以下に、本発明の実施の形態を図、表、� ��、実施例等を使用して説明する。なお、こ� ��らの図、表、式、実施例等および説明は本� ��明を例示するものであり、本発明の範囲を� ��限するものではない。本発明の趣旨に合致� ��る限り他の実施の形態も本発明の範疇に属� ��得ることは言うまでもない。

 研究の結果、特定の構造を有する含フッ� ��ポリマーにより、パーフルオロ構造でなく� ��も、磁気記録装置の磁気記録媒体潤滑層や� ��ッドスライダ潤滑層に使用した場合、潤滑� ��の膜厚を非常に小さくでき、かつ、被塗布� ��との吸着性の高い潤滑剤を実現できること� ��見出された。

 すなわち、潤滑剤は、式1で表される構造 を有する含フッ素ポリマーを含んでなる潤滑 剤である。

 R _a OCH ₂ CH(OR _b )CH ₂ OCH ₂ CF ₂ (OCF ₂ CF ₂ ) _m (OCF ₂ ) _n OCF ₂ CH ₂ OCH ₂ CH(OR _c )CH ₂ OR _d ・・・(1)
 ここで、式1において、m,nはゼロ以上の実数 (ただし、mとnが同時にゼロにはならない)で� �る。(OCF ₂ CF ₂ ) _m (OCF ₂ ) _n は、CF ₂ Oの構造単位とC ₂ F ₄ Oとの構造単位とが、互いにランダムな配列� �とってもブロック化した配列をとってもよ� �。R _a ,R _b ,R _c ,R _d は、それぞれ独立に、水素または式2で表さ� �る基である。ただし、R _a ,R _b ,R _c ,R _d の全てが水素とはならない。なお、このこと は、潤滑剤中に、式1で表される構造を有し� �R _a ,R _b ,R _c ,R _d の全てが水素である含フッ素ポリマー(これ� �、式7で表される構造を有する含フッ素ポリ� ��ーに該当する)が含まれることを排除するも のではない。ただし、R _a ,R _b ,R _c ,R _d の全てが水素である場合には、一分子あたり のヒドロキシ基の数が少な目になるので、一 般的にはその量は少ない方がよい。

 -CH ₂ CH(OH)CH ₂ OH・・・(2)
 なお、含フッ素ポリマーは、単一の構造を� ��していても、複数の構造を有する混合物で� ��ってもよい。本発明において、下付添字で� ��される記号が「実数」を表す場合は、この� ��実数」は、その構造を有する化合物の平均� ��である。

 含フッ素ポリマーを得るための方法には� ��に制限はなく、公知のどのような反応を採� ��することもできる。さらに精製工程等を経� ��ものであってもよい。

 含フッ素ポリマーを得るための具体的方� ��としては、式7で表される構造を有する化合 物とグリシドールとを反応させてなるもので あってもよい。上記の反応に加え、さらに他 の反応や精製工程を経たものであってもよい 。また、本発明の趣旨に反しない限り、式7� �表される構造を有する化合物とグリシドー� �とを反応させて得る場合に、その他の構造� �有する化合物が混在していてもよく、その� �うな他の構造を有する化合物やそのような� �の構造を有する化合物とグリシドールとの� �応生成物を後から取り除いてもよい。

 HOCH ₂ CH(OH)CH ₂ OCH ₂ CF ₂ (OCF ₂ CF ₂ ) _m (OCF ₂ ) _n OCF ₂ CH ₂ OCH ₂ CH(OH)CH ₂ OH・・・(7)
 ここで、式7において、m,nはゼロ以上の実数 (ただし、mとnが同時にゼロにはならない)で� �る。(OCF ₂ CF ₂ ) _m (OCF ₂ ) _n は、CF ₂ Oの構造単位とC ₂ F ₄ Oとの構造単位とが、互いにランダムな配列� �とってもブロック化した配列をとってもよ� �。

 この反応には公知のどのような方法を採� ��することもできる。本反応は、エポキシ(ま たは酸素原子1つと炭素原子2つからなる三員� ��)とヒドロキシ基との反応であるので、一般 的なエーテルとヒドロキシ基との反応を適用 することができる。

 本反応は塩基条件下で行うことが好まし� ��。例えば、適当な溶媒中に、上記化合物と� ��基性物質とを共存させ、加熱することでこ� ��反応を進行させることができる場合が多い� ��

 そのような塩基性物質については特に制� ��はなく、適宜選択することができる。苛性� ��ーダ、苛性カリ、アミン類等を例示するこ� ��ができる。

 そのような溶媒についても特に制限はな� ��、エーテルとヒドロキシ基との反応に使用� ��きる公知の溶媒から適宜選択することがで� ��る。アセトン、アセトニトリル、アルコー� ��を例示することができる。

