミノビフェニル
 3,3’-ジアミノビフェニル
 2,2’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル
 3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル
 3,3’-ジメトキシ-4,4’-ジアミノビフェニル
 3,3’-ジヒドロキシ-4,4’-ジアミノビフェニ
 3,3’-ジカルボキシ-4,4’-ジアミノビフェニ
 3,3’-ジフルオロ-4,4’-ジアミノビフェニル
 2,2’-トリフルオロメチル-4,4’-ジアミノビ ェニル
 3,3’-トリフルオロメチル-4,4’-ジアミノビ ェニル
 4,4’-ジアミノジフェニルメタン
 3,3’-ジアミノジフェニルメタン
 3,4’-ジアミノジフェニルメタン
 4,4’-ジアミノジフェニルエーテル
 3,3’-ジアミノジフェニルエーテル
 3,4’-ジアミノジフェニルエーテル
 4,4’-ジアミノジフェニルスルホン
 3,3’-ジアミノジフェニルスルホン
 4,4’-ジアミノジフェニルアミン
 3,3’-ジアミノジフェニルアミン
 3,4’-ジアミノジフェニルアミン
 N-メチル(4,4’-ジアミノジフェニル)アミン
 N-メチル(3,3’-ジアミノジフェニル)アミン
 N-メチル(3,4’-ジアミノジフェニル)アミン
 4,4’-ジアミノベンゾフェノン
 3,3’-ジアミノベンゾフェノン
 3,4’-ジアミノベンゾフェノン
 4,4’-ジアミノベンズアニリド
 1,2-ビス(4-アミノフェニル)エタン
 1,2-ビス(3-アミノフェニル)エタン
 4,4’-ジアミノトラン
 1,3-ビス(4-アミノフェニル)プロパン
 1,3-ビス(3-アミノフェニル)プロパン
 2,2-ビス(4-アミノフェニル)プロパン
 2,2-ビス(3-アミノフェニル)プロパン
 2,2-ビス(3-アミノ-4-メチルフェニル)プロパ
 2,2-ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロ ロパン
 2,2-ビス(3-アミノフェニル)ヘキサフルオロ ロパン
 2,2-ビス(3-アミノ-4-メチルフェニル)ヘキサ ルオロプロパン
 1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)プロパン
 1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ブタン
 1,5-ビス(4-アミノフェノキシ)ペンタン
 1,6-ビス(4-アミノフェノキシ)へキサン
 1,7-ビス(4-アミノフェノキシ)ヘプタン
 1,8-ビス(4-アミノフェノキシ)オクタン
 1,9-ビス(4-アミノフェノキシ)ノナン
 1,10-ビス(4-アミノフェノキシ)デカン
 1,11-ビス(4-アミノフェノキシ)ウンデカン
 1,12-ビス(4-アミノフェノキシ)ドデカン
 ビス(4-アミノフェニル)プロパンジオアート
 ビス(4-アミノフェニル)ブタンジオアート
 ビス(4-アミノフェニル)ペンタンジオアート
 ビス(4-アミノフェニル)ヘキサンジオアート
 ビス(4-アミノフェニル)ヘプタンジオアート
 ビス(4-アミノフェニル)オクタンジオアート
 ビス(4-アミノフェニル)ノナンジオアート
 ビス(4-アミノフェニル)デカンジオアート
 1,4-ビス(4-アミノフェニル)ベンゼン
 1,3-ビス(4-アミノフェニル)ベンゼン
 1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン
 1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン
 1,4-ビス(4-アミノベンジル)ベンゼン
 1,3-ビス(4-アミノベンジル)ベンゼン
 ビス(4-アミノフェニル)テレフタラート
 ビス(3-アミノフェニル)テレフタラート
 ビス(4-アミノフェニル)イソフタラート
 ビス(3-アミノフェニル)イソフタラート
 1,4-フェニレンビス[(4-アミノフェニル)メタ ン]
 1,4-フェニレンビス[(3-アミノフェニル)メタ ン]
 1,3-フェニレンビス[(4-アミノフェニル)メタ ン]
 1,3-フェニレンビス[(3-アミノフェニル)メタ ン]
 1,4-フェニレンビス(4-アミノベンゾアート)
 1,4-フェニレンビス(3-アミノベンゾアート)
 1,3-フェニレンビス(4-アミノベンゾアート)
 1,3-フェニレンビス(3-アミノベンゾアート)
 N,N’-(1,4-フェニレン)ビス(4-アミノベンズア ミド)
 N,N’-(1,3-フェニレン)ビス(4-アミノベンズア ミド)
 N,N’-(1,4-フェニレン)ビス(3-アミノベンズア ミド)
 N,N’-(1,3-フェニレン)ビス(3-アミノベンズア ミド)
 ビス(4-アミノフェニル)テレフタルアミド
 ビス(3-アミノフェニル)テレフタルアミド
 ビス(4-アミノフェニル)イソフタルアミド
 ビス(3-アミノフェニル)イソフタルアミド
 2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プ パン
 2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ヘ サフルオロプロパン
 4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ジフェニル ルホン
 2,6-ジアミノピリジン
 2,4-ジアミノピリジン
 2,4-ジアミノ-1,3,5-トリアジン
 2,6-ジアミノジベンゾフラン
 2,7-ジアミノジベンゾフラン
 3,6-ジアミノジベンゾフラン
 2,6-ジアミノカルバゾール
 2,7-ジアミノカルバゾール
 3,6-ジアミノカルバゾール
 2,4-ジアミノ-6-イソプロピル-1,3,5-トリアジ
 2,5-ビス(4-アミノフェニル)-1,3,4-オキサジア ール
 1,3-ジアミノプロパン
 1,4-ジアミノブタン
 1,5-ジアミノペンタン
 1,6-ジアミノへキサン
 1,7-ジアミノヘプタン
 1,8-ジアミノオクタン
 1,9-ジアミノノナン
 1,10-ジアミノデカン
 1,11-ジアミノウンデカン
 1,12-ジアミノドデカン
 1,4-ジアミノシクロヘキサン
 1,3-ジアミノシクロヘキサン
 ビス(4-アミノシクロヘキシル)メタン
 ビス(4-アミノ-3-メチルシクロヘキシル)メタ ン

 本発明のポリアミック酸を得るためにジア ン成分と反応させるテトラカルボン酸二無 物は特に限定されない。あえて、その具体 を挙げるとすれば以下の通りである。
 ピロメリット酸二無水物
 2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水
 1,2,5,6-ナフタレンテトラカルボン酸二無水
 1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸二無水
 2,3,6,7-アントラセンテトラカルボン酸二無 物
 1,2,5,6-アントラセンテトラカルボン酸二無 物
 3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二 水物
 2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二 水物
 2,3,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二 水物
 3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン 二無水物
 2,3,3’,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン 二無水物
 ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無 物
 ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エーテル二 水物
 ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)スルホン二 水物
 2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン 二無水物
 2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)ヘキサフ ルオロプロパン二無水物
 2,5-ジカルボキシメチルテレフタル酸二無水 物
 4,6-ジカルボキシメチルイソフタル酸二無水 物
 4-(2,5-ジオキソテトラヒドロ-3-フラニル)フ ル酸無水物
 1,4-ビス(2,5-ジオキソテトラヒドロ-3-フラニ )ベンゼン
 1,4-ビス(2,6-ジオキソテトラヒドロ-4-ピラニ )ベンゼン
 1,4-ビス(2,5-ジオキソテトラヒドロ-3-メチル- 3-フラニル)ベンゼン
 1,4-ビス(2,6-ジオキソテトラヒドロ-4-メチル- 4-ピラニル)ベンゼン
 1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸二無水物
 1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無 物
 1,2-ジメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカル ボン酸二無水物
 1,3-ジメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカル ボン酸二無水物
 1,2,3,4-テトラメチル-1,2,3,4-シクロブタンテ ラカルボン酸二無水物
 1,2,3,4-シクロペンタンテトラカルボン酸二 水物
 2,3,4,5-テトラヒドロフランテトラカルボン 二無水物
 2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二 水物
 1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二 水物
 4-(2,5-ジオキソテトラヒドロ-3-フラニル)-シ ロヘキサン-1,2-ジカルボン酸無水物
 5-(2,5-ジオキソテトラヒドロ-3-フラニル)-3- チル-3-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水 物
 ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカ ルボン酸二無水物
 3,4-ジカルボキシ-1,2,3,4-テトラヒドロ-1-ナフ タレンコハク酸二無水物
 3,4-ジカルボキシ-1,2,3,4-テトラヒドロ-6-メチ ル-1-ナフタレンコハク酸二無水物
 ビシクロ[3.3.0]オクタン-2,4,6,8-テトラカルボ ン酸二無水物
 3,3’,4,4’-ジシクロヘキシルテトラカルボ 酸二無水物
 2,3,5,6-ノルボルナンテトカラルボン酸二無 物
 3,5,6-トリカルボキシノルボルナン-2-酢酸二 水物、
 トリシクロ[4.2.1.0 2,5 ]ノナン-3,4,7,8-テトラカルボン酸二無水物
 テトラシクロ[4.4.1.0 2,5 .0 7,10 ]ウンデカン-3,4,8,9-テトラカルボン酸二無水
 ヘキサシクロ[6.6.0.1 2,7 .0 3,6 .1 9,14 .0 10,13 ]ヘキサデカン-4,5,11,12-テトラカルボン酸二無 水物
 1,4-ビス(2,5-ジオキソテトラヒドロ-3-フラニ )ヘキサン
 1,4-ビス(2,6-ジオキソテトラヒドロ-4-ピラニ )ヘキサン
 前記のジアミン成分とテトラカルボン酸二 水物とを反応させる方法としては、有機溶 中でジアミン成分とテトラカルボン酸二無 物とを混合する方法が簡便である。

 この有機溶媒としては、生成したポリア ック酸が溶解するものであれば特に限定さ ない。その具体例を挙げるならば、N,N-ジメ チルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミ 、N-メチル-2-ピロリドン、N-メチルカプロラ タム、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラ トンなどである。これらは単独で使用して 、混合して使用してもよい。さらには、単 ではポリアミック酸を溶解させない貧溶媒 あっても、生成したポリアミック酸が析出 ない範囲で、上記溶媒に混合して使用して よい。また、有機溶媒中の水分は重合反応 阻害し、さらには生成したポリアミック酸 加水分解させる原因となるので、有機溶媒 なるべく脱水乾燥させたものを用いること 好ましい。

 有機溶媒中でジアミン成分とテトラカル ン酸二無水物とを混合する方法としては、 アミンを有機溶媒に分散あるいは溶解させ 溶液を攪拌させ、テトラカルボン酸二無水 をそのまま、又は有機溶媒に分散あるいは 解させて添加する方法、逆にテトラカルボ 酸二無水物を有機溶媒に分散あるいは溶解 せた溶液にジアミンを添加する方法、テト カルボン酸二無水物とジアミンとを有機溶 に交互又は同時に添加する方法などが挙げ れ、これらのいずれの方法であってもよい

