[0001] Die vorliegende Anmeldung beansprucht die Priorität der Deutschen Patentanmeldung 10 2022 209 453.0, angemeldet am 9. September 2022. Der Inhalt dieser Deutschen Patentanmeldung wird durch Bezugnahme („incorporation by reference") mit in den vorliegenden Anmeldungstext auf genommen.

[0002] Die Erfindung betrifft einen Faserstrang für einen Sektorheizer einer Projektionsvorrichtung für die Mikrolithografie, sowie einen Sektorheizer, eine Anordnung und eine Projektionsvorrichtung, jeweils für oder umfassend einen solchen Faserstrang .

[0003] Mikrolithografie wird bei der Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, verwendet. Der Mikrolithograf ieprozess wird in einer sogenannten Projektionsbelichtungsanlage durchgeführt, welche eine Beleuchtungsvorrichtung und eine Projektionsvorrichtung aufweist. Das Bild einer mittels der Beleuchtungsvorrichtung beleuchteten Maske (auch „Retikel") wird hierbei mittels der Projektionsvorrichtung auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (sog. „Fotoresist") beschichtetes und in der Bildebene der Projektionsvorrichtung angeordnetes Substrat, bspw. einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen. In nachfolgenden Herstellungsschritten wird die übertragene Struktur in dem Substrat umgesetzt, bspw. durch Ätzen.

[0004] Die Projektionsvorrichtungen von Projektionsbelichtungsanlage müssen aufgrund der fortschreitenden Miniaturisierung im Halbleiterbereich sowie dem Übergang der Wellenlänge bei der Belichtung von DUV (bspw. 193 nm) zur EUV (bspw. 13,5 nm) eine hohe Abbildungsqualität aufweisen. Bei Projektionsvorrichtungen im EUV-Bereich (5-20 nm) werden zur Abbildung einer Maske in der Objektebene auf ein Substrat in der Bildebene, bspw. mit einem Verkleinerungsfaktor von 8:1, dabei ausschließlich reflektive optische Elemente verwendet.

[0005] Je nach auf der lichtempfindlichen Schicht des Substrats abzubildenden Struktur wird für die Beleuchtung der Maske ein geeignetes sog. Beleuchtungssetting verwendet, welches die Intensitäts- und/oder Einfallswinkelverteilung der Beleuchtungsstrahlung auf der Maske und somit im Objektfeld der Projektionsvorrichtung vorgibt. Das Beleuchtungssetting wird dabei in der Regel so gewählt, dass die Abbildungsqualität ggf. verschlechternde Effekte, wie Beugung an der Struktur der Maske, möglichst nicht oder nur in einem geringen Umfang auftreten. Typische Beleuchtungssettings sind Dipol- oder Quadrupol-Beleuchtungssettings .

[0006] Zumindest wenn die Intensitäts- und Einfallswinkelverteilung auf einer Maske nicht absolut homogen ist, werden die optischen Elemente der Projektionsvorrichtung nicht gleichmäßig über deren gesamte Fläche verteilt genutzt, d. h., gleichmäßig mit Projektionsstrahlung beaufschlagt. Da ein Teil der auf die optischen Elemente auf treff enden Projektionsstrahlung von diesen jedoch absorbiert wird, ergeben sich dann regelmäßig nur lokale Wärmeeinträge in die optischen Elemente. Aufgrund solcher nur lokalen Wärmeeinträge und der daraus resultierenden lokalen Wärmeausdehnungen bei den optischen Elementen kann sich das optische Element derart in sich verformen, dass die Abbildungsqualität abnimmt.

[0007] Um dem entgegenzuwirken, sind sog. Sektorheizer bekannt, mit denen gezielt Heizstrahlung, insbesondere Infrarotstrahlung, auf diejenigen Bereiche eines optischen Elementes gerichtet werden kann, in denen zumindest zeitweise keine Proj ektionsstrahlung auftri f ft , um in eben diesen Bereichen Wärme einzutragen . Durch geeignete Wahl von Intensität und Strahlungsmuster des Sektorhei zers kann so eine deutlich gleichmäßigere Temperaturverteilung in einem optischen Element erreicht werden, was Verformungen der optisch aktiven Fläche (n) des optischen Elements reduziert und der Abbildungsqualität zugutekommt .

[ 0008 ] Um die erforderliche Variabilität in der Auswahl der zu bestrahlenden Bereiche eines optischen Elementes zu gewährleisten und gleichzeitig dem üblicherweise geringen Bauraum in einer Pro ektionsvorrichtung Rechnung zu tragen, wird in der Regel die , die Hei zstrahlung erzeugende Strahlungsquelle getrennt von dem eigentlichen Sektorhei zer, von dem die Hei zstrahlung gerichtet abgegeben wird, ausgeführt . Die Hei zstrahlung gelangt dann durch einen Faserstrang von der Strahlungsquelle zum Sektorhei zer . Dabei weist der Faserstrang in der Regel mehrere in ihrer relativen Lage zueinander eindeutig definierten Leitungs fasern auf . Durch gezieltes Einbringen von Hei zstrahlung in die einzelnen Leitungs fasern aufseiten der Strahlungsquelle kann die Auswahl der durch den Sektorhei zer zu bestrahlenden Bereiche des optischen Elements bereits an der vom Sektorhei zer entfernt angeordneten Strahlungsquelle erfolgen .

[ 0009 ] Damit die durch den Faserstrang bzw . dessen einzelne Leitungs fasern zum Sektorhei zer gelangende Hei zstrahlung tatsächlich auf die den einzelnen Leitungs fasern zugeordneten Bereichen des optischen Elementes auftri f ft , ist eine präzise Entkopplung der Strahlung aus dem Faserstrang erforderlich . Insbesondere muss dafür die Position des Austrittsendes des Faserstrangs gegenüber dem üblicherweise auf dieses im Sektorhei zer folgenden Kollimator präzise eingestellt werden; nur so kann sichergestellt werden, dass auch tatsächlich genau die gewünschten vorgegebenen Sektoren auf dem optischen Element gezielt durch den Sektorhei zer bestrahlt werden . Diese Einstellung bzw . Justage des Austrittsendes des Faserstrangs gegenüber dem Kollimator ist aufwendig und aufgrund unvermeidbarer Herstellungstoleranzen für j eden Faserstrang bzw . Sektorhei zer individuell vorzunehmen . Insbesondere ein Austausch eines Sektorhei zers und/oder eines Faserstrangs bei einer bestehenden Pro ektionsvorrichtung ist dadurch sehr aufwendig .

