本発明に係る研削加工液(以下、単に加工 液ということがある)は、アルミニウムまた� �その合金(以下、アルミニウム合金等という) の研削加工時において水に希釈されて使用さ れるものである。本発明の研削加工液は、使 用時において水で希釈されて使用される限り 、水を含んでいても良いし、水を含まなくて も良い。

 本発明の加工油は少なくとも以下に示す� ��分(A)~(D)を含み、通常は残部としてさらに水 を含む。

 成分(A);
 成分(A)は炭素数12~18のモノカルボン酸であ� �、詳しくは同炭素数を有し、かつカルボキ� �ル基を分子内に1つだけ有する脂肪族炭化水� ��化合物である。そのようなモノカルボン酸� ��して、例えば、不飽和脂肪族モノカルボン� ��、および飽和脂肪族モノカルボン酸等が挙� ��られる。砥石の局所的目詰まりをより有効� ��抑制する観点からは、少なくとも不飽和脂� ��族モノカルボン酸を使用することが好まし� ��。

 不飽和脂肪族モノカルボン酸の具体例と� ��ては、例えば、ミリストレイン酸、パルミ� ��レイン酸、オレイン酸、リノール酸、リノ� ��ン酸、エライジン酸、等が挙げられる。不� ��和脂肪族モノカルボン酸の好ましい炭素数� ��14~18、特に16~18である。最も好ましい不飽和 脂肪族モノカルボン酸はオレイン酸である。

 飽和脂肪族モノカルボン酸の具体例とし� ��は、例えば、ミリスチン酸、パルミチン酸� ��ステアリン酸、等が挙げられる。飽和脂肪� ��モノカルボン酸の好ましい炭素数は14~18、� �に16~18である。

 そのような不飽和脂肪族モノカルボン酸� ��よび飽和脂肪族モノカルボン酸は市販品と� ��て容易に入手可能である。

 成分(A)の含有量は2~15重量%であり、好まし� �は2~10重量%である。成分(A)が多すぎると、砥 石の全体的目詰まりが発生し、基板にスクラ ッチが発生する。成分(A)が少なすぎると、砥 石に局所的目詰まりが発生し、基板にスクラ ッチが発生する。成分(A)として2種類以上の� �合物が使用されてよく、その場合にはそれ� �の合計含有量が上記範囲内であればよい。
 本明細書中、含有量は加工液全量に対する� ��合で示すものとする。

 成分(B);
 成分(B)は脂環族ジカルボン酸であり、詳し� ��はカルボキシル基を分子内に2つだけ有する 脂環式炭化水素化合物である。そのような脂 環族ジカルボン酸として、例えば、炭素環内 に不飽和結合を含むシクロオレフィンジカル ボン酸、および炭素環が飽和構造を有するシ クロパラフィンジカルボン酸が挙げられる。 砥石の全体的目詰まりをより有効に抑制する 観点からは、成分(B)としてシクロオレフィン ジカルボン酸のみを使用することが好ましい 。脂環族ジカルボン酸の代わりに脂肪族ジカ ルボン酸または芳香族ジカルボン酸を使用す ると、砥石の全体的目詰まりが発生し、基板 にスクラッチが発生する。

 シクロオレフィンジカルボン酸として、例� ��ば、一般式(b1);
で表されるシクロオレフィンジカルボン酸(� �下、シクロオレフィンジカルボン酸(b1)とい� ��)が挙げられる。

 一般式(b1)中、R ¹ は炭素数4~10、好ましくは6~8のアルキレン基� �ある。
 R ² は単結合(-)または炭素数1~3のアルキレン基で あり、好ましくは単結合である。
 R ³ は炭素数4~8、好ましくは5~7のアルキル基であ る。アルキル基は直鎖状であっても、分枝状 であってもよく、好ましくは直鎖状である。

 シクロオレフィンジカルボン酸(b1)の具体 例として、例えば、8-(5-カルボキシ-4-ヘキシ� ��-2-シクロヘキセン-1-イル)オクタン酸、8-(6-� ��ルボキシ-4-ペンチル-2-シクロヘキセン-1-イ� ��)オクタン酸、8-(6-カルボキシ-4-ヘキシル-2-� ��クロヘキセン-1-イル)オクタン酸等が挙げら れる。最も好ましいシクロオレフィンジカル ボン酸は8-(5-カルボキシ-4-ヘキシル-2-シクロ� ��キセン-1-イル)オクタン酸である。

 シクロオレフィンジカルボン酸(b1)は、例 えば、市販のジアシッド1550(ハリマ化成(株)� �製)として入手可能である。

 シクロパラフィンジカルボン酸として、例� ��ば、一般式(b2);
で表されるシクロパラフィンジカルボン酸(� �下、シクロパラフィンジカルボン酸(b2)とい� ��)が挙げられる。