 上記のポリアミック酸の合成時の反応温度 -20~150℃の任意の温度を選択することができ るが、好ましくは-5~100℃の範囲である。
また、反応は任意の濃度で行うことができる が、原料のジアミン成分とテトラカルボン酸 二無水物の濃度が低すぎると高分子量の重合 体を得ることが難しくなり、濃度が高すぎる と反応液の粘性が高くなり過ぎて均一な攪拌 が困難となるので、好ましくは1~50質量%、よ 好ましくは5~30質量%である。反応初期は高 度で行い、その後、有機溶媒を追加しても わない。

 ポリアミック酸の合成反応において、ジア ン成分のモル数に対する、テトラカルボン 二無水物のモル数の比は0.8~1.2であることが 好ましい。通常の重縮合反応同様、このモル 比が1.0に近いほど生成するポリアミック酸の 分子量は大きくなる。
 本発明のポリアミック酸の分子量は特に限 されない。後述する液晶配向処理剤を塗布 る際の作業性、塗膜の均一性、得られる塗 の強度を考慮した場合、GPC(Gel Permeation Chro matography)法で測定した重量平均分子量で5,000~3 00,000とするのが好ましく、より好ましくは、 10,000~150,000である。

3.ポリイミド
 本発明のポリイミドは前記のポリアミック を脱水閉環させて得られるポリイミドであ 、液晶配向膜を得るための重合体として有 である。
 本発明のポリイミドにおいて、アミック酸 の脱水閉環率(イミド化率)は、必ずしも100% ある必要はなく、用途や目的に応じて任意 調整すればよい。
 ポリアミック酸を脱水閉環させる方法とし は、触媒を使用せずにポリアミック酸を加 する熱イミド化、触媒を使用する触媒イミ 化が挙げられる。
 ポリアミック酸を熱イミド化させる場合は ポリアミック酸の溶液を100~400℃、好ましく は120~250℃に加熱し、イミド化反応により生 する水を系外に除きながら行う方が好まし 。

 ポリアミック酸の触媒イミド化は、ポリ ミック酸の溶液に、塩基性触媒と酸無水物 を添加し、-20~250℃、好ましくは0~180℃で攪 することにより行うことができる。塩基性 媒の量はアミック酸基の0.5~30モル倍、好ま くは2~20モル倍であり、酸無水物の量はアミ ック酸基の1~50モル倍、好ましくは3~30モル倍 ある。

 塩基性触媒としてはピリジン、トリエチル ミン、トリメチルアミン、トリブチルアミ 、トリオクチルアミンなどを挙げることが き、中でもピリジンは反応を進行させるの 適度な塩基性を持つので好ましい。
 酸無水物としては、無水酢酸、無水トリメ ット酸、無水ピロメリット酸などを挙げる とができ、中でも無水酢酸を用いると反応 了後の精製が容易となるので好ましい。触 イミド化によるイミド化率は、触媒量と反 温度、反応時間を調節することにより制御 ることができる。

 本発明のポリイミドの分子量は特に限定 れない。後述する液晶配向処理剤を塗布す 際の作業性、塗膜の均一性、得られる塗膜 強度を考慮した場合、GPC法で測定した重量 均分子量で5,000~300,000とするのが好ましく、 より好ましくは、10,000~150,000である。

 ポリアミック酸又はポリイミドの反応溶 から、ポリマー成分を回収する場合には、 応溶液を貧溶媒に投入して沈殿させればよ 。沈殿に用いる貧溶媒としてはメタノール アセトン、ヘキサン、ブチルセルソルブ、 プタン、メチルエチルケトン、メチルイソ チルケトン、エタノール、トルエン、ベン ン、水などを挙げることができる。貧溶媒 投入して沈殿させたポリマーは、濾過して 収した後、常圧あるいは減圧下で、常温あ いは加熱して乾燥することが好ましい。

4.液晶配向処理剤
 本発明の液晶配向処理剤は、液晶配向膜を 製するための塗布液であり、その主成分が 樹脂被膜を形成するための重合体成分と、 の重合体成分を溶解させる有機溶媒とを含 する組成物である。

 本発明の液晶配向処理剤は、上記樹脂成 として上記の本発明のポリアミック酸及び リイミドの少なくともいずれか一方(以下、 本発明の重合体ともいう)を含有するもので る。樹脂成分における本発明の重合体の含 量は5質量%以上であることが好ましく、より 好ましくは10質量%以上である。

 上記樹脂成分は、全てが本発明の重合体 あってもよく、本発明の重合体にそれ以外 他の重合体が混合されていてもよい。かか 他の重合体の例としては、テトラカルボン ニ無水物と反応させるジアミン成分として 式(1)で表されるジアミン以外のジアミンを 用して得られるポリアミック酸又はポリイ ドなどが挙げられる。

 樹脂成分を溶解させる有機溶媒は特に限 されない。具体例としては、N,N-ジメチルホ ルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メ チル-2-ピロリドン、N-メチルカプロラクタム ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン どが挙げられる。これら有機溶媒は、樹脂 溶解性が高い良溶媒となる。

 また、上記の良溶媒に加えて、液晶配向 理剤の塗布均一性を高くするため、重合体 溶解性が低い貧溶媒を使用することが好ま い。本発明において、好ましい貧溶媒とし は、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ エチルカルビトール、ブチルカルビトール ジエチレングリコールジエチルエーテル、 エチレングリコールモノエチルエーテル、 エチレングリコールモノブチルエーテル、 チルカルビトールアセテート、エチレング コール、エチレングリコールモノへキシル ーテル、1-メトキシ-2-プロパノール、1-エト キシ-2-プロパノール、1-ブトキシ-2-プロパノ ル、1-フェノキシ-2-プロパノール、プロピ ングリコールモノアセテート、プロピレン リコールジアセテート、プロピレングリコ ル-1-モノメチルエーテル-2-アセテート、プ ピレングリコール-1-モノエチルエーテル-2- セテート、ジプロピレングリコール、ジプ ピレングリコールモノメチルエーテル、ジ ロピレングリコールモノエチルエーテル、4- ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン、2-(2-エト シプロポキシ)プロパノール、乳酸メチルエ ステル、乳酸エチルエステル、乳酸n-プロピ エステル、乳酸n-ブチルエステル、乳酸イ アミルエステルが挙げられる。この貧溶媒 、液晶配向処理剤に含有される有機溶媒の5~ 60質量%であることが好ましく、より好ましく は10~50質量%である。

 本発明の液晶配向処理剤における樹脂成分 濃度は、得ようとする液晶配向膜の膜厚、 び液晶配向処理剤の塗布に使用する装置な にあわせて、適宜調整することができる。 晶配向処理剤の一般的な樹脂濃度としては1 ~20質量%、好ましくは2~10質量%を例示すること ができる。
 本発明の液晶配向処理剤には、上記以外の 分を含有してもよい。その例としては、液 配向膜と基板との密着性を向上させるため 官能性シラン含有化合物やエポキシ基含有 合物、塗膜の平坦化性を高めるためのフッ 系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、 二オン系界面活性剤などが挙げられる。

 官能性シラン含有化合物やエポキシ基含有 合物を含有させる場合、その量はいずれも 脂成分100質量部に対して0.1~30質量部である とが好ましく、より好ましくは1~20質量部で あり、特に好ましくは1~10質量部である。
 界面活性剤を含有させる場合、その量は、 脂成分100質量部に対して、好ましくは0.01~2 量部、より好ましくは0.01~1質量部である。

5.液晶配向膜及び液晶表示素子
 本発明の液晶配向処理剤は、市販のポリイ ド系液晶配向処理剤と同様に、基板上に塗 、焼成した後、ラビング処理や光照射など 配向処理をして、又は一部の垂直配向用途 どでは配向処理無しで液晶配向膜とするこ ができる。

 本発明の液晶配向処理剤の塗布方法は特 限定されないが、スクリーン印刷、フレキ 印刷、オフセット印刷、インクジェットな によって行う方法が一般的である。その他 塗布液を用いる方法としては、ディップ、 ールコーター、スリットコーター、スピン ーなどがあり、目的に応じてこれらを用い もよい。これらの方法により基板上に塗布 た後、ホットプレートなどの加熱手段によ 溶媒を蒸発させて、塗膜を形成させること できる。

 液晶配向処理剤を塗布した後の焼成は、100~ 300℃の任意の温度で行うことができるが、好 ましくは150℃~250℃である。この焼成はホッ プレート、熱風循環炉、赤外線炉などで行 ことができる。
 ラビング処理には、レーヨン布、ナイロン 、コットン布などを使用することができる 垂直配向用の液晶配向膜は、ラビング処理 よって均一な配向状態を得ることが難しい で、垂直配向用液晶配向処理剤として用い 場合には、ラビングせずに用いることが好 しい。

 本発明の液晶セルは通常の方法により作製 ることができ、その作製方法は特に限定さ るものではない。一般的には、少なくとも 方の基板上に液晶配向膜が形成されたガラ 基板にシール剤を塗布し、一定のギャップ 保持できるようにスペーサーを分散し、そ 後、2枚の基板を貼り合わせシール剤を硬化 させて空セルを作製し、その後に真空下、液 晶注入口から液晶を注入し、注入口を封止し て液晶セルを作製する方法;或いは、スペー ーを分散した基板上に液晶を滴下し、その に2枚の基板を貼り合わせて液晶セルを作製 る方法などを用いることができる。液晶と ては、用途に応じて正や負の誘電率異方性 有するフッ素系液晶やシアノ系液晶などを いることができる。
 上記のようにして本発明の液晶配向処理剤 ら得られる液晶配向膜は、液晶に大きなプ チルト角を与えることができ、各種用途の 晶配向膜として使用できる。

 以下に本発明を実施例を挙げて具体的に 明するが、本発明はこれらの実施例に限定 て解釈されないことはもちろんである。

「本発明のジアミンの合成」
<実施例1>
 ジアミン[9]の合成

 窒素置換した4つ口フラスコ中に4-メトキシ ェニルマグネシウムブロミド[1](0.5M-テトラ ドロフラン溶液、2.4リットル(L)、1.20mol)と トラヒドロフラン(200mL)を加えた。0℃に反応 器を冷却後、4-(トランス-4-n-ペンチルシクロ キシル)シクロヘキサノン[2](300g、1.20mol)の トラヒドロフラン(280g)溶液を滴下した。滴 終了後、25℃まで徐々に昇温した後、さらに 25℃にて15時間攪拌した。反応終了後、反応 を0℃に冷却した後、10%酢酸水溶液(1.0L)を徐 に滴下した。その後、分液操作にて水層を 去、トルエン(2.4L)を加え、飽和食塩水(1.0L) 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(1.0L)、飽和 塩水(1.0L)にて洗浄した。無水硫酸マグネシ ムにて有機層を乾燥後、減圧下、溶媒を留 した。得られた化合物[3](シス-トランス異 体混合物)(430g)をそのまま次の反応に使用し 。
 なお、得られた化合物の 1 H-NMRは、TMS(Si(CH 3 ) 4 )を基準物質として、重水素化クロロホルム で、NMR測定装置(400MHz)を用いて行った。化合 物[3]の測定結果を以下に示すが、他の化合物 についても同様である。
化合物[3](シス-トランス異性体混合物);
1 H-NMR(400MHz,CDCl 3 ,δppm):7.47-7.30(2H,m),6.98-6.82(2H,m),3.81-3.79(3H,m),2.34 -0.81(30H,m).