[ 0010 ] Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Faserstrang für einen Sektorhei zer einer Proj ektionsvorrichtung für die Mikrolithografie sowie einen dafür ausgebildeten Sektorhei zer, eine Anordnung und eine Proj ektionsvorrichtung j eweils umfassend einen erfindungsgemäßen Faserstrang zu schaffen, bei denen die aus dem Stand der Technik bekannten Nachteile nicht mehr oder nur noch in geringerem Umfang auftreten .

[ 0011 ] Gelöst wird diese Aufgabe durch einen Faserstrang gemäß dem Hauptanspruchs sowie Sektorhei zer, Anordnung und Proj ektionsvorrichtung gemäß den nebengeordneten Ansprüchen . Vorteilhafte Weiterbildungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche .

[ 0012 ] Demnach betri f ft die Erfindung einen Faserstrang für einen Sektorhei zer einer Proj ektionsvorrichtung für die Mikrolithografie , umfassend mehrere separate Leitungs fasern, wobei am für die Anbindung an den Sektorhei zer vorgesehene Ende des Faserstrangs ein Stecker vorgesehen ist , in dem die einzelnen Leitungs fasern in definierten Position befestigt sind, und an dem eine Multi-Linsen-Array-Einheit in einer definierten Position orts fest gegenüber den Leitungs fasern derart befestigt und ausgebildet ist , dass j eweils eine Linse der Multi-Linsen- Array-Einheit für jeweils eine der Leitungsfasern einen Kollimator bildet.

[0013] Weiterhin betrifft die Erfindung einen Sektorheizer umfassend eine Buchse als Aufnahme für das dafür vorgesehene Ende eines Faserstrangs und eine Bestrahlungsoptik zur Abbildung der über die Buchse eingebrachten Strahlung auf ein optisches Element einer Pro ektionsvorrichtung für die Mikrolithografie, wobei der Sektorheizer zur Anbindung an einen erfindungsgemäßen Faserstrang ausgebildet und Kollimator-frei ist.

[0014] Auch betrifft die Erfindung eine Anordnung aus einem erfindungsgemäßen Faserstrang und einem erfindungsgemäßen Sektorheizer, wobei der Faserstrang mit seinem zur Anbindung an einen Sektorheizer ausgebildeten Ende in der Buchse des Sektorheizers aufgenommen ist.

[0015] Schlussendlich betrifft die Erfindung auch eine Projektionsvorrichtung für Projektionsbelichtungsanlagen für die Mikrolithografie, umfassend wenigstens ein optisches Element zur Projektion einer Struktur von einer Objektebene auf eine Bildebene, wobei wenigstens eine erfindungsgemäße Anordnung vorgesehen ist, deren Sektorheizer zur wahlweisen Bestrahlung eines optischen Elements der Projektionsvorrichtung angeordnet und ausgerichtet ist.

[0016] Zunächst werden einige in Zusammenhang mit der Erfindung verwendete Begriffe erläutert:

[0017] Bei einer „Multi-Linsen-Array-Einheit" handelt es sich um eine häufig integral geformte Baugruppe, bei der eine Mehrzahl von Linsen in einer gemeinsamen Ebene angeordnet sind. Die Anordnung der einzelnen Linsen in der Ebene ist dabei beliebig ausgestaltbar und kann bspw. rechteckig, hexagonal oder kreisförmig erfolgen, wobei nicht an sämtlichen Positionen des Grundmusters eine Linse vorgesehen sein muss . Vielmehr ist es ausreichend, Linsen nur an den tatsächlich benötigten Positionen an der Multi-Linsen-Array-Einheit aus zubilden . Grundsätzlich ist es möglich, dass bei einer Multi-Linsen-Array-Einheit mehrere parallele Ebenen mit j eweils darin angeordneten Linsen vorgesehen sind . Für die vorliegende Erfindung ist es aber in aller Regel ausreichend, wenn die Multi-Linsen-Array-Einheit lediglich eine Ebene mit darin angeordneten Linsen aufweist , weshalb eine solche Ausgestaltung auch bevorzugt ist .

[ 0018 ] Ein „Kollimator" dient der Erzeugung von Strahlung mit ( annähernd) parallelem Strahlengang aus von einer divergenten Quelle ausgehenden Strahlung . Die Austrittsenden von Leitungsfasern stellen bspw . eine solche Quelle von divergenter Strahlung dar, die durch einen Kollimator parallelisiert werden kann .

[ 0019 ] Eine Vorrichtung ist „Kollimator- frei" , wenn die Vorrichtung selbst keinen Kollimator aufweist .

[ 0020 ] Die Erfindung hat erkannt , dass durch das Vorsehen von Kollimatoren für die einzelnen Leitungs fasern bereits unmittelbar am für die Anbindung an den Sektorhei zer vorgesehenen Ende des Faserstrangs der Aufwand für die Einstellung und Justage bei der Verbindung mit einem Sektorhei zer gegenüber dem Stand der Technik deutlich reduziert werden kann . Indem die am fraglichen Ende den Faserstrang wahlweise aus den individuellen Leitungs fasern vergleichbare zu einer divergenten Strahlungsquelle austretende Hei zstrahlung durch die gegenüber den Leitungs fasern orts fest befestigte Multi-Linsen-Array-Einheit des Faserstrangs bereits zu parallelen Strahlengängen transformiert wird, entfällt die im Stand der Technik erforderliche aufwendige Justage des Faserstrangs gegenüber einem fest im Sektorhei zer verbauten und ggf . ebenfalls j ustierbaren Kollimator . Insbesondere auf die im Stand der Technik erforderliche hochgenaue Einstellung des Abstandes zwischen dem Ausgangsende eines bekannten Faserstrangs und dem Kollimator, die für möglichst weitgehende Parallelisierung der divergenten Ausgangsstrahlung erforderlich ist , kommt es bei dem erfindungsgemäßen Faserstrang nicht an . Damit reduziert sich die Justage eines erfindungsgemäßen Strahlungsteilers regelmäßig auf die Einstellung der relativen Position und Orientierung gegenüber dem im Verlauf des Strahlengangs nachfolgendem Element des Sektorhei zers derart , dass durch die einzelnen Leitungs fasern j eweils die gewünschten Sektoren eines optischen Elements bspw . einer Pro ektionsvorrichtung bestrahlt werden . Eine entsprechende relative Position und Orientierung lässt sich grundsätzlich bereits durch das Vorsehen von geeigneten Anschlägen für den Faserstrang in dem Sektorhei zer erreichen . Die Justierung zwischen den Enden der einzelnen Leitungs fasern und der Multi-Linsen-Array-Einheit zur Bildung der gewünschten Kollimatoren erfolgt einmalig bei der Herstellung des erfindungsgemäßen Faserstrangs und muss - auch im Falle eines Austausches bspw . eines Sektorhei zers - nicht wiederholt werden .