 式1の分子鎖中のヒドロキシ基は分子鎖の 末端または末端近傍にある。これらのヒドロ キシ基は、式7で表される構造を有する化合� �の分子鎖の末端または末端近傍にあるヒド� �キシ基とグリシドールとの反応により、あ� �いは、式7で表される構造を有する化合物と� ��リシドールとの反応物の分子鎖の末端また� ��末端近傍にあるヒドロキシ基とグリシドー� ��との反応により、一個のヒドロキシ基を消� ��して二個のヒドロキシ基を生じる。従って� ��一個のヒドロキシ基と一個のグリシドール� ��の反応により、ヒドロキシ基が一個増加す� ��。図3は、式7で表される構造を有する化合� �の一分子に4分子のグリシドールが反応した� ��を示している。ただし、図3のように式7で� �される構造を有する化合物の四つのヒドロ� �シ基にグリシドールが反応する前に、その� �ずれかのヒドロキシ基に結合したグリシド� �ルから生じるヒドロキシ基に更にグリシド� �ルが反応する場合もあるものと考えられる� �反応生成物には、このような反応物も含ま� �得る。

 本発明により、低分子量でありながら、� ��えば、磁気記録媒体やヘッドスライダの保� ��層への吸着性が高い潤滑剤が得られる。こ� ��ような構造の含フッ素ポリマーを含有する� ��滑剤では、分子の両末端近傍にある極性基( ヒドロキシ基)が従来の潤滑剤よりも多数存� �するため、潤滑剤を塗布される面(本発明で� ��被塗布面と略称する)に強固に吸着するため であると考えられる。

 前記含フッ素ポリマー中の一分子あたり� ��ヒドロキシ基数の数は、平均値として、5個 以上8個以下であることが好ましい。式7の構� ��の両端に、グリシドールがそれぞれ二つ反� ��した場合が、ヒドロキシ基数の数が8個の場 合に該当する(図3参照)。このような構造では 、分子の末端近傍に多くのヒドロキシ基が存 在することになり、含フッ素ポリマーが低分 子量であっても、被塗布面との吸着性を向上 できるようになる。なお、ヒドロキシ基数の 数が8個を超えると、分子末端近傍の構造が� �ルキーになりすぎ、かえって含フッ素ポリ� �ーと被塗布面との吸着性が低下する恐れが� �てくる。さらに粘度が必要以上に高くなり� �ぎ、松脂のような状態になり、潤滑剤とし� �機能を果たさない。

 式1において、あるいは式1と式7とにおいて� ��CF ₂ Oの構造単位とC ₂ F ₄ Oとの構造単位の一部、またはその全てが、� �3~6で表される構造単位からなる群から選ば� �た、相異なっていてもよい基で置換されて� �る含フッ素ポリマーも同様の効果を与える� �更に、このような構造であると、表面自由� �ネルギーが減少すること等が予想される。� �お、式7で表される構造を有する化合物や、� ��7のCF ₂ Oの構造単位とC ₂ F ₄ Oとの構造単位の一部、またはその全てが、� �3~6で表される構造単位からなる群から選ば� �た、相異なっていてもよい基で置換されて� �る構造を有する化合物は、どのような方法� �入手してもよい。市販されているものもあ� �。

 -CF ₂ -・・・・・・・・・・(3)
 -CF ₂ CF ₂ -・・・・・・・・(4)
 -CF ₂ CF ₂ CF ₂ -・・・・・(5)
 -OCF ₂ CF ₂ CF ₂ -・・・・(6)
 上記式1において、mが6以下でかつnが6以下� �あることが好ましい。mが6を超え、またはn� �6を超えると、分子の中間部分が長くなり、� ��の部分における含フッ素ポリマーと被塗布� ��との吸着性が低下する恐れが生じ得る。こ� ��ような問題は、別の見方からすると、m+nの� ��限としてとらえることもできる。本発明に� ��しては、m+nとしては10以下であることが好� �しい。m+nが10を超えると、分子の中間部分が 長くなり、その部分における含フッ素ポリマ ーと被塗布面との吸着性が低下する恐れが生 じ得る。

 更に、含フッ素ポリマーと被塗布面との� ��着性の問題を分子全体の大きさから見れば� ��本含フッ素ポリマーの分子量としては、数� ��均分子量で500以上10000以下が好ましい。500� �満では、潤滑剤としての潤滑作用を示しに� �い。10000を超えると分子一層膜厚が厚くなり 過ぎるため、本発明の効果が得られにくくな る場合が多い。

 式1で表される構造を有する含フッ素ポリマ ーは1種類からなっていても複数の種類から� �っていてもよい。たとえは、式1において、n =0,m=6の場合には、(OCF ₂ )成分を全く含まない構造になり、n=6,m=0の場� ��には、(OCF ₂ CF ₂ )成分を全く含まない構造になるが、含フッ� �ポリマーは、それらのいずれか一方の構造� �有する含フッ素ポリマーから構成されてい� �も、両者が混合状態になっていてもよい。