 化合物[3](シス-トランス異性体混合物)(430g 1.20mol)とp-トルエンスルホン酸一水和物(13.1g 72.0mmol)の脱水トルエン(2.5L)混合物を、還流 、水を抜きながら2時間反応させた。反応終 了後、温度80℃にし、飽和炭酸水素ナトリウ 水溶液(1.5L)、飽和食塩水(1.5L)にて洗浄した 無水硫酸マグネシウムにて有機層を乾燥後 減圧下、溶媒を留去した。得られた粗物を 酸エチル/エタノール(1:1 v/v)混合溶媒にて 結晶し、化合物[4](シス-トランス異性体混合 物)を得た(得量379g、得率89%)。
化合物[4](シス-トランス異性体混合物);
1 H-NMR(400MHz,CDCl 3 ,δppm):7.32(2H,d),6.84(2H,d),6.02(1H,m),3.80(3H,s),2.48-1.7 5(9H,m),1.38-0.86(19H,m).

 化合物[4](379g、1.10mol)、5%パラジウムカーボ (含水、19.0g、5wt%)、酢酸エチル1L、エタノー ル(1L)の混合物を、水素存在下にて、室温(25 )で攪拌した。反応終了後、反応混合物をセ イトにて濾過し、セライトをトルエン(1L)で 洗浄した。濾液を減圧下にて濃縮したところ 、化合物[5](シス-トランス異性体混合物)を得 た(得量347g、得率91%)。
化合物[5](シス-トランス異性体混合物);
1 H-NMR(400MHz,CDCl 3 ,δppm):7.14(2H,m),6.83(2H,m),3.78(3H,s),2.64-2.35(1H,m),1.8 8-1.52(8H,m),1.49-0.74(22H,m).

 0℃、窒素置換下、化合物[5](シス-トランス 性体混合物)(347g、1.00mol)の塩化メチレン2.0L 液中に、三臭化ホウ素(1.0M-ジクロロメタン 液、1.0L、1.00mol)を滴下した。滴下後、0℃で 2時間攪拌した。反応終了後、蒸留水中に、 応液を少しずつ加えた。酢酸エチル(2.0L)に 抽出し、抽出液を蒸留水(1.0L)で2回洗浄した 有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥後、溶 を減圧下にて留去した。得られた粗物をエ ノールにて再結晶し、エタノールにて洗浄 行ったところ、化合物[6](トランス異性体) 得た(得量183g、得率55%)。化合物[6]の1,4-シク へキシレンのシス-トランス異性は、それぞ れトランス異性体である。
化合物[6](トランス異性体);
1 H-NMR(400MHz,CDCl 3 ,δppm):7.07(2H,d),6.75(2H,d),4.60(1H,s),2.37(1H,m),1.90-1.7 1(8H,m),1.39-0.84(22H,m).

 化合物[6](トランス異性体)(20.0g、61.0mmol)、 酸カリウム(25.3g、183mmol)、トルエン(149g)の混 合物中に、還流下、1-クロロ-2,4-ジニトロベ ゼン[7](12.4g、61.0mmol)のトルエン(49.0g)溶液を 下した。滴下後、還流にて一晩攪拌した。 応終了後、反応液を蒸留水にて3回洗浄した 。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥後 、溶媒を減圧下にて留去した。得られた粗物 を、2-プロパノールにて再結晶し、エタノー にて洗浄したところ、化合物[8](トランス異 性体)を得た(得量27.4g、得率90%)。化合物[8]の1 ,4-シクロへキシレンのシス-トランス異性は それぞれトランス異性体である。
化合物[8](トランス異性体);
1 H-NMR(400MHz,CDCl 3 ,δppm):8.84(1H,d),8.30(1H,dd),7.30(2H,d),7.04(3H,m),2.50(1H ,t),1.96-1.76(8H,m),1.49-0.86(22H,m).

 化合物[8](トランス異性体)(27.4g、55.0mmol)、5% パラジウムカーボン(2.74g、10wt%)、1,4-ジオキ ン(329g)の混合物を、水素存在下、26℃、4時 攪拌した。反応終了後、セライトで濾過し 。濾液を、減圧下、溶媒留去したところ、 物を得た。その粗物をエタノール/酢酸エチ (1:1 v/v)混合溶媒で再結晶することにより、 ジアミン[9](トランス異性体)を得た(得量22.0g 得率91%)。化合物[9]の1,4-シクロへキシレン シス-トランス異性は、それぞれトランス異 体である。
ジアミン[9](トランス異性体);
1 H-NMR(400MHz,CDCl 3 ,δppm):7.09(2H,d),6.84(2H,d),6.73(1H,d),6.17(1H,d),6.08(1H, dd),3.57(4H,broad),2.39(1H,t),1.90-1.71(8H,m),1.39-0.86(22H, m).

<実施例2>
 ジアミン[15]の合成

 4-(トランス-4-n-ペンチルシクロヘキシル)ブ モベンゼン[10](50.0g、162mmol)、4-メトキシフ ニルボロン酸[11](36.9g、243mmol)、トルエン(1.4L )、エタノール(0.16L)、及び炭酸ナトリウム水 液(炭酸ナトリウム(44.6g、0.42mol)/蒸留水0.6L) 混合溶液を、窒素ガスにより脱気した。こ 溶液に、窒素雰囲気下でPd(PPh 3 ) 4 (0.934g、0.808mmol)を加えた後、90℃で6時間攪拌 た。反応終了後、有機層を分取し、蒸留水( 0.5L)で2回洗浄した。有機層を硫酸マグネシウ ムにて乾燥後、溶媒を減圧下にて留去した。 得られた粗物を酢酸エチル/ヘキサン(1:1 v/v) 合溶媒にて再結晶し、ヘキサンで洗浄を行 たところ、化合物[12](トランス異性体)を得 (得量40.0g、得率73%)。化合物[12]の1,4-シクロ キシレンのシス-トランス異性はトランス異 性体である。
化合物[12](トランス異性体);
1 H-NMR(400MHz,CDCl 3 ,δppm):7.51(2H,d),7.47(2H,d),7.26(2H,d),6.96(2H,d),3.84(3H, s),2.50(1H,t),1.90(4H,t),1.53-1.42(2H,m),1.36-1.20(9H,m),1.1 2-1.01(2H,m),0.90(3H,t).

 0℃、窒素置換下、化合物[12](トランス異性 )(40.0g、120mmol)のジクロロメタン(500mL)溶液中 に、三臭化ホウ素(1.0M-ジクロロメタン溶液(12 0mL、120mmol)を滴下した。滴下後、0℃で2時間 拌した。反応終了後、蒸留水(500mL)中に、反 液を少しずつ加えた。酢酸エチル(500mL)にて 抽出し、抽出液を蒸留水(300mL)で2回洗浄した 有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥後、溶 を減圧下にて留去した。得られた粗物を酢 エチル/ヘキサン(1:1 v/v)混合溶媒にて再結 し、ヘキサンで洗浄を行ったところ、化合 [13](トランス異性体)を得た(得量29.5g、得率77 %)。化合物[13]の1,4-シクロへキシレンのシス- ランス異性はトランス異性体である。
化合物[13](トランス異性体);
1 H-NMR(400MHz,CDCl 3 ,δppm):7.47-7.45(4H,m),7.26(2H,d),6.88(2H,d),4.82(1H,s),2.4 9(1H,t),1.90(4H,t),1.55-1.40(2H,m),1.36-1.21(9H,m),1.12-1.01 (2H,m),0.90(3H,t).

 化合物[13](トランス異性体)(15.3g、47.5mmol)、 酸カリウム(19.7g、140mmol)、及びトルエン(69.0 g)の混合物中に、還流下、1-クロロ-2,4-ジニト ロベンゼン[7](9.62g、48.0mmol)のトルエン(35.0g) 液を滴下した。滴下後、還流にて5時間攪拌 た。反応終了後、反応液を蒸留水にて2回洗 浄した。有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥 後、溶媒を減圧下にて留去した。得られた粗 物を、2-プロパノールにて洗浄したところ、 合物[14](トランス異性体)を得た(得量21.0g、 率90%)。化合物[14]の1,4-シクロへキシレンの ス-トランス異性はトランス異性体である。
化合物[14](トランス異性体);
1 H-NMR(400MHz,CDCl 3 ,δppm):8.87(1H,d),8.34(1H,dd),7.67(2H,d),7.51(2H,d),7.31(2H ,d),7.19(2H,d),7.12(1H,d),2.53(1H,t),1.92(4H,t),1.55-1.42(2H ,m),1.36-1.20(9H,m),1.14-1.01(2H,m),0.90(3H,t).

 化合物[14](トランス異性体)(21.0g、430mol)、5%- パラジウムカーボン(2.1g、10wt%)、及び1,4-ジオ キサン(240g)の混合物を、水素雰囲気下、還流 にて32時間攪拌後、25℃にて72時間攪拌した。 反応終了後、セライトで濾過した。濾液を、 減圧下、溶媒留去したところ、粗物を得た。 その粗物をトルエンで2回再結晶し、ジアミ [15](トランス異性体)を得た(得量9.42g、得率51 %)。化合物[15]の1,4-シクロへキシレンのシス- ランス異性はトランス異性体である。
ジアミン[15](トランス異性体);
1 H-NMR(400MHz,CDCl 3 ,δppm):7.47(2H,d),7.45(2H,d),7.25(2H,d),6.97(2H,d),6.78(1H, d),6.19(1H,d),6.10(1H,dd),3.62(4H,brord),2.49(1H,t),1.90(4H, t),1.54-1.40(2H,m),1.36-1.20(9H,m),1.13-1.00(2H,m),0.90(3H,t ).

