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Patent Searching and Data


Title:
MAGNETRON ION SOURCE WITHOUT FILAMENT AND PROCESS FOR USING SAME
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/1989/004546
Kind Code:
A1
Abstract:
The invention concerns a magnetron ion source without filament comprising a magnetron, a microwave waveguide or a microwave coaxial line, a cylindrical hollow resonator, a lambda 4 choke piston, ECR magnets and a quartz dome. Also described is a process for using said device.

Inventors:
MOEHL WOLFGANG (DE)
Application Number:
PCT/EP1988/001015
Publication Date:
May 18, 1989
Filing Date:
November 10, 1988
Export Citation:
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Assignee:
TECHNICS PLASMA GMBH (DE)
International Classes:
H01J27/16; H01J27/18; H01J37/08; (IPC1-7): H01J27/18; H01J37/08
Foreign References:
US4585668A1986-04-29
Other References:
Journal of Vacuum Science and Technology, Band B-5, Nr. 1, Januar/Februar 1987 "Second Series" (New York, US) J. Asmussen et al.: "The experimental test of a microwave ion beam source in oxygen" Seiten 328-331
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Claims:
P A T E N T A S P R Ü C H E
1. Filamentlose MagnetronIonenquelle, gekennzeichnet durch: ein Magnetron (119) zur Erzeugung eines elektrischen Wechsel¬ feldes (2,4 GHz) , einen MikrowellenHohlleiter (102) und/oder eine Mikrowellen Koaxialleitung (105), einen zylindrischen Hohlraumresonator (1; 101), einen lambda/4Kurzschlußschieber (4; 104), ECRMagnete (6; 106; 206) und einen Quarzdom (8; 108; 208) für das zu erzeugende Gasplasma.
2. Ionenquelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie zusätzlich umfaßt: eine multiaperture Passage zur Extraktion eines oder mehrerer gerichteter Ionenstrahlen und eine Vakuumkammer zur Einwirkung der Ionenstrahlen auf Mate¬ rialproben.
3. Ionenquelle nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , daß die multiaperture Passage aus mehreren hintereinander angeordneten Extraktionselektroden (12, 13 und 14; 112 und 113; 212 und 213) gebildet wird. 3 .
4. Ionenquelle nach einem der Ansprüche 2 bis 3 , dadurch ge¬ kennzeichnet , daß sie weiterhin umfaßt: ein ringförmiges, sich in den Quarzdom öffnendes Gaseinla߬ system (116; 216).
5. Ionenquelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß sie zusätzlich umfaßt: eine Öffnung (Orifice) für den Durchtritt des Plasmas, deren Durchmesser auf den Anwendungsmodus optimiert ist, und eine Vakuumkammer zur Einwirkung der Ionenstrahlen auf Materialproben.
6. Ionenquelle nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet , daß sie weiterhin umfaßt: ein ringförmiges, sich in den Quarzdom öffnendes Gaseinla߬ system.
7. Verfahren zum Ätzen von Substraten, dadurch gekennzeichnet , daß es unter Verwendung einer lonenquelle gemäß einem der An¬ sprüche 2 bis 4 durchgeführt wird.
8. Verfahren zum niederenergetischen, anisotropen Ätzen von Substraten mit einem elektrisch neutralen Plasmastrom, dadurch gekennzeichnet , daß es unter Verwendung einer lonenquelle gemäß Anspruch 5 oder 6 durchgeführt wird.
Description:
Fila entlose Magnetron-Ionenquelle und.Verwendungsverfahren

Die bekannte elektrostatische Kaufman-Ionenquelle (US PS 3 156 090) sieht eine Ionenerzeugung durch elektrostatische Felder vor. Dazu sind ein Elektronenemitter (Glühkathode) und metallische Elektroden in der Plasmakammer notwendig. Die Kontamination des Plasmas durch Sputterprodukte der metallischen Elektroden ist jedoch unerwünscht.

Weiterentwicklungen, z.B. die von Sakudo et al. , führten zu Ionenquellen, die ohne Glühkathode arbeiten. Solche Ionenquel¬ len sind mit einem 2,4 GHz-Magnetron, einem Hohlleiter, einem Kurzschlußschieber, DC-Magneten und Extraktionselek¬ troden ausgestattet (US PS 4 058 748) . Es ist jedoch schwie¬ rig, die Ionisierungskammer gegenüber dem Magnetron vakuum¬ dicht zu verschließen. Hierzu wurden bisher Scheiben aus einem Dielektrikum wie Bornitrid vorgeschlagen (US PSen 4 058

748, 4 316 090, 4 393 333, 4 409 520). Außerdem ergibt sich der Nachteil, daß der Kontakt des Gases mit dem metallischen Wel¬ lenleiter zur Erzeugung von Sputterprodukten führt. Durch die Verunreinigung des Gases können unerwünschte Implantationen oder Dotierungen dem Substrat entstehen.

Bei einer weiteren bekannten Bauform wird das Substrat auf einer Substrat-Plattform direkt in der Ionisationskammer behan¬ delt (US PS 4 438 368) .

Gegenüber diesen bekannten Plasma-Ionenquellen wird nun eine neue Vorrichtung offenbart, die auf elegante und einfache Weise die obengenannten Nachteile überwindet und gleichzeitig eine besonders gute Ionenausbeute gewährleistet.