 含フッ素ポリマーはそのまま潤滑剤とし� ��使用しても、他の潤滑剤成分と混合した状� ��で使用してもよい。場合によっては他の機� ��を有する成分(例えば溶媒)を含んでいても� �い。磁気記録装置用の磁気記録媒体やヘッ� �スライダに設けられる潤滑層を形成する前� �潤滑剤には溶媒が含まれる場合もあるが、� �媒には特に制限はなく、公知の溶媒を適宜� �用できる。

 潤滑剤は、含フッ素ポリマーを、潤滑剤� ��に含まれる全ての潤滑剤の全量に対し30重� �%以上含有することが好ましい。30重量%未満� ��は、含フッ素ポリマーの効果が発揮しがた� ��なる場合が多い。

 上記の各種の潤滑剤は、磁気記録装置用� ��磁気記録媒体またはヘッドスライダに設け� ��れる潤滑層に好適に使用できる。すなわち� ��磁性層と、この磁性層上にある保護層と、� ��の保護層上にある磁気記録媒体潤滑層とを� ��む磁気記録媒体であって、磁気記録媒体潤� ��層が上記の潤滑剤を塗布したものである磁� ��記録媒体や、磁気記録媒体に対し、記録お� ��び/または再生を行うためのヘッドを備えた ヘッドスライダであって、磁気記録媒体に面 する側のヘッドスライダ面に、保護層と上記 の潤滑剤からなる潤滑層を有する、ヘッドス ライダは、潤滑層の膜厚を非常に薄くでき、 極低浮上高さに対応することが可能である。

 この場合、磁気記録媒体潤滑層について� ��ヘッドスライダ潤滑層についても、被塗布� ��に塗布された潤滑剤の表面均一性および被� ��布面との吸着性を向上させるために、潤滑� ��の塗布後に加熱処理することが好ましい。� ��熱処理としては、環境温度が70~150℃の範囲� ��好ましい。処理時間としては0.5~2時間の範� �が好ましい。70℃未満では、吸着性の向上が 十分でない場合があり得る。150℃を超えると 熱による潤滑剤の分解や潤滑剤の蒸発により 、均一な(粘稠さの小さい)潤滑膜が得られな� ��。なお、この加熱処理は、潤滑在中の溶媒� ��除去する目的を兼ねていてもよいことは言� ��までもない。

 また、潤滑剤の塗布後に紫外線照射処理� ��ることも好ましい。この場合の紫外線の波� ��は10nm以上400nm以下の範囲が好ましい。処理� ��間としては5~100秒間の範囲が好ましい。10nm� ��満では、エネルギーが大きすぎ、潤滑剤を� ��定できない。400nmを超えるとエネルギーが� �すぎ、潤滑油を固定できない。

 なお、加熱処理と紫外線照射処理とはそ� ��いずれかのみを行っても、両方を行っても� ��いが、両者を採用し、加熱処理の後に紫外� ��照射処理を行うことが、被塗布面との吸着� ��を向上させる上で好ましい。加熱処理や紫� ��線照射処理により、被塗布面への吸着性が� ��上する。

 なお、潤滑剤を塗布する磁気記録媒体お� ��びヘッドスライダの塗布面を形成する材料� ��しては、特に制限はなく公知の材料の中か� ��適宜選択することができるが、ヒドロキシ� ��等の極性基に対しある程度の親和性を有す� ��ものであることが一般的に好ましい。

 磁気記録装置をハードディスク装置につ� ��て説明すると次のようになる。ただし、以� ��の説明における「磁気記録装置」には、本� ��明の趣旨に反しない限り、磁気記録媒体や� ��ッドスライダを使用するすべての磁気記録� ��置を含めることができる。

 このハードディスク装置は、図1に示すよ うに磁気記録媒体11とヘッドを備えたヘッド� ��ライダ17、磁気記録媒体11の回転制御機構(� �えばスピンドルモータ)3、ヘッドの位置決め 機構4および記録再生信号の処理回路(リード� ��イトアンプ等)5を主要構成要素としている� �

 ヘッドスライダ17は、図2に示すように、� ��スペンジョン6およびヘッドスライダ17を柔� ��に支持するためのジンバル7により、ヘッド の位置決め機構4と連結されており、その先� �にヘッド8が設けられている。ヘッドスライ� ��面にはヘッドスライダ保護層9とヘッドスラ イダ潤滑層10が設けられている。

 磁気記録媒体11の図2の下方から基板12、Cr 下地層13,磁性層14,磁気記録媒体保護層15,磁気 記録媒体潤滑層16等がある。シード層等のそ� ��他の層が設けられる場合もあるが本図では� ��略してある。