<実施例3>
 ジアミン[18]の合成
 実施例<1>と同様の合成方法で、化合物[ 16]を用い、化合物[17](トランス異性体)を経て ジアミン[18](トランス異性体)を得た。
 化合物[17]及びジアミン[18]の1,4-シクロへキ レンのシス-トランス異性は、それぞれトラ ンス異性体である。
化合物[17](トランス異性体);
1 H-NMR(400MHz,CDCl 3 ,δppm):8.84(d,1H),8.29(dd,1H),7.30(d,2H),7.04(d,2H),7.03(d, 1H),2.56-2.42(m,1H),1.96-1.82(m,4H),1.81-1.70(m,4H),1.50-1.3 6(m,2H),1.35-1.20(m,10H),1.20-0.95(m,9H),0.88(t,3H),0.95-0.8 0(m,H).
ジアミン[18](トランス異性体);
1 H-NMR(400MHz,CDCl 3 ,δppm):7.09(d,2H),6.84(d,2H),6.73(d,1H),6.17(d,1H),6.08(dd, 1H),3.66(bs,2H),3.49(bs,2H),2.44-2.34(m,1H),1.93-1.70(m,8H), 1.45-1.20(m,12H),1.20-0.92(m,9H),0.88(t,3H),0.90-0.78(m,2H).

 <合成例1>
ジアミン[23]の合成

 室温下、窒素置換した4つ口フラスコ中に4- ロモ-4’-(n-ペンチル)ビフェニル[19](25.0g、82 .4mmol)とテトラキス(トリフェニルホスフィン) パラジウム(0)(4.76g、4.12mmol)を加えた後、4-メ キシフェニルマグネシウムブロミド[1](0.5M- トラヒドロフラン溶液、280mL、140mmol)を加え 、その後、加熱還流を行った。反応終了後、 室温まで冷却し固体を析出させた後、酢酸エ チル(200g)/1M塩酸(280mL)に反応液をあけ、ろ過 行った。得られた固体を水洗し、酢酸エチ にて洗浄後、乾燥させ黄白色固体の化合物[2 0]を得た(得量26.8g、得率98%)。
化合物[20];
1 H-NMR(400MHz,CDCl 3 ,δppm):7.66-7.54(8H,m),7.23(2H,d),7.0-6.98(2H,m),3.86(3H,s) ,2.65(2H,t),1.68-1.64(2H,m),1.40-1.33(4H,m),0.93-0.89(3H,m).

 0℃、窒素置換下、化合物[20](25.0g、75.7mmol) 脱水ジクロロメタン(300g)溶液中に、三臭化 ウ素(1.0M-ジクロロメタン溶液、75.7mL、75.7mmol )を滴下した。滴下後、0℃で2時間撹拌反応さ せ、反応終了後、蒸留水中に、反応液を少し ずつ加えた。60℃に暖めた酢酸エチル2.5Lにて 抽出し、有機層を蒸留水300mLで2回洗浄した。 有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥後、溶媒 が500mL程度になるまで濃縮を行った。析出し 固体をろ過し、酢酸エチルで洗浄後、乾燥 せ、橙桃色固体の化合物[21]を得た(得量19.1g 、得率80%)。
化合物[21];
1 H-NMR(400MHz,CDCl 3 ,δppm):9.58(1H,s),7.69-7.64(4H,m),7.61-7.59(2H,m),7.55-7.53 (2H,m),7.27(2H,d),6.88-6.86(2H,m),2.60(2H,t),1.64-1.56(2H,m) ,1.35-1.28(4H,m),0.87(3H,t).

 化合物[21](10.0g、31.6mmol)、炭酸カリウム(13.10 g、31.6mmol)、トルエン(46g)の混合物中に、還流 下、1-クロロ-2,4-ジニトロベンゼン[7](6.40g、31 .6mmol)のトルエン(31g)溶液を滴下した。滴下後 、還流にて17時間反応を行った。反応終了後 反応液に酢酸エチル(2.5L)と蒸留水を(200g)加 た後、分液にて水層を除去した。その後、 機層を蒸留水(200mL)にて3回洗浄した。有機 を無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、溶媒 減圧下にて留去した。得られた粗物に酢酸 チル(50g)を加え、超音波装置にて分散洗浄し た後、ろ過、乾燥を行い、白色固体の化合物 [22]を得た(得量12.1g、得率79%)。
化合物[22];
1 H-NMR(400MHz,CDCl 3 ,δppm):8.92(1H,d),8.48(1H,dd),7.89-7.87(2H,m),7.81-7.75(4H, m),7.65-7.63(2H,m),7.39-7,37(2H,m),7.31-7.27(3H,m),2.62(2H,t ),1.63-1.59(2H,m),1.34-1.29(4H,m),0.88(3H,t).

 化合物[22](11.0g、22.8mmol)、5%パラジウムカー ン(1.1g、10wt%)、1,4-ジオキサン(165g)の混合物 、水素存在下、65℃にて攪拌した。反応終 後、セライトでろ過した後、ろ液を、減圧 、溶媒留去したところ、粗物を得た。その 物にジオキサン(50g)を加え、超音波装置にて 分散洗浄を行った後、ろ過、乾燥を行い薄桃 白色固体のジアミン[23]を得た(得量7.8g、得率 81%)。
ジアミン[23];
1 H-NMR(400MHz,CDCl 3 ,δppm):7.72-7.66(4H,m),7.66-7.60(4H,m),7.28(2H,d),6.94-6.90 (2H,m),6.58(1H,d),6.06(1H,d),5.86(1H,dd),4.75(2H,s),4.60(2H, s),2.61(2H,t),1.64-1.56(2H,m),1.35-1.28(4H,m),0.82(3H,t).

「本発明のポリアミック酸又はポリイミドの 合成」
 以下の実施例および比較例で使用する化合 の略号および構造
(テトラカルボン酸二無水物)
 BODA:ビシクロ[3.3.0]オクタン-2,4,6,8-テトラカ ボン酸二無水物
 CBDA:1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二 無水物

(ジアミン)
 p-PDA:p-フェニレンジアミン
 DBA:3,5-ジアミノ安息香酸
 DAA:N,N-ジアリル-2,4-ジアミノアニリン
 PBCH5DAB:1,3-ジアミノ-4-{4-〔トランス-4-(トラ ス-4-n-ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキ ル〕フェノキシ}ベンゼン
 BPCH5DAB:1,3-ジアミノ-4-{4-〔4-(トランス-4-n-ペ チルシクロヘキシル)フェニル〕フェノキシ }ベンゼン
 PBCH7DAB:1,3-ジアミノ-4-{4-〔トランス-4-(トラ ス-4-n-ヘプチルシクロヘキシル)シクロヘキ ル〕フェノキシ}ベンゼン
 m-PBCH5DABEs:3,5-ジアミノ-{4-〔トランス-4-(トラ ンス-4-n-ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキ シル〕フェニル}ベンゾアート
 PCH7DAB:1,3-ジアミノ-4-〔4-(トランス-4-n-ヘプ ルシクロヘキシル)フェノキシ〕ベンゼン
 PBP5DAB:1,3-ジアミノ-4-〔(4-n-ペンチルフェニ )フェノキシ〕ベンゼン

(備考)
 PBCH5DABは、実施例1と同様の操作で合成した アミン[9]である。
 BPCH5DABは、実施例2と同様の操作で合成した アミン[15]である。
 PBCH7DABは、実施例3と同様の操作で合成した アミン[18]である。
 m-PBCH5DABEsは、実施例1と同様の操作で合成し た化合物[6]を用い、特開2004-67589号公報の実 例に準じて合成した。
 PCH7DABは、特開平9-278724号公報の実施例に準 て合成した。
 PBP5DABは、合成例1と同様の操作で合成した アミン[23]である。

(有機溶媒)
 NMP:N-メチル-2-ピロリドン
 BCS:ブチルセロソルブ
 以下の実施例で用いる測定方法を下記に示 。
[分子量]
 本実施例において、ポリイミドの分子量は Shodex社製常温ゲル浸透クロマトグラフィー( GPC)装置(GPC-101)、Shodex社製カラム(KD-803、KD-805) を用い以下のようにして測定した。
カラム温度:50℃
溶離液:N,N-ジメチルホルムアミド(添加剤とし て、臭化リチウム-水和物(LiBr・H 2 O)が30.0mmol/L、リン酸・無水結晶(o-リン酸)が30 .0mmol/L、テトラヒドロフランが10.0ml/L)
流速:1.00mL/分
検量線作成用標準サンプル:東ソー社製 TSK  準ポリエチレンオキサイド(分子量 約900,000 、150,000、100,000、30,000)、および、ポリマーラ ボラトリー社製 ポリエチレングリコール(分 子量 約12,000、4,000、1,000)。
[イミド化率]
 本実施例において、ポリイミドのイミド化 は次のようにして測定した。
 ポリイミド粉末約20.0mgをNMRサンプル管に入 、重水素化ジメチルスルホキシド(DMSO-d 6 、0.05%TMS(Si(CH 3 ) 4 )混合品)約0.53mlを添加し、超音波をかけて完 に溶解させた。この溶液をNMR測定装置にて5 00MHzのプロトンNMRを測定した。
 イミド化率は、イミド化前後で変化しない 造に由来するプロトンを基準プロトンとし 決め、このプロトンのピーク積算値と、10.0 ppm付近に現れるアミック酸のNH基に由来する ロトンピーク積算値とを用い以下の式によ て求めた。
イミド化率(%)=(1-α・x/y)×100
 上記式において、xはアミック酸のNH基由来 プロトンピーク積算値、yは基準プロトンの ピーク積算値、αはポリアミック酸(イミド化 率が0%)の場合におけるアミック酸のNH基プロ ン一個に対する基準プロトンの個数割合で る。

<実施例4>
 BODA(5.07g、20.3mmol)、p-PDA(2.48g、22.9mmol)、側鎖 アミンとしてPBCH5DAB(1.76g、4.05mmol)をNMP(22.0g) で混合し、40℃で5時間反応させた後、CBDA(1. 22g、6.22mmol)とNMP(20.0g)を加え、40℃で6時間反 させポリアミック酸溶液を得た。
 このポリアミック酸溶液(30.0g)にNMPを加え6 量%に希釈した後、イミド化触媒として無水 酸(4.63g)、ピリジン(3.59g)を加え、80℃で3時 反応させた。この反応溶液をメタノール(442m l)中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。 の沈殿物をメタノールで洗浄し、100℃で減 乾燥しポリイミド粉末(A)を得た。このポリ ミドのイミド化率は45%であり、数平均分子 は15,300、重量平均分子量は36,200であった。