[ 0021 ] Es ist bevorzugt , wenn die Multi-Linsen-Array-Einheit ein zur Bildung von Linsen, vorzugsweise von sämtlichen Linsen der Multi-Linsen-Array-Einheit , nur einseitig strukturiertes Substrat umfasst . Die einzelnen Linsen sind dann plan-konvexe Linsen, die vorzugsweise integral in einem einzigen Substrat ausgeformt sind . Kostengünstige und ausreichend präzise Herstellungsverfahren für entsprechende Substrate bzw . deren Strukturierung sind im Stand der Technik bekannt . Die Multi- Linsen-Array-Einheit kann insbesondere auch einstückig allein aus einem entsprechenden Substrat sein .

[ 0022 ] Es ist möglich, dass die Multi-Linsen-Array-Einheit unmittelbar an der Stirnfläche des Steckers anliegend ist . Eine entsprechende Anordnung bietet den Vorteil , dass zwischen dem Stecker und der Multi-Linsen-Array-Einheit kein Zwischenraum besteht , in den Staub oder sonstige Partikel eindringen könnten . Die Multi-Linsen-Array-Einheit muss in diesem Fall dann so ausgebildet sein, dass die einzelnen Linsen den richtigen Abstand zu den freien Enden der Leitungs fasern aufweisen, um aus den von dort j eweils ausgehenden divergenten Strahlengängen j eweils parallelen Strahlengänge mit vorgegebenem Durchmesser zu erreichen . I st die Multi-Linsen-Array-Einheit einstückig aus einem nur einseitig strukturierten Substrat gebildet , hat das Substrat eine geeignete Höhe auf zuweisen, damit die Linsen auf der strukturierten Seite des Substrats in einem ausreichenden Abstand zur gegenüberliegenden Seite bzw . zur Stirnfläche des Steckers angeordnet sind .

[ 0023 ] Alternativ ist es auch möglich, dass zwischen Stecker und Multi-Linsen-Array-Einheit ein Abstandshalter vorgesehen ist , der sowohl unmittelbar an der Stirnfläche des Steckers als auch unmittelbar an die Multi-Linsen-Array-Einheit anliegend ist , sodass auch hier das Eindringen von Staub oder anderen Partikeln ausgeschlossen ist . Mithil fe eines entsprechenden Abstandshalters kann der ggf . erforderliche Abstand zwischen den freien Enden der Leitungs fasern und den Linsen der Multi-Linsen-Array-Einheit sichergestellt werden, ohne dass diesbezügliche Anforderungen an die Multi-Linsen-Array-Einheit bestehen . I st die Multi-Linsen-Array-Einheit bspw . einstückig aus einem einseitig strukturierten Substrat in einer für gewöhnliche flache Multi-Linsen-Arrays ausgebildeten Maschine hergestellt , sodass die Höhe des Substrats allein nicht ausreichend ist , um den erforderlichen Abstand zwischen Stirnfläche des Steckers und den Linsen der Multi-Linsen-Array-Einheit zu schaf fen, kann der erforderliche Abstand durch das Vorsehen des Abstandshalters sichergestellt werden . [ 0024 ] Es ist bevorzugt , wenn, j e nach Ausgestaltung des Faserstrangs , entweder die Multi-Linsen-Array-Einheit an den Stecker, oder aber der Abstandshalter sowohl an die Multi-Linsen-Array-Einheit als auch den Stecker angesprengt ist . Dazu müssen die zur Anlage an die j eweils benachbarte Komponente vorgesehenen Oberflächen eine ausreichend hohe Oberflächengüte und Reinheit aufweisen, dass sie beim Anschieben allein durch molekulare Anziehungskräfte fest miteinander verbunden werden . Eine Verbindung durch Ansprengen hat den Vorteil , dass keine Hil fsstof fe oder Hil fskonstruktionen für die Verbindung der Komponenten erforderliche sind . Außerdem ist die Grenz fläche zwischen zwei durch Ansprengen verbundenen Komponenten von besonders hoher Qualität , was für den Strahlungsdurchgang über die Grenz fläche vorteilhaft ist .

[ 0025 ] Es ist bevorzugt , wenn Stecker, Abstandshalter und/oder Multi-Linsen-Array-Einheit Anschlagflächen aufweisen . Die Anschlagflächen können insbesondere abseits der Flächen, mit denen die einzelnen Komponenten aneinander anliegen, vorgesehen sein .

[ 0026 ] Die Anschlags flächen können zum einen der vereinfachten Ausrichtung der genannten Komponenten, insbesondere von Stecker und Multi-Linsen-Array-Einheit zueinander während der Montage dienen . Bspw . ist die Orientierung der Multi-Linsen- Array-Einheit um die Längsachse des Faserstrangs derart an die Lage der Leitungs fasern im Stecker anzuordnen, dass die von den einzelnen Leitungs fasern ausgehenden divergenten Strahlengänge optimal auf die j eweiligen Linsen der Multi-Linsen-Array-Einheit auftref fen . Durch entsprechendes , an den Anschlagflächen angrei fendes Werkzeug kann eben diese Orientierung sehr präzise eingestellt werden . [0027] Die Anschlagflächen können zum anderen aber auch bei der letztendlichen Verbindung des fertiggestellten Faserstrangs mit einem Sektorheizer hilfreich sein. Selbst wenn mit dem erfindungsgemäßen Faserstrang der Aufwand für die Justierung des Faserstrangs im Sektorheizer stark reduziert werden kann, ist dennoch eine gewisse Justierung erforderlich, um sicherzustellen, dass über die einzelnen Leitungsfasern auch tatsächlich die für die jeweiligen Leitungsfasern vorgesehen Sektoren auf einem optischen Element, bspw. einer Projektionsvorrichtung, bestrahlt werden. Bei dieser Ausrichtung können Anschlagflächen, an denen bspw. Justierelemente angreifen können, hilfreich sein.

