以下に本発明の実施の形態を説明するが� ��これら実施の形態は例示的に示されるもの� ��、本発明の技術思想から逸脱しない限り種� ��の変形が可能なことはいうまでもない。

 図1において、符号10は版母材で、アルミ� ��ウム、鉄等の金属製又は炭素繊維強化樹脂( CFRP)製の中空ロール11aの表面にクッション層1 1bを設けたものが用いられる(図2のステップ10 0)。該クッション層11bは、ゴム又はクッショ� ��性を有する樹脂からなり、1mm~10cm程度の均� �な厚さで表面の平滑度が高いシート状のも� �を、継ぎ目に隙間が開かないように中空ロ� �ル11aに巻付け強固に接着し、その後、精密� �筒研削、鏡面研磨される。

 次に、前記クッション層11bの表面に感光� ��版材層12を形成する(図2のステップ102)。感� �性版材層12は、光重合性を有し、少なくとも 光重合反応後において適度のクッション性と 耐刷力を有する感光性版材により形成される 。前記感光性版材としては、感光剤又は感光 性シート状物を用いることができ、前記クッ ション層11bに感光剤を塗布又は感光性シート を積層し、感光性版材層が形成される。感光 性版材の材料として用いられる感光性組成物 としては、公知のネガ型感光性組成物及びポ ジ型感光性組成物が挙げられるが、ネガ型感 光性組成物が好適であり、ネガ型感光性組成 物を用いてネガ型感光性版材層を形成するこ とが好ましい。前記感光性組成物としては、 例えば、感光性エラストマー組成物(ジエン� �ポリマー、エチレン性不飽和化合物、及び� �重合開始剤を主成分とするもので、例えば� �開平5-249695号公報に開示されるものが使用可 能である)が挙げられる。

 前記形成された感光性版材層(即ち、グラビ アセルを形成する工程前の感光性版材層)の� �厚については特別の限定はなく、版の使用� �的と関連してセルの深さや、感光性版材層12 の形成の容易性、コスト、現像との関連で適 宜に決定できる。
 感光性版材層12の膜厚をセルの深さと同じ� �することにより、クッション層11bが露出す� �ようにセルが形成され[図3(d)]、感光性版材� �12の膜厚をセルの深さよりも厚くすることに より、クッション層11bが露出せず、感光性版 材層12の表面にセルが形成される[図1(d)]。セ� ��の深さが深い(例えば、深度1mm以上)の場合� �感光性版材として感光性シート状物を用い� �ことが好ましく、セルの深さが浅い(例えば� ��深度1mm未満)の場合、感光性版材として感光 剤を用いることが好ましい。例えば、
グラビアセルの深度が2~20μmの場合、感光剤� �用いて2~30μmの感光性版材層を形成すること� ��好適である。

 例えば、段ボール印刷等ではグラビアセル� ��深さを1ミリ以上とすることがあるので、感 光性版材層12の膜厚はそれよりも数mm厚くす� �ことが好ましい。
 この感光性版材層12は、通常は、シート状� �感光性版材を巻き付け接着し、その後、精� �円筒研磨することによって形成される。前� �感光性版材は表面平滑度が高いシート状で� �り、継ぎ目に隙間が開かないように巻付け� �ことが好ましい。

 また、例えば、液晶パネル用ガラスへカ� ��ーフィルタを構成するためのマトリックス� ��像をカラー印刷するには、インキ膜厚が均� ��になるようにするため、グラビアセルを均� ��な深さ、例えば、5~6μmの深さに形成する必� ��がある。従って、感光性版材層12を感光剤� �コーティングによりセルの深度と同じ厚さ� �なるように形成して、クッション層11bが露� �するようにセルを形成することが好ましい[� ��3(d)]。さらに好ましくは、クッション層11b� �シリコンゴムにより形成してセルに盛られ� �インキの液晶パネル用ガラスへの転移性を� �めるのが良い。

 コンパクトディスク等も極めて薄いイン� ��膜厚となるのが良いので、セルの深さを数� �mとする。感光性版材層12の膜厚は、1~2mmでも 良いし、又はコーティングにより5~6μmの薄膜 としても良い。要は、感光性版材層12の形成� ��容易性、コスト、現像との関連で適宜に決� ��できる。

 続いて、フォトリソグラフィによって、感� ��性版材層12の表面にグラビアセル14を形成す る(図2のステップ104)。
 フォトリソグラフィの手順について、感光� ��版材層12としてネガ型感光性版材層を用い� �場合を例として、以下に説明する。