<実施例5>
 BODA(4.88g、19.5mmol)、p-PDA(2.39g、22.1mmol)、側鎖 アミンとしてBPCH5DAB(1.67g、3.90mmol)をNMP(22.0g) で混合し、40℃で5時間反応させた後、CBDA(1. 16g、5.92mmol)とNMP(18.0g)を加え、40℃で6時間反 させポリアミック酸溶液を得た。
 このポリアミック酸溶液(35.0g)にNMPを加え6 量%に希釈した後、イミド化触媒として無水 酸(4.67g)、ピリジン(3.62g)を加え、80℃で3時 反応させた。この反応溶液をメタノール(443m l)中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。 の沈殿物をメタノールで洗浄し、100℃で減 乾燥しポリイミド粉末(B)を得た。このポリ ミドのイミド化率は40%であり、数平均分子 は13,200、重量平均分子量は38,400であった。

<実施例6>
 BODA(8.25g、33.0mmol)、p-PDA(3.33g、30.8mmol)、側鎖 アミンとしてPBCH5DAB(5.74g、13.2mmol)をNMP(38.0g) で混合し、40℃で5時間反応させた後、CBDA(2. 10g、10.7mmol)とNMP(40.0g)を加え、40℃で6時間反 させポリアミック酸溶液を得た。
 このポリアミック酸溶液(20.0g)にNMPを加え6 量%に希釈した後、イミド化触媒として無水 酸(2.32g)、ピリジン(1.80g)を加え、90℃で3.5時 間反応させた。この反応溶液をメタノール(27 8ml)中に投入し、得られた沈殿物を濾別した この沈殿物をメタノールで洗浄し、100℃で 圧乾燥しポリイミド粉末(C)を得た。このポ イミドのイミド化率は60%であり、数平均分 量は15,800、重量平均分子量は50,900であった

<実施例7>
 BODA(4.13g、16.5mmol)、p-PDA(2.01g、18.6mmol)、側鎖 アミンとしてPBCH7DAB(1.53g、3.31mmol)をNMP(20.0g) で混合し、40℃で5時間反応させた後、CBDA(0. 97g、4.95mmol)とNMP(14.6g)を加え、40℃で6時間反 させポリアミック酸溶液を得た。
 このポリアミック酸溶液(20.0g)にNMPを加え6 量%に希釈した後、イミド化触媒として無水 酸(2.59g)、ピリジン(2.01g)を加え、80℃で3時 反応させた。この反応溶液をメタノール(250m l)中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。 の沈殿物をメタノールで洗浄し、100℃で減 乾燥しポリイミド粉末(D)を得た。このポリ ミドのイミド化率は52%であり、数平均分子 は14,600、重量平均分子量は36,300であった。

<実施例8>
 BODA(6.44g、25.7mmol)、p-PDA(2.60g、24.0mmol)、側鎖 アミンとしてPBCH7DAB(4.77g、10.3mmol)をNMP(30.0g) で混合し、40℃で5時間反応させた後、CBDA(1. 64g、8.35mmol)とNMP(31.2g)を加え、40℃で6時間反 させポリアミック酸溶液を得た。
 このポリアミック酸溶液(20.0g)にNMPを加え6 量%に希釈した後、イミド化触媒として無水 酸(2.31g)、ピリジン(1.80g)を加え、90℃で3.5時 間反応させた。この反応溶液をメタノール(29 0ml)中に投入し、得られた沈殿物を濾別した この沈殿物をメタノールで洗浄し、100℃で 圧乾燥しポリイミド粉末(E)を得た。このポ イミドのイミド化率は59%であり、数平均分 量は16,400、重量平均分子量は48,600であった

<比較例1>
 BODA(5.07g、20.3mmol)、p-PDA(2.48g、22.9mmol)、側鎖 アミンとしてm-PBCH5DABEs(1.87g、4.04mmol)をNMP(22. 0g)中で混合し、40℃で5時間反応させた後、CBD A(1.00g、5.10mmol)とNMP(20.0g)を加え、40℃で6時間 応させポリアミック酸溶液を得た。
 このポリアミック酸溶液(30.0g)にNMPを加え6 量%に希釈した後、イミド化触媒として無水 酸(4.28g)、ピリジン(3.32g)を加え、80℃で3時 反応させた。この反応溶液をメタノール(408m l)中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。 の沈殿物をメタノールで洗浄し、100℃で減 乾燥しポリイミド粉末(F)を得た。このポリ ミドのイミド化率は45%であり、数平均分子 は14,900、重量平均分子量は38,800であった。

<比較例2>
 BODA(5.03g、20.1mmol)、p-PDA(2.03g、18.8mmol)、側鎖 アミンとしてm-PBCH5DABEs(3.73g、8.06mmol)をNMP(23. 0g)中で混合し、40℃で5時間反応させた後、CBD A(1.28g、6.53mmol)とNMP(24.5g)を加え、40℃で6時間 応させポリアミック酸溶液を得た。
 このポリアミック酸溶液(20.0g)にNMPを加え6 量%に希釈した後、イミド化触媒として無水 酸(2.28g)、ピリジン(1.82g)を加え、90℃で3.5時 間反応させた。この反応溶液をメタノール(28 0ml)中に投入し、得られた沈殿物を濾別した この沈殿物をメタノールで洗浄し、100℃で 圧乾燥しポリイミド粉末(G)を得た。このポ イミドのイミド化率は60%であり、数平均分 量は15,600、重量平均分子量は42,800であった

<比較例3>
 BODA(4.13g、16.5mmol)、p-PDA(2.02g、18.7mmol)、側鎖 アミンとしてPBP5DAB(1.39g、3.29mmol)をNMP(19.0g) で混合し、40℃で5時間反応させた後、CBDA(0.8 6g、4.39mmol)とNMP(14.6g)を加え、40℃で6時間反応 させポリアミック酸溶液を得た。
 このポリアミック酸溶液(20.0g)にNMPを加え6 量%に希釈した後、イミド化触媒として無水 酸(2.60g)、ピリジン(2.02g)を加え、80℃で2.5時 間反応させた。この反応溶液をメタノール(25 0ml)中に投入し、得られた沈殿物を濾別した この沈殿物をメタノールで洗浄し、100℃で 圧乾燥しポリイミド粉末(H)を得た。このポ イミドのイミド化率は45%であり、数平均分 量は14800、重量平均分子量は36,300であった。

<ポリイミドの溶解性試験>(ブチルセロソ ルブ混合許容量の比較)
 実施例4~8及び比較例1~3で得られたポリイミ 粉末を用い、下記の手順でポリイミド溶液 対するブチルセロソルブ混合許容量の比較 行った。
 ポリイミド粉末(1.30g)にNMPを(8.70g)加え、80℃ にて40時間攪拌し、樹脂濃度13質量%のポリイ ド溶液とした。このポリイミド溶液(1.00g)を サンプル管に分取し、磁石攪拌子を入れ、25 で攪拌しながらBCSをピペットで滴下した。B CS滴下直後に発生する濁りが、数秒経っても 滅しなくなる時点を目視で確認し終点とし 。なお、このときBCSの1滴は約0.004gであった 。終点におけるBCS混合量は、BCS混合前後のサ ンプル管全体の質量を確認することで求めた 。

 上記試験の結果、実施例4のポリイミドを使 用した場合の終点はBCSが1.33g、実施例5のポリ イミドを使用した場合の終点はBCSが1.08g、実 例6のポリイミドを使用した場合の終点はBCS が1.43g、実施例7のポリイミドを使用した場合 の終点はBCSが1.26g、実施例8のポリイミドを使 用した場合の終点はBCSが1.38g、比較例1のポリ イミドを使用した場合の終点はBCSが0.11g、比 例2のポリイミドを使用した場合の終点はBCS が0.08g、比較例3のポリイミドを使用した場合 の終点はBCSが0.76gであった。
 実施例4~8及び比較例1~3の結果は、表1にまと めた。
 以上の結果により、本発明のジアミンを使 したポリイミドは、比較のジアミンを使用 たポリイミドよりもブチルセロソルブの混 許容量が非常に大きいことが確認された。

「本発明の液晶配向処理剤の調製と評価」
<実施例9>
 p-PDA(1.46g、13.5mmol)、側鎖ジアミンとしてPBCH5 DAB(0.65g、1.50mmol)をNMP(20.0g)中で混合し、CBDA(2.8 5g、14.5mmol)とNMP(24.7g)を加え、25℃で5時間反応 させポリアミック酸溶液を得た。得られたポ リアミック酸溶液(40.0g)にNMP(24.0g)、BCS(16.0g)を 加え1時間撹拌することにより液晶配向処理 (1)を得た。この液晶配向処理剤に濁りや析 などの異常は見られず、樹脂成分は均一に 解していることが確認された。
 上記で得た液晶配向処理剤(1)をITO電極付き ラス基板にスピンコートし、80℃のホット レート上で5分間乾燥させた後、230℃の熱風 環式オーブンで1時間焼成を行い、厚み100nm ポリイミド膜を作製した。

 このポリイミド膜面を、ロール径120mmのラ ング装置を用いて、ロール回転数1000rpm、ロ ル進行速度50mm/sec、押し込み量0.3mmの条件で 、レーヨン布でラビング処理して、液晶配向 膜付き基板を得た。
 この液晶配向膜付き基板を2枚用意し、液晶 配向膜面を内側にして50μmのスペーサー挟み ラビング方向が逆向きになるようにして組 合わせ、シール剤で周囲を接着して空セル 作製した。この空セルに減圧注入法によっ 、液晶MLC-2003(メルク・ジャパン社製)を注入 し、注入口を封止して、アンチパラレル配向 のネマティック液晶セルを得た。

 上記で作製した液晶セルのプレチルト角を チルト測定装置(ELSICON社製 モデルPAS-301)を いて室温で測定した。その結果、プレチル 角は81.8°であり、液晶セルを120℃で1時間熱 処理した後では84.2°であった。
 また、ラビング処理をしなかった以外は上 と同様に作製した液晶セルを偏光顕微鏡で 察したところ、液晶は均一に垂直配向して ることが確認された。

<実施例10>
 p-PDA(1.39g、12.8mmol)、側鎖ジアミンとしてPBCH7 DAB(0.66g、1.43mmol)をNMP(19.2g)中で混合し、CBDA(2.7 1g、13.8mmol)とNMP(23.5g)を加え、25℃で5時間反応 させポリアミック酸溶液を得た。得られたポ リアミック酸溶液(40.0g)にNMP(23.8g)、BCS(16.0g)を 加え1時間撹拌することにより液晶配向処理 (2)を得た。この液晶配向処理剤に濁りや析 などの異常は見られず、樹脂成分は均一に 解していることが確認された。
 上記で得た液晶配向処理剤(2)を用い、実施 9と同様にアンチパラレル配向のネマティッ ク液晶セルを作製してプレチルト角を測定し た。その結果、プレチルト角は83.4°であり、 液晶セルを120℃で1時間熱処理した後では85.1 であった。
 また、ラビング処理をしなかった以外は上 と同様に作製した液晶セルを偏光顕微鏡で 察したところ、液晶は均一に垂直配向して ることが確認された。