[0028] Es ist bevorzugt, wenn Stecker, Abstandshalter und/oder Multi-Linsen-Array-Einheit aus Glassubstrat gefertigt sind. Sind zwei benachbarte Komponenten aus identischem Substrat hergestellt, lässt sich durch Ansprengen eine besonders feste und dauerhafte Verbindung erreichen. Auch entstehen in diesem Fall praktisch keine relevanten optischen Effekte, wie bspw. Brechung, an der Grenzfläche zwischen zwei Komponenten aus Glassubstrat. Alternativ können zwei benachbarte Komponenten auch bewusst aus unterschiedlichen Substraten sein, um an der Grenzfläche günstige optische Effekte herbeizuführen. So kann bspw. durch ein hochbrechendes Glassubstrat als Abstandshalter die numerische Apertur des aus den Leitungsfasern austretenden Strahlung vergrößert werden.

[0029] Es ist bevorzugt, wenn der Faserstrang fünf, sieben oder neun separate Leitungsfasern aufweist. Mit einer entsprechenden Anzahl an Leitungsfasern lassen sich bereits regelmäßig ausreichend viele Sektoren auf einem optischen Element bestrahlen. Aufgrund der bei dem erfindungsgemäßen Faserstrang reduzierten Justage ist aber auch denkbar, die Anzahl der Leitungsfasern über die genannte Anzahl hinaus zu erhöhen, womit dann die j eweils individuell zu bestrahlenden Sektoren grundsätzlich kleiner werden können . Es ist auch möglich, dass sich einzelne Sektoren wenigstens teilweise überlagern . Durch eine erhöhte Anzahl an Leitungs fasern erhöht sich auch der diesbezügliche Designfreiraum .

[ 0030 ] Der erfindungsgemäße Sektorhei zer ist zum Anschluss eines erfindungsgemäßen Faserstrangs daran ausgebildet . Da der erfindungsgemäße Faserstrang an seinem zum Anschluss an den Sektorhei zer vorgesehenen Ende bereits einen Kollimator aufweist , muss ein entsprechendes optisches Element am Sektorheizer nicht mehr vorgesehen sein . Der Sektorhei zer kann demzufolge Kollimator- frei ausgebildet sein .

[ 0031 ] Durch die Bestrahlungsoptik des Sektorhei zers werden die durch einen erfindungsgemäßen Faserstrang in den Sektorhei zer eingebrachten parallelen Strahlengänge auf dafür j eweils vorgesehene Sektoren des zu erwärmenden optischen Elementes , bspw . einer Proj ektionsvorrichtung, abgebildet . Die Bestrahlungsoptik kann dabei neben einer oder mehrerer Optiken zur Vergrößerung des Abbildes der parallelen Strahlengänge auf einen größeren Bereich auch ein oder mehrere di f fraktive optische Elemente aufweisen, mit denen die Form der durch die einzelnen parallelen Strahlengänge letztendliche bestrahlten Sektoren beliebig angepasst wird .

[ 0032 ] Im Vergleich zum Stand der Technik - wenn überhaupt - nur ein geringerer Aufwand für die Justage erforderlich ist . In vielen Fällen ist es ausreichend, wenn die Buchse im Sektorhei zer Aufnahme für das dafür vorgesehene Ende eines Faserstrangs ausreichend präzise angeordnet und geeignete Anschlagflächen für den Faserstrang aufweist , sodass bei ordnungsgemäßer Aufnahme des Faserstrangs in der Buchse die Position und Ausrichtung des Faserstrangs bereits ausreichend genau festgelegt ist . Um eine evtl , weitergehende Justage zu ermöglichen, ist es aber auch möglich, wenn die Buchse Justiermittel aufweist , mit denen ein von der Buchse aufgenommenes Ende eines Faserstrangs gegenüber den übrigen optischen Elementen des Sektorhei zers in Position und/oder Orientierung eingestellt werden kann . Uber die Justiermittel kann noch genauer sichergestellt werden, dass über die Bestrahlungsoptik die für j ede Leitungs faser vorgesehenen Sektoren auch tatsächlich bestrahlt werden .

[ 0033 ] Es ist bevorzugt , wenn der Sektorhei zer einen Strahlungsteiler zur Aufteilung einer über die Buchse eingebrachten Strahlung gemäß ihrer Polarisierung in zwei separate Teilstrahlungen und für wenigstens eine der separaten Teilstrahlungen eine Wellenplatte zur Angleichung der Polarisierung der beiden Teilstrahlungen umfasst . Durch die entsprechende Angleichung der Polarisierung ist es möglich, sämtlicher in den Sektorhei zer eingebrachten Strahlung, bspw . Infrarot-Strahlung, eine einheitliche Polarisierung zu verleihen, die insbesondere so ausgerichtet sein kann, dass die Absorption der Strahlung durch das bestrahlte optische Element maximal ist .

[ 0034 ] Zur Erläuterung der erfindungsgemäßen Anordnung wird auf die vorstehenden Aus führungen verwiesen .

[ 0035 ] Bei der Anordnung ist bevorzugt , wenn der Faserstrang an seinem anderen Ende an eine Strahlungsquelle angebunden ist , die vorzugsweise zur separat steuerbaren Einkopplung von Strahlung in die einzelnen Leitungs fasern ausgebildet ist . Durch eine entsprechende Strahlungsquelle kann wahlweise Strahlung in die einzelnen Leitungs fasern eingebracht werden, was zur wahlweisen Bestrahlung der den fraglichen Leitungs fasern zugeordneten Sektoren durch den Sektorhei zer führt . [0036] Zur Erläuterung der erfindungsgemäßen Projektionsvorrichtung wird auf die vorstehenden Ausführungen verwiesen.

[0037] Die Erfindung wird nun anhand vorteilhafter Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben. Es zeigen:

Figur 1: eine schematische Darstellung einer erfindungsgemäßen Pro ektionsbelichtungsanlage für die EUV- Mikrolithograf ie mit einer erfindungsgemäßen Anordnung aus einem erfindungsgemäßen Sektorheizer und einem erfindungsgemäßen Faserstrang;

Figur 2a, b: schematische Darstellungen der zur Anbindung an einen Sektorheizer vorgesehenen Enden zweier Ausführungsformen eines erfindungsgemäßen Faserstrangs aus Figur 1; und

Figur 3: eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispiels einer erfindungsgemäßen Anordnung gemäß Figur 1, umfassend einen erfindungsgemäßen Sektorheizer und einen Faserstrang gemäß Figur 2.