 一般式(b2)中、R ⁴ は炭素数4~10、好ましくは6~8のアルキレン基� �ある。
 R ⁵ は単結合(-)または炭素数1~3のアルキレン基で あり、好ましくは単結合である。
 R ⁶ は炭素数4~8、好ましくは5~7のアルキル基であ る。アルキル基は直鎖状であっても、分枝状 であってもよく、好ましくは直鎖状である。

 シクロパラフィンジカルボン酸(b2)の具体 例として、例えば、8-(6-カルボキシ-4-ヘキシ� ��-シクロヘキシル)オクタン酸、8-(3-カルボキ シ-4-ヘキシル-シクロヘキシル)オクタン酸等� ��挙げられる。

 成分(B)の含有量は3~15重量%であり、好ま� �くは3~10重量%である。成分(B)が多すぎると、 砥石の全体的目詰まりが発生し、基板にスク ラッチが発生する。成分(B)が少なすぎると、 砥石に全体的目詰まりが発生し、研削効率が 低下する。成分(B)として2種類以上の化合物� �使用されてよく、その場合にはそれらの合� �含有量が上記範囲内であればよい。

 成分(C);
 成分(C)は水溶性アミンであり、例えば、エ� ��ルアミン、プロピルアミン等のアルキルア� ��ン;モノエタノールアミン、ジエタノールア ミン、トリエタノールアミン、モノイソプロ パノールアミン、ジイソプロパノールアミン 、トリイソプロパノールアミン等のアルカノ ールアミン;モルホリン等の環式アミン;エチ� ��ジエタノールアミン等のアルキルアルカノ� ��ルアミン;メタキシレンジアミン等のアルキ ルジアミン等が挙げられる。好ましい水溶性 アミンはアルカノールアミンである。

 成分(C)の含有量は成分(A)及び(B)を中和に� ��する当量以上であり、好ましくは10~25重量%� ��ある。成分(C)が少なすぎると水への溶解性� ��落ちる。成分(C)として2種類以上の化合物が 使用されてよく、その場合にはそれらの合計 含有量が上記範囲内であればよい。

 成分(D);
 成分(D)はノニオン性界面活性剤であり、研� ��加工液の分野で従来より使用されているノ� ��オン性界面活性剤が使用可能である。その� ��うなノニオン性界面活性剤として、例えば� ��ポリオキシアルキレン、ポリオキシアルキ� ��ンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレ� ��アルキルフェニルエーテル、ポリオキシア� ��キレンアルキルエステル等が挙げられる。� ��石全体的な目詰まり抑制の観点からは、ポ� ��オキシアルキレン、ポリオキシアルキレン� ��ルキルエーテル、およびポリオキシアルキ� ��ンアルキルフェニルエーテルから選択され� ��少なくとも1種類の化合物を使用することが 好ましい。より好ましくは少なくともポリオ キシアルキレンとポリオキシアルキレンアル キルエーテルとを併用する。さらに好ましく は少なくともポリオキシアルキレンとポリオ キシアルキレンアルキルエーテルとポリオキ シアルキレンアルキルフェニルエーテルとを 併用する。成分(D)の代わりにアニオン性界面 活性剤やカチオン性界面活性剤を用いると、 ゼータ電位に影響を与え、局所的目詰まりが 起こる。

 ポリオキシアルキレンとして、例えば、一� ��式(d1);
 HO(CH ₂ CH ₂ O) _p1 -(CH ₂ CH(CH ₃ )O) _p2 -(CH ₂ CH(C ₂ H ₅ )O) _p3 -H  (d1)
で表されるポリオキシアルキレン(以下、ポ� �オキシアルキレン(d1)という)が挙げられる。

 一般式(d1)中、p1+p2+p3は分子量が後述の範囲� ��になるような値であれば特に制限されず、p 1、p2およびp3はそれぞれ独立して0以上の整数 である(但し、p1、p2およびp3は同時に0ではな� ��)。通常は、p1は1以上、特に3~6の整数であり 、p2およびp3はそれぞれ独立して0以上、特に0 ~8の整数である。好ましくは、p1とp2+p3との比 率は10:90~90:10である。
 ポリオキシアルキレン(d1)は、オキシエチレ ン部、オキシプロピレン部、オキシブチレン 部等のオキシアルキレン部がブロック型であ っても、またはランダム型であってよいが、 特にブロック型であることが好ましい。

 ポリオキシアルキレン(d1)は、市販のPluron ic(BASFジャパン社製)等として入手可能である� ��

 ポリオキシアルキレンアルキルエーテルと� ��て、例えば、一般式(d2);
 R ⁷ O(CH ₂ CH ₂ O) _n1 -(CH ₂ CH(CH ₃ )O) _n2 -(CH ₂ CH(C ₂ H ₅ )O) _n3 -H  (d2)
で表されるポリオキシアルキレンアルキルエ ーテル(以下、ポリオキシアルキレンアルキ� �エーテル(d2)という)が挙げられる。