<比較例4>
 p-PDA(1.56g、14.4mmol)、側鎖ジアミンとしてPCH7D AB(0.61g、1.60mmol)をNMP(22.0g)中で混合し、CBDA(3.04 g、15.5mmol)とNMP(24.9g)を加え、25℃で5時間反応 せポリアミック酸溶液を得た。得られたポ アミック酸溶液(40.0g)にNMP(24.0g)、BCS(16.0g)を え1時間撹拌することにより液晶配向処理剤 (3)を得た。この液晶配向処理剤に濁りや析出 などの異常は見られず、樹脂成分は均一に溶 解していることが確認された。
 上記で得た液晶配向処理剤(3)を用い、実施 9と同様にアンチパラレル配向のネマティッ ク液晶セルを作製してプレチルト角を測定し た。その結果、プレチルト角は22.2°であり、 液晶セルを120℃で1時間熱処理した後では22.8 であった。
 また、ラビング処理をしなかった以外は上 と同様に作製した液晶セルを偏光顕微鏡で 察したところ、液晶の配向は不均一であり 垂直に配向していないことが確認された。
 実施例9、実施例10及び比較例4の結果は、表 2にまとめた。
 以上の結果により、本発明のジアミンを使 したポリアミック酸は、比較のジアミンを 用したポリアミック酸よりも少ない導入量 大きいプレチルト角を発現することができ ことが確認された。

<実施例11>
 実施例4で得たポリイミド粉末(A)(4.00g)にNMP(2 8.8g)を加え、80℃にて40時間撹拌して溶解させ た。この溶液にNMP(2.68g)、BCS(29.3g)を加え1時間 撹拌することにより液晶配向処理剤(4)を得た 。この液晶配向処理剤に濁りや析出などの異 常は見られず、樹脂成分は均一に溶解してい ることが確認された。
 上記で得た液晶配向処理剤(4)をITO電極付き ラス基板にスピンコートし、80℃のホット レート上で5分間乾燥させた後、210℃の熱風 環式オーブンで1時間焼成を行い、膜厚100nm ポリイミド膜を作製した。
 この液晶配向膜付き基板を、ロール径120mm ラビング装置を用いてロール回転数300rpm、 ール進行速度20mm/sec、押し込み量0.3mmの条件 、レーヨン布でラビング処理して、液晶配 膜付き基板を得た。

 この液晶配向膜付き基板を2枚用意し、その 1枚の液晶配向膜面上に6μmのビーズスペーサ を散布した後、その上からシール剤を印刷 、もう一枚の基板を液晶配向膜面を内側に 、ラビング方向が逆向きになるようにして り合わせた後、シール剤を硬化させて空セ を作製した。この空セルに減圧注入法によ て、液晶MLC-6608(メルク・ジャパン社製)を注 入し、注入口を封止して、アンチパラレル配 向のネマティック液晶セルを得た。
 上記で作製した液晶セルのプレチルト角を チルト測定装置(ELSICON社製 モデルPAS-301)を いて室温で測定した。その結果、プレチル 角は47.1°であり、液晶セルを120℃で1時間熱 処理した後では54.8°であった。
 また、ラビング処理をしなかった以外は上 と同様に作製した液晶セルを偏光顕微鏡で 察したところ、液晶は均一に垂直配向して ることが確認された。

<実施例12>
 実施例5で得たポリイミド粉末(B)(4.00g)にNMP(2 6.3g)を加え、80℃にて40時間撹拌して溶解させ た。この溶液にNMP(6.40g)、BCS(30.0g)を加え1時間 撹拌することにより液晶配向処理剤(5)を得た 。この液晶配向処理剤に濁りや析出などの異 常は見られず、樹脂成分は均一に溶解してい ることが確認された。
 上記で得た液晶配向処理剤(5)を用い、実施 11と同様の処理を行い、ラビング処理をし アンチパラレル配向のネマティック液晶セ を得た。この液晶セルのプレチルト角を実 例11と同様の操作で測定したところ、室温で は54.6°、120℃で1時間熱処理した後では15.3° あった。
 また、ラビング処理をしなかった以外は、 施例11と同様に作製した液晶セルを偏光顕 鏡で観察したところ、液晶は均一に垂直配 していることが確認された。

<実施例13>
 実施例6で得たポリイミド粉末(C)(3.00g)にNMP(2 2.0g)を加え、80℃にて40時間撹拌して溶解させ た。この溶液にNMP(2.50g)、BCS(22.5g)を加え1時間 撹拌することにより液晶配向処理剤(6)を得た 。この液晶配向処理剤に濁りや析出などの異 常は見られず、樹脂成分は均一に溶解してい ることが確認された。
 上記で得た液晶配向処理剤(6)を用い、実施 11と同様の処理を行い、ラビング処理をし アンチパラレル配向のネマティック液晶セ を得た。この液晶セルのプレチルト角を実 例11と同様の操作で測定したところ、室温で は84.3°、120℃で1時間熱処理した後では86.2° あった。さらに、室温、および1時間熱処理 た後のこれら液晶セルを偏光顕微鏡で観察 たところ、液晶は均一に配向し、熱処理に しても均一に配向していた。
 また、ラビング処理をしなかった以外は、 施例11と同様に作製した液晶セルを偏光顕 鏡で観察したところ、液晶は均一に垂直配 していることが確認された。

<実施例14>
 BODA(4.32g、17.3mmol)、p-PDA(1.74g、16.1mmol)、側鎖 アミンとしてPBCH5DAB(3.0g、6.90mmol)をNMP(22.0g) で混合し、40℃で5時間反応させた後、CBDA(1.0 1g、5.15mmol)とNMP(18.0g)を加え、40℃で6時間反応 させポリアミック酸溶液を得た。
 このポリアミック酸溶液(30.0g)にNMPを加え6 量%に希釈した後、イミド化触媒として無水 酸(3.75g)、ピリジン(2.90g)を加え、80℃で3時 反応させた。この反応溶液をメタノール(400m l)中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。 の沈殿物をメタノールで洗浄し、100℃で減 乾燥しポリイミド粉末(I)を得た。このポリ ミドのイミド化率は45%であり、数平均分子 は15,900、重量平均分子量は40,800であった。

 このポリイミド粉末(I)(4.00g)にNMP(28.8g)を加 、80℃にて40時間撹拌して溶解させた。この 液にNMP(2.69g)、BCS(29.0g)を加え1時間撹拌する とにより液晶配向処理剤(7)を得た。この液 配向処理剤に濁りや析出などの異常は見ら ず、樹脂成分は均一に溶解していることが 認された。
 上記で得た液晶配向処理剤(7)を用い、実施 11と同様の処理を行い、ラビング処理をし アンチパラレル配向のネマティック液晶セ を得た。この液晶セルのプレチルト角を実 例11と同様の操作で測定したところ、室温で は85.6°、120℃で1時間熱処理した後では87.3° あった。さらに、室温、および1時間熱処理 た後のこれら液晶セルを偏光顕微鏡で観察 たところ、液晶は均一に配向し、熱処理に しても均一に配向していた。
 また、ラビング処理をしなかった以外は、 施例11と同様に作製した液晶セルを偏光顕 鏡で観察したところ、液晶は均一に垂直配 していることが確認された。

<実施例15>
 BODA(4.41g、17.6mmol)、DBA(2.86g、18.8mmol)、側鎖ジ アミンとしてPBCH5DAB(2.04g、4.69mmol)をNMP(23.0g)中 で混合し、80℃で5時間反応させた後、CBDA(1.01 g、5.15mmol)とNMP(18.0g)を加え、40℃で6時間反応 せポリアミック酸溶液を得た。
 このポリアミック酸溶液(30.0g)にNMPを加え6 量%に希釈した後、イミド化触媒として無水 酸(3.79g)、ピリジン(2.94g)を加え、80℃で3時 反応させた。この反応溶液をメタノール(408m l)中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。 の沈殿物をメタノールで洗浄し、100℃で減 乾燥しポリイミド粉末(J)を得た。このポリ ミドのイミド化率は40%であり、数平均分子 は17,300、重量平均分子量は46,800であった。

 このポリイミド粉末(J)(4.00g)にNMP(26.3g)を加 、80℃にて40時間撹拌して溶解させた。この 液にNMP(6.40g)、BCS(30.0g)加え1時間撹拌するこ により液晶配向処理剤(8)を得た。この液晶 向処理剤に濁りや析出などの異常は見られ 、樹脂成分は均一に溶解していることが確 された。
 上記で得た液晶配向処理剤(8)を用い、実施 11と同様の処理を行い、ラビング処理をし アンチパラレル配向のネマティック液晶セ を得た。この液晶セルのプレチルト角を実 例11と同様の操作で測定したところ、室温で は87.2°、120℃で1時間熱処理した後では88.6° あった。さらに、室温、および1時間熱処理 た後のこれら液晶セルを偏光顕微鏡で観察 たところ、液晶は均一に配向し、熱処理に しても均一に配向していた。
 また、ラビング処理をしなかった以外は、 施例11と同様に作製した液晶セルを偏光顕 鏡で観察したところ、液晶は均一に垂直配 していることが確認された。

<実施例16>
 BODA(8.26g、33.0mmol)、DBA(4.69g、30.8mmol)、側鎖ジ アミンとしてPBCH5DAB(5.74g、13.2mol)をNMP(45.0g)中 混合し、80℃で5時間反応させた後、CBDA(2.10g 、10.7mmol)とNMP(38.0g)を加え、40℃で6時間反応 せポリアミック酸溶液を得た。
 このポリアミック酸溶液(20.0g)にNMPを加え6 量%に希釈した後、イミド化触媒として無水 酸(2.16g)、ピリジン(1.67g)を加え、80℃で3時 反応させた。この反応溶液をメタノール(247m l)中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。 の沈殿物をメタノールで洗浄し、100℃で減 乾燥しポリイミド粉末(K)を得た。このポリ ミドのイミド化率は45%であり、数平均分子 は19,100、重量平均分子量は50,800であった。

 このポリイミド粉末(K)(3.30g)にNMP(16.0g)を加 、80℃にて40時間撹拌して溶解させた。この 液にNMP(8.20g)、BCS(27.5g)を加え1時間撹拌する とにより液晶配向処理剤(9)を得た。この液 配向処理剤に濁りや析出などの異常は見ら ず、樹脂成分は均一に溶解していることが 認された。
 上記で得た液晶配向処理剤(9)を用い、実施 11と同様の処理を行い、ラビング処理をし アンチパラレル配向のネマティック液晶セ を得た。この液晶セルのプレチルト角を実 例11と同様の操作で測定したところ、室温で は88.5°、120℃で1時間熱処理した後では89.0° あった。さらに、室温、および1時間熱処理 た後のこれら液晶セルを偏光顕微鏡で観察 たところ、液晶は均一に配向し、熱処理に しても均一に配向していた。
 また、ラビング処理をしなかった以外は、 施例11と同様に作製した液晶セルを偏光顕 鏡で観察したところ、液晶は均一に垂直配 していることが確認された。