 図1(c)に示すように、感光性版材層12の表面� ��グラビア画像であるマスク画像を有するマ� ��ク13を積層し又は密着して重ね、光線(紫外� ��等)を必要な時間だけ照射し、感光性版材層 12の必要な部分に光重合反応を生じさせ、現� ��液に対して非画線部を不溶化する。
 前記マスク13の形成方法は特に制限はない� �、例えば、カーボン含有ポリマーよりなる� �色コート剤又はネガ型のフォトクロミック� �をコーティングにより成膜し、YAGレーザ或� �は半導体レーザを照射することにより、グ� �ビア画像の非画線部に対応させて感光性版� �層14を飛ばして露出するか透過するように形 成する方法や、グラビア画像の非画線部が透 明であるネガ型のマスクフィルムを用いる方 法、感光剤を前記感光性版材層にコートし電 磁波照射により光重合反応を起こし現像する ことにより形成するネガ型のレジスト画像と する方法等が挙げられる。

 前記カーボン含有ポリマーよりなる黒色コ� ��ト剤としては、ニトロセルロース又はパラ� ��ドロキシスチレンと、ブラックカーボンを� ��ぜ合わせてなるものを選択すると、半導体� ��ーザによる焼付けが良好にでき省エネルギ� ��が図れる為、好適である。
 前記ネガ型のフォトクロミック剤としては� ��有色のときに紫外線遮蔽性を有しレーザ照� ��により透明になる有機フォトクロミック分� ��単独、又は有機フォトクロミック分子と高� ��子との相溶体を用いることが、半導体レー� ��による焼付けが良好にでき省エネルギーが� ��れる為、好ましい。

 続いて、図1(d)に示すように、マスク13を除� ��て現像して感光性版材層12の光重合した部� �を残し未露光部分をクッション層11bが露出� �ない限度に現像液に溶解してグラビアセル14 を形成し続いて光線(紫外線等)を全面照射し� ��感光性版材層12の光重合しなかった部分も� �重合させて安定化処理する。
 感光性版材層12に対する現像液は、例えば� �特開平4-18564号公報、特開平4-285967号公報、� �開平5-249695号公報、特開平6-258847号公報、特� ��平7-234523号公報、特開平8-95257号公報等に示� ��れる現像剤を使用できる。

 感光性版材層12としてネガ型感光性版材� �を用いた場合、感光性版材層は、光(紫外線� ��)照射により光重合反応を起こし現像液に対 して溶性になる感光剤又は感光性シート状物 を前記クッション層にコーティングにより薄 膜形成し又は積層してなり、これに対して、 マスクは、カーボン含有ポリマーよりなる黒 色コート剤、又は、ポジ型のフォトクロミッ ク剤を前記感光性版材層にコートして、レー ザ照射により、前記グラビア画像の画線部に 対応させて前記感光性版材層を露出又は透過 するように形成してなるか、又は、前記グラ ビア画像の画線部が透明であるポジ型のマス クフィルムであるか、又は、感光剤を前記感 光性版材層にコートし電磁波照射により光重 合反応を起こし現像することにより形成する ポジ型のレジスト画像が挙げられる。

 従って、マスクした感光性版材層を光(紫 外線等)照射するとグラビア画像の画線部が� �重合反応を起こし現像液に対して溶性にな� �、マスクを除いて現像を行うと、グラビア� �ルを形成できる。感光性版材層12がネガ型と ポジ型のいずれであっても上記の現像液が使 用できる。

 この実施の形態では、感光性版材層12に� �ッション層11bが露出しないようにグラビア� �ル14を形成するが、後述する図3に示すよう� �、クッション層11bが露出するように感光性� �材層12の表面にグラビアセル14を形成するこ� ��も可能である。例えば、上記のように、液� ��パネル用ガラスへカラーフィルタを構成す� ��ためのマトリックス画像をカラー印刷する� ��めのものであるときは、感光性版材層12を� �ーティングにより5~6μmの厚さとなるように� �成して、後述する図3に示すように、クッシ� ��ン層11bが露出するようにグラビアセル14を� �成することが好ましい。

 ついで、図1(e)に示すように、感光性版材層 12のセル14が形成された表面にペルヒドロポ� �シラザン溶液を塗布し、ペルヒドロポリシ� �ザン塗布膜16を形成する(図2のステップ106)。
 ペルヒドロポリシラザン塗布膜16の形成方� �としては、ペルヒドロポリシラザン溶液を� �スプレーコート、インクジェット塗布、メ� �スカスコート、ファウンティンコート、デ� �ップコート、回転塗布、ロール塗布、ワイ� �ーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード� �布、カーテン塗布等の公知の塗布方法を用� �て塗布すればよい。