 一般式(d2)中、R ⁷ は炭素数8~18、好ましくは10~14のアルキル基で ある。
 n1+n2+n3は分子量が後述の範囲内になるよう� �値であれば特に制限されず、n1、n2およびn3� �それぞれ独立して0以上の整数である(但し、 n1、n2およびn3は同時に0ではない)。通常は、n 1は1以上、特に3~9の整数であり、n2およびn3は それぞれ独立して0以上、特に0~2の整数であ� �。好ましくは、n1とn2+n3との比率は10:90~100:0� �ある。
 n2およびn3がそれぞれ独立して1以上の場合� �ポリオキシアルキレンアルキルエーテル(d2)� ��、オキシエチレン部、オキシプロピレン部� ��オキシブチレン部等のオキシアルキレン部� ��ブロック型であっても、またはランダム型� ��あってよいが、特にブロック型であること� ��好ましい。

 ポリオキシアルキレンアルキルエーテル( d2)は、市販のLutensol(BASFジャパン社製)等とし� ��入手可能である。

 ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエ� ��テルとして、例えば、一般式(d3);
 R ⁸ -Ph-O(CH ₂ CH ₂ O) _m1 -(CH ₂ CH(CH ₃ )O) _m2 -(CH ₂ CH(C ₂ H ₅ )O) _m3 -H  (d3)
で表されるポリオキシアルキレンアルキルフ ェニルエーテル(以下、ポリオキシアルキレ� �アルキルフェニルエーテル(d3)という)が挙げ られる。

 一般式(d3)中、R ⁸ は炭素数6~10、好ましくは8~9のアルキル基で� �る。
 Phはフェニレン基、好ましくは1,4-フェニレ� ��基である。
 m1+m2+m3は分子量が後述の範囲内になるよう� �値であれば特に制限されず、m1、m2およびm3� �それぞれ独立して0以上の整数である(但し、 m1、m2およびm3は同時に0ではない)。通常は、m 1は1以上、特に1~12の整数であり、m2およびm3� �それぞれ独立して0以上、特に0~10の整数であ る。好ましくは、m1とm2+m3との比率は10:90~100:0 である。
 m2およびm3がそれぞれ独立して1以上の場合� �ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエ� �テル(d3)は、オキシエチレン部、オキシプロ� ��レン部、オキシブチレン部等のオキシアル� ��レン部がブロック型であっても、またはラ� ��ダム型であってよいが、特にブロック型で� ��ることが好ましい。

 ポリオキシアルキレンアルキルフェニル� ��ーテル(d3)は、市販のノニポール(三洋化成� �業株式会社製)等として入手可能である。

 ノニオン性界面活性剤の平均分子量は重� ��平均分子量で通常、200~10000である。

 成分(D)の含有量は15重量%以上、特に15~90� �量%であり、好ましく15~80重量%、より好まし� ��は30~50重量%である。成分(D)が少なすぎると� ��砥石に全体的目詰まりが発生し、研削効率� ��低下する。成分(D)として2種類以上の化合物 が使用されてよく、その場合にはそれらの合 計含有量が上記範囲内であればよい。

 本発明の加工液は使用時において水で希� ��されて使用される限り、必ずしも水を含ま� ��ければならないというわけではないが、通� ��は所定量の上記成分を、残部としての水に� ��加し、十分に混合して製造される。本発明� ��加工液は水を含んでいても、十分な貯蔵安� ��性を示す。

 本発明の加工液は容器に収容されて市場� ��おいて取引されるものであり、研削処理時� ��おいては水により重量基準で20~1000倍、好ま しくは100~1000倍に希釈され、研削加工用水溶� ��として使用される。研削は、加工液のその� ��うな水希釈体(研削加工用水溶液)を、研削� �れるアルミニウム合金等と砥石との間に介� �させて行われる。

 砥石は、アルミニウム合金等の研削に従� ��より使用されているものが使用可能で、例� ��ば、PVA砥石に代表される多孔質の砥石が挙� ��られる。

 本発明の加工液によって本発明の効果、� ��に砥石の全体的及び局所的目詰まりの両方� ��同時に抑制する効果が得られる。そのメカ� ��ズムの詳細は明らかではないが、以下の現� ��に基づくものと考えられる。上記成分(A)~(D) を組み合わせて使用することにより、研削時 に生成するアルミ系微粉のゼータ電位の絶対 値を増大させることができる。そのため、ア ルミ系微粉の分散性が向上し、砥石内壁部へ の凝集・蓄積が抑制される。その結果、砥石 の全体的及び局所的目詰まりの両方が同時に 抑制され、本発明の効果が得られるものと考 えられる。

 本発明の加工液は、水により前記した倍� ��で希釈しアルミニウム合金を研削加工した� ��に発生するアルミニウム微粉に対して、-50m V以下、特に-60~-50mVのゼータ電位を示す。