<実施例17>
 実施例16で得たポリアミック酸溶液(20.0g)にN MPを加え6質量%に希釈した後、イミド化触媒 して無水酢酸(4.31g)、ピリジン(3.34g)を加え、 90℃で3.5時間反応させた。この反応溶液をメ ノール(260ml)中に投入し、得られた沈殿物を 濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し 、100℃で減圧乾燥しポリイミド粉末(L)を得た 。このポリイミドのイミド化率は80%であり、 数平均分子量は15,200、重量平均分子量は45,500 であった。
 このポリイミド粉末(L)(3.30g)にNMP(16.1g)を加 、80℃にて40時間撹拌して溶解させた。この 液にNMP(8.24g)、BCS(27.6g)を加え1時間撹拌する とにより液晶配向処理剤(10)を得た。この液 晶配向処理剤に濁りや析出などの異常は見ら れず、樹脂成分は均一に溶解していることが 確認された。

 上記で得た液晶配向処理剤(10)を用い、実施 例11と同様の処理を行い、ラビング処理をし アンチパラレル配向のネマティック液晶セ を得た。この液晶セルのプレチルト角を実 例11と同様の操作で測定したところ、室温 は87.7°、120℃で1時間熱処理した後では88.3° あった。さらに、室温、および1時間熱処理 した後のこれら液晶セルを偏光顕微鏡で観察 したところ、液晶は均一に配向し、熱処理に 対しても均一に配向していた。
 また、ラビング処理をしなかった以外は、 施例11と同様に作製した液晶セルを偏光顕 鏡で観察したところ、液晶は均一に垂直配 していることが確認された。

<実施例18>
 実施例16で得たポリアミック酸溶液(20.0g)にN MPを加え6質量%に希釈した後、イミド化触媒 して無水酢酸(4.31g)、トリエチルアミン(1.52g) を加え、100℃で4時間反応させた。この反応 液に蓚酸(1.90g)を加え中和した後、メタノー (253ml)中に投入し、得られた沈殿物を濾別し た。この沈殿物をメタノールで洗浄し、100℃ で減圧乾燥しポリイミド粉末(M)を得た。この ポリイミドのイミド化率は98%であり、数平均 分子量は19,200、重量平均分子量は61,500であっ た。
 このポリイミド粉末(M)(3.2g)にNMP(15.6g)を加え 、80℃にて40時間撹拌して溶解させた。この 液にNMP(12.6g)、BCS(21.2g)を加え1時間撹拌する とにより液晶配向処理剤(11)を得た。この液 配向処理剤に濁りや析出などの異常は見ら ず、樹脂成分は均一に溶解していることが 認された。
 上記で得た液晶配向処理剤(11)を用い、実施 例11と同様の処理を行い、ラビング処理をし アンチパラレル配向のネマティック液晶セ を得た。この液晶セルのプレチルト角を実 例11と同様の操作で測定したところ、室温 は87.5°、120℃で1時間熱処理した後では88.2° あった。さらに、室温、および1時間熱処理 した後のこれら液晶セルを偏光顕微鏡で観察 したところ、液晶は均一に配向し、熱処理に 対しても均一に配向していた。
 また、ラビング処理をしなかった以外は、 施例11と同様に作製した液晶セルを偏光顕 鏡で観察したところ、液晶は均一に垂直配 していることが確認された。

<実施例19>
 DBA(1.05g、6.90mmol)、DAA(1.87g、9.20mmol)、側鎖ジ ミンとしてPBCH5DAB(3.0g、6.90mmol)をNMP(20.0g)中 混合し、CBDA(4.47g、22.8mmol)とNMP(21.5g)を加え、 25℃で10時間反応させポリアミック酸溶液を た。
 このポリアミック酸溶液(20.0g)にNMPを加え6 量%に希釈した後、イミド化触媒として無水 酸(4.51g)、ピリジン(3.50g)を加え、50℃で3時 反応させた。この反応溶液をメタノール(261m l)中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。 の沈殿物をメタノールで洗浄し、100℃で減 乾燥しポリイミド粉末(N)を得た。このポリ ミドのイミド化率は98%であり、数平均分子 は16,800、重量平均分子量は47,900であった。

 このポリイミド粉末(N)(3.10g)にNMP(20.5g)を加 、50℃にて20時間撹拌して溶解させた。この 液にNMP(13.2g)、BCS(24.5g)を加え1時間撹拌する とにより液晶配向処理剤(12)を得た。この液 晶配向処理剤に濁りや析出などの異常は見ら れず、樹脂成分は均一に溶解していることが 確認された。
 上記で得た液晶配向処理剤(12)を用い、実施 例11と同様の処理を行い、ラビング処理をし アンチパラレル配向のネマティック液晶セ を得た。この液晶セルのプレチルト角を実 例11と同様の操作で測定したところ、室温 は86.7°、120℃で1時間熱処理した後では87.5° あった。さらに、室温、および1時間熱処理 した後のこれら液晶セルを偏光顕微鏡で観察 したところ、液晶は均一に配向し、熱処理に 対しても均一に配向していた。
 また、ラビング処理をしなかった以外は、 施例11と同様に作製した液晶セルを偏光顕 鏡で観察したところ、液晶は均一に垂直配 していることが確認された。

<実施例20>
 実施例7で得たポリイミド粉末(D)(2.14g)にNMP(1 4.3g)を加え、80℃にて40時間撹拌して溶解させ た。この溶液にNMP(3.16g)、BCS(16.1g)加え1時間撹 拌することにより液晶配向処理剤(13)を得た この液晶配向処理剤に濁りや析出などの異 は見られず、樹脂成分は均一に溶解してい ことが確認された。
 上記で得た液晶配向処理剤(13)を用い、実施 例11と同様の処理を行い、ラビング処理をし アンチパラレル配向のネマティック液晶セ を得た。この液晶セルのプレチルト角を実 例11と同様の操作で測定したところ、室温 は76.5°、120℃で1時間熱処理した後では77.7° あった。
 また、ラビング処理をしなかった以外は、 施例11と同様に作製した液晶セルを偏光顕 鏡で観察したところ、液晶は均一に垂直配 していることが確認された。

<実施例21>
 実施例8で得たポリイミド粉末(E)(3.00g)にNMP(2 1.8g)を加え、80℃にて40時間撹拌して溶解させ た。この溶液にNMP(2.51g)、BCS(22.5g)を加え1時間 撹拌することにより液晶配向処理剤(14)を得 。この液晶配向処理剤に濁りや析出などの 常は見られず、樹脂成分は均一に溶解して ることが確認された。
 上記で得た液晶配向処理剤(14)を用い、実施 例11と同様の処理を行い、ラビング処理をし アンチパラレル配向のネマティック液晶セ を得た。この液晶セルのプレチルト角を実 例11と同様の操作で測定したところ、室温 は86.5°、120℃で1時間熱処理した後では87.8° あった。さらに、室温、および1時間熱処理 した後のこれら液晶セルを偏光顕微鏡で観察 したところ、液晶は均一に配向し、熱処理に 対しても均一に配向していた。
 また、ラビング処理をしなかった以外は、 施例11と同様に作製した液晶セルを偏光顕 鏡で観察したところ、液晶は均一に垂直配 していることが確認された。

<実施例22>
 BODA(8.34g、33.3mmol)、DBA(4.74g、31.2mmol)、側鎖ジ アミンとしてPBCH7DAB(6.15g、13.3mol)をNMP(45.5g)中 混合し、80℃で5時間反応させた後、CBDA(2.12g 、10.8mmol)とNMP(38.0g)を加え、40℃で6時間反応 せポリアミック酸溶液を得た。
 このポリアミック酸溶液(20.0g)にNMPを加え6 量%に希釈した後、イミド化触媒として無水 酸(4.30g)、ピリジン(3.30g)を加え、90℃で3.5時 間反応させた。この反応溶液をメタノール(30 0ml)中に投入し、得られた沈殿物を濾別した この沈殿物をメタノールで洗浄し、100℃で 圧乾燥しポリイミド粉末(O)を得た。このポ イミドのイミド化率は80%であり、数平均分 量は16,100、重量平均分子量は48,900であった
 このポリイミド粉末(O)(3.29g)にNMP(16.5g)を加 、80℃にて40時間撹拌して溶解させた。この 液にNMP(8.25g)、BCS(27.5g)を加え1時間撹拌する とにより液晶配向処理剤(15)を得た。この液 晶配向処理剤に濁りや析出などの異常は見ら れず、樹脂成分は均一に溶解していることが 確認された。
 上記で得た液晶配向処理剤(15)を用い、実施 例11と同様の処理を行い、ラビング処理をし アンチパラレル配向のネマティック液晶セ を得た。この液晶セルのプレチルト角を実 例11と同様の操作で測定したところ、室温 は88.3°、120℃で1時間熱処理した後では89.1° あった。さらに、室温、および1時間熱処理 した後のこれら液晶セルを偏光顕微鏡で観察 したところ、液晶は均一に配向し、熱処理に 対しても均一に配向していた。
 また、ラビング処理をしなかった以外は、 施例11と同様に作製した液晶セルを偏光顕 鏡で観察したところ、液晶は均一に垂直配 していることが確認された。

<比較例5>
 比較例1で得たポリイミド粉末(F)(3.15g)にNMP(2 1.1g)を加え、80℃にて40時間撹拌して溶解させ た。この溶液にNMP(1.95g)、BCS(26.3g)を加え1時間 撹拌したところ、樹脂成分の析出が起こり、 液晶配向処理剤を得ることができなった。そ のため、液晶セルを作製することができなか った。

<比較例6>
 比較例1で得たポリイミド粉末(F)(3.65g)にNMP(2 4.4g)を加え、80℃にて40時間撹拌して溶解させ た。この溶液にNMP(5.35g)、BCS(27.4g)を加え1時間 撹拌したところ、樹脂成分の析出が起こり、 液晶配向処理剤を得ることができなった。そ のため、液晶セルを作製することができなか った。