[0038] In Figur 1 ist eine Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithografie in einem schematischen Meridionalschnitt dargestellt. Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst dabei ein Beleuchtungssystem 10 und ein Projektionssystem 20.

[0039] Mithilfe des Beleuchtungssystems 10 wird ein Objektfeld 11 in einer Objektebene bzw. Retikelebene 12 beleuchtet. Das Beleuchtungssystem 10 umfasst dazu eine Belichtungsstrahlungsquelle 13, die im dargestellten Ausführungsbeispiel Beleuchtungsstrahlung zumindest umfassend Nutzlicht im EUV-Bereich, also mit einer Wellenlänge zwischen 5 nm und 30 nm, insbesondere mit einer Wellenlänge von 13,5 nm, abgibt. Bei der Belichtungsstrahlungsquelle 13 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle ( Laser Produced Plasma, mithil fe eines Lasers erzeugtes Plasma ) oder um eine DPP-Quelle ( Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma ) . Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln . Bei der Belichtungsstrahlungsquelle 13 kann es sich auch um einen Freie- Elektronen-Laser ( Free-Electron-Laser , FEL ) handeln .

[ 0040 ] Die von der Belichtungsstrahlungsquelle 13 ausgehende Beleuchtungsstrahlung wird zunächst in einem Kollektor 14 gebündelt . Bei dem Kollektor 14 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloi- den Reflexions flächen handeln . Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 14 kann im strei fenden Einfall ( Grazing Incidence , Gl ) , also mit Einfallswinkeln größer als 45 ° , oder im normalen Einfall (Normal Incidence , NI ) , also mit Einfallwinkeln kleiner als 45 ° , mit der Beleuchtungsstrahlung beaufschlagt werden . Der Kollektor 14 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflexivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein .

[ 0041 ] Nach dem Kollektor 14 propagiert die Beleuchtungsstrahlung durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 15 . Sollte das Beleuchtungssystem 10 in modularer Bauweise aufgebaut werden, kann die Zwischenfokusebene 15 grundsätzlich für die - auch strukturellen - Trennung des Beleuchtungssystems 10 in ein Strahlungsquellenmodul , aufweisend die Belichtungsstrahlungsquelle 13 und den Kollektor 14 , und der nachfolgend beschriebenen Beleuchtungsoptik 16 herangezogen werden . Bei einer entsprechenden Trennung bilden Strahlungsquellenmodul und Beleuchtungsoptik 16 dann gemeinsam ein modular auf gebautes Beleuchtungssystem 10 . [ 0042 ] Die Beleuchtungsoptik 16 umfasst einen Umlenkspiegel

17 . Bei dem Umlenkspiegel 17 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln . Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 15 als Spektral filter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrahlung von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt .

[ 0043 ] Mit dem Umlenkspiegel 17 wird die von der Belichtungsstrahlungsquelle 13 stammende Strahlung auf einen ersten Facettenspiegel 18 umgelenkt . Sofern der erste Facettenspiegel

18 dabei - wie vorliegend - in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 16 angeordnet ist , die zur Retikelebene 12 als Feldebene optisch konj ugiert ist , wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet .

[ 0044 ] Der erste Facettenspiegel 18 umfasst eine Viel zahl von individuell um j eweils zwei senkrecht zueinander verlaufende Achsen verschwenkbare Mikrospiegel (nicht näher dargestellt ) zur steuerbaren Bildung von Facetten . Bei dem ersten Facettenspiegel 18 handelt es sich somit um ein mikroelektromechanisches System (MEMS-System) , wie es bspw . auch in der DE 10 2008 009 600 Al beschrieben ist .

[ 0045 ] Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 16 ist dem ersten Facettenspiegel 18 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel

19 , sodass sich ein doppelt facettiertes System ergibt , dessen Grundprinzip auch als Wabenkondensor ( Fly' s Eye Integrator ) bezeichnet wird . Sofern der zweite Facettenspiegel 19 - wie im dargestellten Aus führungsbeispiel - in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 16 angeordnet ist , wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet . Der zweite Facettenspiegel

19 kann aber auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein, womit sich aus der Kombination aus dem ersten und dem zweiten Facettenspiegel 18, 19 ein spekularer Reflektor ergibt, wie er bspw. in der US 2006/0132747 Al, der EP 1 614 008 Bl und der US 6,573,978 beschrieben ist.

[0046] Auch der zweite Facettenspiegel 19 umfasst eine Vielzahl von individuell um jeweils zwei senkrecht zueinander verlaufende Achsen verschwenkbare Mikrospiegel. Zur weiteren Erläuterung wird auf die DE 10 2008 009 600 Al verwiesen.

[0047] Mithilfe des zweiten Facettenspiegels 19 werden die einzelnen Facetten des ersten Facettenspiegels 18 in das Objektfeld 5 abgebildet, wobei es sich regelmäßig nur um eine näherungsweise Abbildung handelt. Der zweite Facettenspiegel 19 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung im Strahlengang vor dem Objektfeld 5.

[0048] Jeweils eine der Facetten des zweiten Facettenspiegels 19 ist genau einer der Facetten des ersten Facettenspiegels 18 zur Ausbildung eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben.

[0049] Die Facetten des ersten Facettenspiegels 18 werden jeweils von einer zugeordneten Facette des zweiten Facettenspiegels 19 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 abgebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist dabei möglichst homogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden . [ 0050 ] Durch Auswahl der letztendlich verwendeten Beleuchtungskanäle , was durch geeignete Einstellung der Mikrospiegel des ersten Facettenspiegels 18 problemlos möglich ist , kann weiterhin die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille des nachfolgend beschriebenen Proj ektionssystems 20 eingestellt werden . Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting bezeichnet . Dabei kann im Übrigen vorteilhaft sein, wenn der zweite Facettenspiegel 19 nicht exakt in einer Ebene , welche zu einer Pupillenebene des Pro ektionssystems 20 optisch konj ugiert ist , anzuordnen . Insbesondere kann der Pupillenfacettenspiegel 19 gegenüber einer Pupillenebene des Proj ektionssystems 20 verkippt angeordnet sein, wie es zum Beispiel in der DE 10 2017 220 586 Al beschrieben ist .