 上記ペルヒドロポリシラザンを溶解する溶� ��としては公知のものを用いればよいが、例� ��ばベンゼン、トルエン、キシレン、エーテ� ��、THF、塩化メチレン、四塩化炭素、アニソ� ��ル、デカリン、シクロヘキセン、メチルシ� ��ロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ソル� ��ッソ、デカヒドロナフタリン、メチルター� ��ャリーブチルエーテル、ジイソブチルエー� ��ル、リモネン、ヘキサン、オクタン、ノナ� ��,デカン、C8-C11アルカン混合物、C18-C11芳香� �炭化水素混合物、C8以上の芳香族炭化水素を 5重量%以上25重量%以下含有する脂肪族/脂環式 炭化水素混合物、及びジブチルエーテルなど を用いることができる。
 これらの溶剤は単独で用いられてもよいし� ��二種以上を併用してもよい。溶剤の使用量� ��特に制限はなく、溶液の塗布方法により適� ��選択すればよいが、例えば、スプレーコー� ��法やファウンティンコート法により塗布す� ��場合、溶液中にペルヒドロポリシラザンを0 .5質量%~10質量%含むように溶剤を用いること� �好ましい。

 上記した各種溶剤に溶解されて作製され� ��ペルヒドロポリシラザン溶液は、そのまま� ��も過熱水蒸気による加熱処理によって二酸� ��珪素へ転化するが、反応速度の増加、反応� ��間の短縮、反応温度の低下、形成される二� ��化珪素被膜の密着性の向上等を図る目的で� ��媒を用いるのが好ましい。これらの触媒も� ��知であり、例えばアミンやパラジウムが用� ��られるが、具体的には、有機アミン、例え� ��C1-5のアルキル基が1-3個配置された第1-第3級 の直鎖状脂肪族アミン、フェニル基が1-3個配 置された第1-第3級の芳香族アミン、ピリジン 又はこれにメチル、エチル基等のアルキル基 が核置換された環状脂肪族アミン等が挙げら れ、さらに好ましいものとして、ジエチルア ミン、トリエチルアミン、モノブチルアミン 、モノプロピルアミン、ジプロピルアミン等 を挙げることができる。これらの触媒はペル ヒドロポリシラザン溶液に予め添加しておい てもよく、また過熱水蒸気による加熱処理の 際の処理雰囲気中に気化状態で含有させるこ ともできる。

 続いて、前記ペルヒドロポリシラザン塗布� ��16に対して加熱処理、好ましくは過熱水蒸� �による加熱処理を行う(図2のステップ108)こ� �により二酸化珪素被膜18とする(図2のステッ� ��110)。
 前記二酸化珪素被膜の厚さは0.1~5μm、好ま� �くは0.1~3μm、さらに好ましくは0.1~1μmである� ��とが好適である。

 前記ペルヒドロポリシラザン塗布膜の加熱� ��理としては過熱水蒸気によって所定の条件� ��加熱処理するのが好適である。過熱水蒸気� ��温度としては、一般的には100℃~300℃が用い られるが、本発明においては、100℃~200℃、� �ましくは105℃~200℃が好適に用いられる。
 前記加熱処理としては、第1次及び第2次加� �処理を含む複数段の加熱処理とするのがよ� �好ましく、第1次加熱処理の条件を100℃~170℃ 、1分~30分、及び第2次加熱処理の条件を140℃~ 200℃、1分~30分とし、第2次加熱処理の温度を� ��1次加熱処理の温度よりも高く設定するよう にした構成を採用するのが好適である。さら に、上記第2次加熱処理の温度を第1次加熱処� ��の温度よりも5℃以上、好ましくは10℃以上� ��く設定するのがよい。

 前記加熱処理によって形成された二酸化� ��素被膜の表面を冷水又は温水で洗浄する工� ��をさらに設けることによって、得られた二� ��化珪素被膜の硬度をさらに向上させること� ��可能である。

 上記した二酸化珪素被膜18を被覆し、こ� �二酸化珪素被膜18を表面強化被覆層として作 用させることによって、毒性がなくかつ公害 発生の心配も皆無となるとともに耐刷力に優 れたグラビア製版ロール(グラビア版)10aを得� ��ことができる。

 図3は本発明のクッション性を有するグラ ビア版の製造方法の工程の他の例を示す図1� �同様の図面である。図1に示した本発明方法� ��工程においては、感光性版材層12にクッシ� �ン層11bが露出しないようにグラビアセル14を 形成した例を示したが、図3(d)に示すように� �ッション層11bが露出するようにグラビアセ� �14を形成することもできる。図3において、� �の工程の構成及び作用は図1と同様であるの� ��再度の説明は省略する。