<比較例7>
 比較例1で得たポリイミド粉末(F)(3.10g)にNMP(2 0.7g)を加え、80℃にて40時間撹拌して溶解させ た。この溶液にNMP(27.0g)、BCS(11.2g)を加え1時間 撹拌することにより液晶配向処理剤(16)を得 。この液晶配向処理剤に濁りや析出などの 常は見られず、樹脂成分は均一に溶解して ることが確認された。
 上記で得た液晶配向処理剤(16)を用い、ITO電 極付きガラス基板にスピンコートし、80℃の ットプレート上で5分間乾燥させた後、210℃ の熱風循環式オーブンで1時間焼成を行い、 厚100nmのポリイミド膜を作製した。塗膜面を 確認したところ、ピンホールが多く見られた 。この液晶配向膜付き基板を用い、実施例11 同様の処理を行い、ラビング処理をしたア チパラレル配向のネマティック液晶セルを た。この液晶セルのプレチルト角を実施例1 1と同様の操作で測定したところ、室温では76 .4°、120℃で1時間熱処理した後では80.1°であ た。ただし、液晶セル面内でプレチルト角 大きなバラツキが見られた。さらに、室温 および1時間熱処理した後のこれら液晶セル を偏光顕微鏡で観察したところ、ピンホール に伴い液晶の配向不良が見られた。
 また、ラビング処理をしなかった以外は実 例11と同様に作製した液晶セルを偏光顕微 で観察したところ、液晶は垂直配向してい ことが確認されたが、ピンホールに伴い局 的に光抜け部分が見られた。

<比較例8>
 BODA(16.9g、67.5mmol)、p-PDA(6.80g、62.9mmol)、側鎖 アミンとしてPCH7DAB(10.3g、27.1mmol)をNMP(100.1g) で混合し、40℃で5時間反応させた後、CBDA(4. 10g、20.9mmol)とNMP(52.2g)を加え、40℃で6時間反 させポリアミック酸溶液を得た。得られた リアミック酸溶液(130.3g)にNMPを加え6質量%に 釈した後、イミド化触媒として無水酢酸(15. 6g)、ピリジン(12.1g)を加え、80℃で3時間反応 せた。この反応溶液をメタノール(1600ml)中に 投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈 殿物をメタノールで洗浄し、100℃で減圧乾燥 し、ポリイミド粉末(P)を得た。このポリイミ ドのイミド化率は54%であり、数平均分子量は 18,300、重量平均分子量は45,300であった。

 このポリイミド粉末(P)(3.20g)にNMP(23.5g)を加 、80℃にて40時間撹拌して溶解させた。この 液にNMP(2.63g)、BCS(24.0g)を加え1時間撹拌する とにより液晶配向処理剤(17)を得た。この液 晶配向処理剤に濁りや析出などの異常は見ら れず、樹脂成分は均一に溶解していることが 確認された。
 上記で得た液晶配向処理剤(17)を用い、実施 例11と同様の処理を行い、ラビング処理をし アンチパラレル配向のネマティック液晶セ を得た。この液晶セルのプレチルト角を実 例11と同様の操作で測定したところ、室温 は78.7°、120℃で1時間熱処理した後では81.5° あった。さらに、室温、および1時間熱処理 した後のこれら液晶セルを偏光顕微鏡で観察 したところ、液晶は均一に配向していたが、 実施例14や実施例21に比べて液晶が傾いたこ に伴う光抜けが見られた。
 また、ラビング処理をしなかった以外は、 施例11と同様に作製した液晶セルを偏光顕 鏡で観察したところ、液晶は均一に垂直配 していることが確認された。

<比較例9>
 BODA(15.0g、60.0mmol)、p-PDA(4.30g、39.8mmol)、側鎖 アミンとしてPCH7DAB(15.2g、39.9mmol)をNMP(100.3g) で混合し、40℃で5時間反応させた後、CBDA(3. 80g、19.4mmol)とNMP(53.2g)を加え、40℃で6時間反 させポリアミック酸溶液を得た。得られた リアミック酸溶液(130.3g)にNMPを加え6質量%に 釈した後、イミド化触媒として無水酢酸(13. 9g)、ピリジン(10.8g)を加え、80℃で3時間反応 せた。この反応溶液をメタノール(1600ml)中に 投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈 殿物をメタノールで洗浄し、100℃で減圧乾燥 し、ポリイミド粉末(Q)を得た。このポリイミ ドのイミド化率は55%であり、数平均分子量は 17,500、重量平均分子量は42,700であった。

 このポリイミド粉末(Q)(3.15g)にNMP(23.1g)を加 、80℃にて40時間撹拌して溶解させた。この 液にNMP(2.65g)、BCS(23.6g)を加え1時間撹拌する とにより液晶配向処理剤(18)を得た。この液 晶配向処理剤に濁りや析出などの異常は見ら れず、樹脂成分は均一に溶解していることが 確認された。
 上記で得た液晶配向処理剤(18)を用い、ITO電 極付きガラス基板にスピンコートし、80℃の ットプレート上で5分間乾燥させた後、210℃ の熱風循環式オーブンで1時間焼成を行い、 厚100nmのポリイミド膜を作製した。塗膜面を 確認したところ、ピンホールが見られた。こ の液晶配向膜付き基板を用い、実施例11と同 の処理を行い、ラビング処理をしたアンチ ラレル配向のネマティック液晶セルを得た この液晶セルのプレチルト角を実施例11と 様の操作で測定したところ、室温では87.7° 120℃で1時間熱処理した後では88.7°であった ただし、液晶セル面内でプレチルト角のバ ツキが見られた。さらに、室温、および1時 間熱処理した後のこれら液晶セルを偏光顕微 鏡で観察したところ、ピンホールに伴い液晶 の配向不良が見られた。
 また、ラビング処理をしなかった以外は実 例11と同様に作製した液晶セルを偏光顕微 で観察したところ、液晶は垂直配向してい ことが確認されたが、ピンホールに伴う局 的に光抜け部分が見られた。

<比較例10>
 比較例3で得たポリイミド粉末(H)(3.05g)にNMP(2 0.4g)を加え、80℃にて40時間撹拌して溶解させ た。この溶液にNMP(1.89g)、BCS(25.5g)を加え1時間 撹拌することにより液晶配向処理剤(19)を得 。この液晶配向処理剤に濁りや析出などの 常は見られず、樹脂成分は均一に溶解して ることが確認された。
 上記で得た液晶配向処理剤(19)を用い、ITO電 極付きガラス基板にスピンコートし、80℃の ットプレート上で5分間乾燥させた後、210℃ の熱風循環式オーブンで1時間焼成を行い、 厚100nmのポリイミド膜を作製した。塗膜面を 確認したところ、ピンホールが多く見られた 。この液晶配向膜付き基板を用い、実施例11 同様の処理を行い、ラビング処理をしたア チパラレル配向のネマティック液晶セルを た。この液晶セルのプレチルト角を実施例1 1と同様の操作で測定したところ、室温では11 .2°、120℃で1時間熱処理した後では8.60°であ た。ただし、液晶セル面内でプレチルト角 大きなバラツキが見られた。さらに、室温 および1時間熱処理した後のこれら液晶セル を偏光顕微鏡で観察したところ、ピンホール に伴い液晶の配向不良が見られた。
 また、ラビング処理をしなかった以外は実 例11と同様に作製した液晶セルを偏光顕微 で観察したところ、液晶は垂直配向してい ことが確認されたが、ピンホールに伴い局 的に光抜け部分が見られた。

<比較例11>
 比較例3で得たこのポリイミド粉末(H)(1.56g) NMP(10.4g)を加え、80℃にて40時間撹拌して溶解 させた。この溶液にNMP(2.30g)、BCS(11.7g)加え1時 間撹拌することにより液晶配向処理剤(20)を た。この液晶配向処理剤に濁りや析出など 異常は見られず、樹脂成分は均一に溶解し いることが確認された。
 上記で得た液晶配向処理剤(20)を用い、ITO電 極付きガラス基板にスピンコートし、80℃の ットプレート上で5分間乾燥させた後、210℃ の熱風循環式オーブンで1時間焼成を行い、 厚100nmのポリイミド膜を作製した。塗膜面を 確認したところ、ピンホールが多く見られた 。この液晶配向膜付き基板を用い、実施例11 同様の処理を行い、ラビング処理をしたア チパラレル配向のネマティック液晶セルを た。この液晶セルのプレチルト角を実施例1 1と同様の操作で測定したところ、室温では10 .9°、120℃で1時間熱処理した後では8.50°であ た。ただし、液晶セル面内でプレチルト角 大きなバラツキが見られた。さらに、室温 および1時間熱処理した後のこれら液晶セル を偏光顕微鏡で観察したところ、ピンホール に伴い液晶の配向不良が見られた。
 また、ラビング処理をしなかった以外は実 例11と同様に作製した液晶セルを偏光顕微 で観察したところ、液晶は垂直配向してい ことが確認されたが、ピンホールに伴い局 的に光抜け部分が見られた。
 また、ラビング処理をしなかった以外は実 例11と同様に作製した液晶セルを偏光顕微 で観察したところ、液晶は垂直配向してお ず、局所的に光抜け部分が見られた。

<印刷性試験>
 実施例11~22、比較例7~11で得られた液晶配向 理剤を用いて印刷を行った。印刷機には、 本写真印刷社製簡易印刷機(S15型)を用いた 印刷は、洗浄したクロム蒸着基板上に、印 面積8×8cm、印圧0.2mm、捨て基板5枚、印刷か 仮乾燥までの時間90秒、仮乾燥温度70℃、5分 にて行った。
 ピンホールの確認は、ナトリウムランプの で目視観察を行った。
 膜厚ムラおよびエッジ直線性は、光学顕微 を用いて確認した。
 実施例11~22、比較例7~11の結果は、表3および 表4にまとめた。
 実施例11~22、比較例7~11の結果より、本発明 ジアミンを使用したポリイミドは、比較の アミンを使用したポリイミドよりも、少な 導入量で大きなプレチルト角を発現するこ ができた。特に、実施例14と比較例8との比 より、比較例8では、本発明のジアミンを使 用した実施例14に比べて、ラビング処理を行 と液晶が傾いたことに伴う光抜けが見られ 。すなわち、本発明のジアミンを使用した リイミドは、ラビング処理を行っても、大 なプレチルト角を発現することができる。 発明のジアミンを用いたポリイミドは、高 イミド化率でありながらも、貧溶媒である チルセロソルブの混合許容量を多くしても 樹脂の析出は見られなかった。その結果、 発明のジアミンを使用して得られた液晶配 処理剤は、通常の塗布手段によって均一な 膜を形成することができることが確認され 。

 本発明のジアミンは、液晶配向膜を構成す 重合体の原料として使用したときに、液晶 プレチルト角を大きくする効果を有してお 、少ない使用割合でも液晶を垂直に配向さ ることができ、かつ重合体の溶液に貧溶媒 多く用いた際にも析出が発生しくにくい。 れにより、本発明の液晶配向処理剤は、通 の塗布手段によって均一な薄膜を形成する とができ、液晶に大きなプレチルト角を与 る液晶配向膜を作製することができるため TN素子、STN素子、TFT液晶素子、更には、垂 配向型の液晶表示素子などに有用である。
 
 なお、2007年3月23日に出願された日本特許出 願2007-077846号の明細書、特許請求の範囲、及 要約書の全内容をここに引用し、本発明の 細書の開示として、取り入れるものである