[ 0051 ] Bei der in der Figur 1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuchtungsoptik 16 ist der zweite Facettenspiegel 19 aber in einer zur Eintrittspupille des Proj ektionssystems 20 konj ugierten Fläche angeordnet . Umlenkspiegel 17 sowie die beiden Facettenspiegel 18 , 19 sind sowohl gegenüber der Obj ektebene 6 als auch zueinander j eweils verkippt angeordnet .

[ 0052 ] Bei einer alternativen, nicht dargestellten Aus führungs form der Beleuchtungsoptik 16 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 19 und dem Obj ektfeld 11 noch eine Ubertragungsoptik umfassend einen oder mehrere Spiegel vorgesehen sein . Die Ubertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (NI-Spiegel , Normal Incidence Spiegel ) und/oder einen oder zwei Spiegel für strei fenden Einfall ( Gl-Spiegel , Gracing Incidence Spiegel ) umfassen . Mit einer zusätzlichen Ubertragungsoptik kann insbesondere unterschiedlichen Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang des nachfolgend beschriebenen Proj ektionssystems 20 berücksichtigt werden . [0053] Es ist alternativ möglich, dass auf den in Figur 1 dargestellten Umlenkspiegel 17 verzichtet wird, wozu dann die Facettenspiegel 18, 19 gegenüber der Strahlungsquelle 13 und dem Kollektor 14 geeignet anzuordnen sind.

[0054] Mithilfe des Projektionssystems 20 wird das Objektfeld 11 in der Retikelebene 12 auf das Bildfeld 21 in der Bildebene 22 übertragen.

[0055] Das Projektionssystem 20 umfasst dafür eine Mehrzahl von Spiegeln Mi bzw. 25, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durchnummeriert sind .

[0056] Bei dem in der Figur 1 dargestellten Beispiel umfasst das Projektionssystem 20 sechs Spiegel 25, Mi bis M ₆ . Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln 25, Mi sind ebenso möglich. Der vorletzte Spiegel M ₅ und der letzte Spiegel M ₆ haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung, womit es sich bei dem dargestellten Projektionssystem 20 um eine doppelt obskurierte Optik handelt. Das Projektionssystem 20 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,3, die aber auch größer sein kann als 0, 6. Die Apertur kann insbesondere beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen.

[0057] Die Reflexionsflächen der Spiegel 25, Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel 25, Mi aber auch als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel 25, Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 16, hoch reflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer-Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium, gestaltet sein.

[0058] Das Projektionssystem 20 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 11 und einer y-Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 21. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y- Richtung kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebene 21 und der Bildebene 22.

[0059] Das Projektionssystem 20 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein, d. h. es weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe ß _x , ß _y in x- und y-Richtung auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe ß _x , ß _y des Projektionssystems 20 liegen bevorzugt bei (ß _x , ß _y ) = ( + /- 0,25, / + - 0, 125) . Ein Abbildungsmaßstab ß von 0,25 entspricht dabei einer Verkleinerung im Verhältnis 4:1, während ein Abbildungsmaßstab ß von 0,125 in eine Verkleinerung im Verhältnis 8:1 resultiert. Ein positives Vorzeichen beim Abbildungsmaßstab ß bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr, ein negatives Vorzeichen eine Abbildung mit Bildumkehr.

[0060] Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe ß _x , ß _y in x- und y-Richtung sind möglich.

[0061] Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 11 und dem Bildfeld 21 kann, je nach Ausführung des Projektionssystems 20, gleich oder unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionssysteme 20 mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwischenbilder in x- und y-Richtung sind bekannt aus der US 2018/0074303 Al. [ 0062 ] Das Proj ektionssystem 20 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen . Diese kann zugänglich sein . Sie kann aber auch unzugänglich sein .

[ 0063 ] Durch das Beleuchtungssystem 10 belichtet und durch das Pro ektionssystem 20 auf die Bildebene 21 übertragen wird ein im Obj ektfeld 11 angeordnetes Retikel 30 ( auch Maske genannt ) . Das Retikel 30 ist von einem Retikelhalter 31 gehalten . Der Retikelhalter 31 ist über einen Retikelverlagerungsantrieb 32 insbesondere in einer Scanrichtung verlagerbar . Im dargestellten Aus führungsbeispiel verläuft die Scanrichtung in x-Rich- tung .

[ 0064 ] Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 30 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 21 in der Bildebene 22 angeordneten Wafers 35 . Der Wafer 35 wird von einem Waferhalter 36 gehalten . Der Waferhalter 36 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 37 insbesondere längs der x-Richtung verlagerbar . Die Verlagerung einerseits des Reti- kels 30 über den Retikelverlagerungsantrieb 32 und andererseits des Wafers 35 über den Waferverlagerungsantrieb 37 kann synchronisiert zueinander erfolgen .

[ 0065 ] Die in Figur 1 dargestellte Proj ektionsbelichtungsanlage 1 gemäß der vorstehenden Beschreibung stellt im wesentlichen bekannten Stand der Technik dar .

[ 0066 ] Bei dem Proj ektionssystem 20 der Proj ektionsbelichtungsanlage 1 gemäß Figur 1 ist für einen Spiegel 25 , nämlich den Spiegel M ₂ , ein Sektorhei zer 50 vorgesehen, mit dem gezielt Sektoren 57 des Spiegels 25 (vgl . Figur 3 ) mit Infrarot-Strahlung bestrahlt werden können, um den Spiegels 25 in eben diesen Sektoren auf zuwärmen, um so eine mögliche gleichmäßige Temperatur über den gesamten Spiegel 25 zu erreichen, auch wenn nur Teile des Spiegels 25 für die eigentliche Proj ektion genutzt werden .

[ 0067 ] Aus Platzgründen, aber auch um den Wärmeeintrag, der unmittelbar von einer Strahlungsquelle 70 für Infrarot-Strahlung ausgeht , nur an dafür geeigneten Stellen - insbesondere entfernt von den optischen Elementen 25 - in das Proj ektionssystem 20 einzubringen, ist die eigentliche Strahlungsquelle 70 getrennt von dem Sektorhei zer 50 ausgeführt . Die Strahlung wird über einen Faserstrang 60 von der Strahlungsquelle 70 zu dem Sektorhei zer 50 geleitet und von diesem zur Bestrahlung des Spiegels 25 geeignet umgelenkt wird . Dabei umfasst der Faserstrang 60 eine der Anzahl der individuell von dem Sektorhei zer 50 zu bestrahlenden Sektoren 57 (vgl . Figur 3 ) entsprechende Anzahl an Leitungs fasern 61 (vgl . Figur 2 ) , die j eweils einem der Sektoren 57 zugeordnet sind . Die Strahlungsquelle 70 ist dabei dazu ausgebildet , Infrarot-Strahlung individuell in die einzelnen Leitungs fasern 61 einkoppeln zu können, womit die Ansteuerung, welche Sektoren 57 letztendlich bestrahlt werden, durch die Strahlungsquelle 70 erfolgt . Der Sektorhei zer 50 ist dann als rein passives Element aus führbar .

[ 0068 ] Der Sektorhei zer 50 und der Faserstrang 60 in Figur 1 sind erfindungsgemäß ausgebildet und werden nachfolgend näher erläutert .

[ 0069 ] In Figur 2a ist ein erstes Aus führungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Faserstrangs 60 dargestellt . Dabei beschränkt sich die Darstellung auf das zur Anbindung an den Sektorhei zer 50 vorgesehene Ende des Faserstrangs 60 . In den nicht dargestellten Bereichen ist der Faserstrang 60 gemäß dem Stand der Technik ausgebildet . [0070] Der Faserstrang 60 umfasst im dargestellten Ausführungsbeispiel - auch aus Gründen der Übersichtlichkeit - fünf Leitungsfasern 61. Es sind aber auch Faserstrang 60 mit einer anderen Anzahl an Leitungsfasern 61, bspw. sieben oder neun möglich .

[0071] Die einzelnen Leitungsfasern 61 sind in den dargestellten, jeweils definierten Positionen in einem Stecker 62 befestigt, insbesondere eingeklebt, und ragen bis zu der Stirnfläche 63 des Steckers 62. Die Enden der Leitungsfasern 61 wirken dabei wie dispergierende Quellen für die durch sie hindurchgeleitete Strahlung. Der Stecker 62 ist aus Glassubstrat gefertigt und ähnlich somit in weiten Teilen vergleichbaren Steckern aus dem Stand der Technik.

[0072] Die Stirnfläche 63 des Steckers 62 weist bei dem vorliegenden Ausführungsbeispiel aber eine solch hohe Oberflächengüte auf, dass an der Stirnfläche 63 eine Multi-Linsen-Ar- ray-Einheit 64 unmittelbar anliegend und angesprengt ist.

[0073] Bei der Multi-Linsen-Array-Einheit 64 handelt es sich um ein einseitig strukturiertes Glassubstrat, deren dem Stecker 62 zugewandte Oberfläche eine für das Ansprengen ausreichende Oberflächengüte aufweist. Auf der gegenüberliegenden, strukturierten Seite sind Linsen 65 ausgebildet, sodass die Multi-Linsen-Array-Einheit 64 eine Anordnung aus der Anzahl der Leitungsfasen 61 entsprechende Anzahl von plan-konvexen Linsen 65 umfasst.

[0074] Die Multi-Linsen-Array-Einheit 64 ist dabei derart ortsfest gegenüber den Leitungsfasern 61 positioniert und an dem Stecker 62 befestigt, dass jeweils eine plan-konvexe Linse 65 für eine Leitungsfaser 61 bzw. deren als divergente Strahlungsquelle aufzufassendes Ende einen Kollimator bildet, mit dem der von der Leitungs faser 61 ausgehende divergente Strahlengang zu einem parallelen Strahlengang umgewandelt wird . Exemplarisch ist dies in Figur 2a für eine Leitungs faser 61 und eine Linse 65 durch Strichpunktlinien ski z ziert .

[ 0075 ] Damit die durch die Linsen 65 erzeugten parallelen Strahlengänge j eweils einen gewünschten Durchmesser aufweisen, müssen die Linsen 65 in einem dafür geeigneten Abstand zur Stirnfläche 63 des Steckers 62 angeordnet sein . Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß Figur 2a wird dies erreicht , indem die Multi-Linsen-Array-Einheit 64 eine entsprechende Höhe aufweist .

[ 0076 ] Insbesondere wenn sich die erforderliche Strukturierung bei einem Glassubstrat mit größer Höhe , wie es bei der Multi- Linsen-Array-Einheit 64 aus Figur 2a erforderlich ist , zumindest mit zur Verfügung stehenden Maschinen schwierig gestalten sollte , kann zwischen dem Stecker 62 und dem Multi-Linsen-Array-Einheit 64 auch ein Abstandshalter 66 vorgesehen sein, wie dies in dem Aus führungsbeispiel gemäß Figur 2b dargestellt ist . Dieses Aus führungsbeispiel gleicht in weiten Teilen demj enigen aus Figur 2a, weshalb auf die vorstehenden Aus führungen verwiesen und im Folgenden nur auf die Unterschiede der beiden Aus führungsbeispiele eingegangen wird .

[ 0077 ] Der Abstandshalter 66 ist aus Glassubstrat gefertigt und weist derart vorbereitete Oberflächen auf , dass er sowohl mit dem Stecker 62 aber auch mit der Multi-Linsen-Array-Einheit 64 durch Ansprengen fest verbunden ist . Da sämtliche Komponente 62 , 64 , 66 aus Glassubstrat sind, entstehen an den Flächen, mit denen der Abstandhalter 66 an dem Stecker 62 bzw . der Multi-Linsen-Array-Einheit 64 anlegen, keine für den Strahlengang von den Leitungs fasern 61 zu den Linsen 65 relevanten optischen Ef fekte . [ 0078 ] Durch den Abstandshalter 66 ist es möglich, die Multi- Linsen-Array-Einheit 64 mit einer geringen Höhe zu fertigen, was die Herstellung der Strukturierung erleichtern kann . Der erforderliche Abstand zwischen Stirnfläche 63 des Steckers und den Linsen 65 wird über den Abstandshalter 66 mit einer geeigneten Höhe hergestellt .

[ 0079 ] Bei dem Aus führungsbeispiel gemäß Figur 2b weisen die Komponenten Stecker 62 , Multi-Linsen-Array-Einheit 64 und Abstandshalter 66 j eweils Anschlagflächen 67 auf . An diesen Anschlagflächen 67 können geeignete Werkzeuge zur Verbindung der Komponenten per Ansprengen und/oder zur Ausrichtung der Multi- Linsen-Array-Einheit 64 gegenüber dem Stecker 62 angrei fen, um die Linsen 65 gegenüber den Leitungs fasern 61 korrekt zu positionieren . Nach entsprechender Fertigstellung des Faserstrangs 60 können die Anschlagflächen 67 - ggf . nach erforderlichem Angleichen der Anschlagfläche 67 der einzelnen Komponenten zu einer durchgehend planen Anschlagfläche 67 durch entsprechendes Beischlei fen - zur einfacheren Ausrichtung des Faserstrangs 60 gegenüber einem Sektorhei zer 50 genutzt werden .

[ 0080 ] Bei den Aus führungsbeispielen gemäß Figuren 2a und 2b nicht dargestellt ist eine optionale Metall fassung für das in die Buchse 52 eines Sektorhei zers 50 (vgl . Figur 3 ) einzuführende Ende des Faserstrangs 60 . Eine entsprechende Metall fassung, welche die Komponenten Stecker 62 , Multi-Linsen-Array- Einheit 64 und Abstandshalter 66 umfasst , dient dabei ausschließlich der einfacheren Anbindung des Faserstrangs 60 an den Sektorhei zer 50 . Die Verbindung zwischen den einzelnen Komponenten 62 , 64 , 66 wird auf bei Vorhandensein einer Metall fassung vollständig durch das vorbeschriebene Ansprengen sichergestellt . [ 0081 ] In Figur 3 ist beispielhaft eine Anordnung umfassend einem Faserstrang 60 und einem Sektorhei zer 50 dargestellt , wie sie auch bei der Proj ektionsbelichtungsanlage 1 aus Figur 1 eingesetzt wird . Die Darstellung des Faserstrangs 60 beschränkt sich dabei erneut auf den Bereich der Anbindung an den Sektorhei zer 50 . Der Faserstrang 60 ist im dargestellten Aus führungsbeispiel gemäß Figur 2a ausgestaltet ; ebenso gut kann der Faserstrang 60 aber auch gemäß Figur 2b ausgestaltet sind .

[ 0082 ] Der Sektorhei zer 50 weist eine Aufnahme 51 für das dafür vorgesehene Ende des Faserstrangs 60 auf , die als Buchse 52 ausgestaltet ist . Die Buchse 52 ist durch nicht näher dargestellten Justiermittel gegenüber den übrigen Komponenten 53- 56 des Sektorhei zers 50 einstellbar, insbesondere im Hinblick auf die Position in Richtung senkrecht zur Längsachse des Faserstrangs 60 , sowie die Orientierung um die Längsachse des Faserstrangs 60 . Durch die Justiermittel kann sichergestellt werden, die von dem Sektorhei zer 50 abgegebenen parallelen Strahlengänge tref fen präzise in den j eweils dafür vorgesehenen Bereichen auf den nachfolgenden optischen Komponenten 53- 56 des Sektorhei zers 50 auf .

[ 0083 ] Da der Sektorhei zer 50 zur Verbindung mit einem erfindungsgemäßen Faserstrang 60 ausgebildet ist (vgl . bspw . Figur 2 ) , aus dem die Strahlung an dem für die Verbindung mit einem Sektorhei zer 50 vorgesehenen Ende aufgrund der dort vorgesehenen Multi-Linsen-Array-Einheit 64 bereits in Form von parallelen Strahlungsgängen austritt , ist der bei Sektorhei zern aus dem Stand der Technik grundsätzlich erforderliche Kollimator als dem Anschluss eines Faserstrangs unmittelbar nachgeordnetes optisches Element nicht erforderlich . Der Sektorhei zer 50 ist vielmehr Kollimator- frei . [0084] Demzufolge schließt sich an die Aufnahme 51 auch ein anderes optisches Element und eben kein Kollimator an. Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß Figur 3 ist dies ein Strahlungsteiler 53 an, durch den darauf einfallende, vom in der Aufnahme 51 auf genommenen Faserstrang 60 stammende Strahlung gemäß ihrer Polarisierung in zwei separate Teilstrahlungen aufgeteilt wird. Für beide Teilstrahlungen ist jeweils eine Halbwellenplatte 54 vorgesehen, mit denen die Polarisationen der beiden durch die Halbwellenplatte 54 laufenden Teilstrahlungen jeweils an eine gemeinsame, vorgegebene Polarisation angeglichen werden. Die gemeinsame Polarisation der beiden Teilstrahlungen kann dabei so gewählt sein, dass die Absorption der nachfolgend auf einen Spiegel 25 der Projektionsvorrichtung 20 (vgl. Figur 1) auf treff enden Strahlung dort möglichst maximal ist.

[0085] Für beide Teilstrahlungen sind weiterhin diffraktive optische Elemente 55 vorgesehen, mit denen die kreisförmigen parallelen Strahlengänge, wie sie von dem Faserstrang 60 stammen, in ihrer Form und Anordnung so angepasst werden, dass jeweils ein von dem Faserstrang 60 stammender paralleler Strahlengang einen gewünschten Sektor auf dem Spiegel 25 abdeckt.

[0086] Daran anschließend ist für jede Teilstrahlung eine Bestrahlungsoptik 56 vorgesehen, mit dem das durch die diffraktive optische Elemente 55 Strahlungsbild auf den Spiegel 25 abgebildet wird.

[0087] In Figur 3 ist für einen Spiegel 25 mithilfe gestrichelter Linien exemplarisch dargestellt, wie dieser in Sektoren 57 unterteilt sein kann. Dabei ist möglich, dass einer der Sektoren 57 ' einer einzelnen Leitungsfaser 61 des Faserstrangs 60 zugeordnet ist, d. h. wenn eben dieser Sektor bestrahlt werden soll, mit durch die Strahlungsquelle 70 (vgl. Figur 1) Infrarot-Strahlung in eben diese Leitungsfaser 61 eingekoppelt werden. Es ist auch möglich, dass zwei oder mehr Sektoren 57' ' einer gemeinsamen Leitungsfaser 61 zugeordnet sind. Solche Sektoren 57' ' lassen sich dann nur gemeinsam bestrahlen.