Erfindungsgemäß wird eine filamentlose Magnetron-Ionenquelle vorgesehen, welche die folgenden Elemente umfaßt:

- ein Magnetron (119) zur Erzeugung eines elektrischen Wechsel¬ feldes (2,4 GHz),

- einen Mikrowellen-Hohlleiter (102) und/oder eine Mikrowellen- Koaxialleitung (105),

- einen zylindrischen Hohlraumresonator (1; 101),

- einen lambda/4-Kurzschlußschieber (4; 104),

- ECR-Magnete (6; 106; 206) und

- einen Quarzdom (8; 108; 208) für das zu erzeugende Gasplasma.

Die Ionenerzeugung' in der erfindungsgemäßen Magnetron-Ionen¬ quelle erfolgt über eine elektrodenlose Mikrowellengasentla¬ dung, die sich selbst aifrechterhält, so daß kein Elektroden¬ emitter (Glühkathode) benötigt wird. Gegenüber einer solchen Anordnung mit Glühkathode und Anode wird die thermische Belastung, die von der Ionenquelle auf das Substrat bzw. eine eingesetzte Materialprobe ausgeht, drastisch gesenkt.

Die Ionisationskammer ist von einem vorzugsweise kalottenförmi- gem Quarzdom umgeben, der das zu ionisierende Gas von sämtli¬ chen Bauteilen des Wellenleiters abschirmt. Hierdurch gewinnt man auf elegante Weise ein von Sputterprodukten völlig reines Plasma. Gerade dies ist besonders wichtig, da das gewonnene Gas bevorzugt zum Ätzen von Substraten verwendet wird. Ein mit Ver¬ unreinigungen kontaminiertes Plasma würde unerwünscht zur Im¬ plantation von Sputterprodukten in den Substraten führen.

Ein weiteres vorteilhaftes Merkmal der erfindungsgemäßen Ionen¬ quelle ist der Einbau eines lambda/4-Kurzschlußschiebers . Dieser sorgt für einen ausgezeichneten Gleitkontakt zwischen dem Wellenleiter und dem zylindrischen Hohlraum-Resonator und bewirkt, daß der Resonator in optimaler Weise schwingt. Auf diese Weise werden Impedanz und Frequenz festgelegt und der ge¬ wünschte Ionisationsgrad erzeugt.

Bezüglich der anderen Bauelemente kann sich der Fachmann an die bereits in der Literatur beschriebenen Ionenquellen halten..

Die in einem Magnetron (Mikrowellengenerator) erzeugte Mikro¬ wellenenergie (2,4 GHz) wird wahlweise über einen Hohlleiter oder eine Koaxialleitung mit Hilfe des lambda/4-Kurzschluß- schiebers in einen auf Resonanz abgestimmten Zylinderresonator eingekoppelt. Der zylindrische Hohlraumresonator gestattet durch Variation seiner Länge in axialer Richtung ein Angleichen seiner Eigenfrequenz an die Magnetronfrequenz. In die vom Quarzdom umgebene Ionisationskammer strömt ein Gas, z. B. Argon, ein, das unter der Wirkung eines elektrischen Wechsel¬ feldes zur Ionisation gebracht wird. Die Einleitung des Gases kann über ein ringförmiges Gaseinlaßsystem erfolgen.

In einer Ausführungsform wird das ionisierte Gas über ein mul- tiapertures Elektrodenextraktionssystem in Form gerichteter Io¬ nenstrahlen abgezogen und auf das zu ätzende Material gerich¬ tet, das in einer sich anschließenden Vakuumkammer angeordnet ist. Das Extraktionssystem kann aus zwei oder drei aufeinan¬ derfolgenden Graphitelektroden bestehen. Graphit ist bevorzug¬ tes Material, da es inert ist und auch im Laufe der Zeit keine Ablagerungen auf der Oberfläche des Quarzdoms verursacht. Die Elektroden sind derart perforiert, daß sich die durch die Öff¬ nungen austretenden Einzelstrahlen zu einem Breitstrahl über¬ lappen.

Eine andere Variante des Ionenstrahlsystems stellt eine ECR- Plasmastromquelle dar (ECR = Elektron-Zyklo-tron-Resonanz) . Hier ist anstelle des elektrostatischen Extraktionsgitter-Systems eine Öffnung (Orifice) vorgesehen, deren Durchmesser auf den Anwendungsmodus optimiert ist. Der Feldgradient des ECR-Magnet- feldes läßt einen elektrisch neutralen Plasmastrom entstehen, der durch die Orifice entweicht.

Das erfindungsgemäße lonenstrahlsystem eignet sich in besonders vorteilhafter Weise für Verfahren zum Ätzen von Stibstraten. ECR-Plasmastromquellen besitzen optimale Eigenschaften für nie¬ derenergetisches, anisotropes Ätzen. Der entstehende Plasma¬ strom verlangt keine Neutralisation.

Die erfindungsgemäße Vorrichtung wird nachstehend anhand von Figuren näher erläutert, die jeweils bevorzugte Ausführungsfor¬ men darstellen.

Fig. 1 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausfüh¬ rungsform der Ionenquelle gemäß der Erfindung;

Fig. 2 zeigt eine Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform der Ionenquelle gemäß der Erfindung; und

Fig. 3 zeigt eine zum Teil geschnittene Ansicht einer weiteren Ausführungsform gemäß der Erfindung.

Bei der in Fig. 1 dargestellten Ausführungsform der filamentlo- sen Magnetron-Ionenquelle werden mit Hilfe eines nicht darge¬ stellten Magnetrons"bzw. Mikrowellengenerators Mikrowellen einer Frequenz von 2,4 GHz erzeugt. Die erzeugten Mikrowellen können wahlweise mit einem weggebrochenen Mikrowellen-Hohlleiter 2 oder einer Mikrowellen-Koaxialleitung 5 in einen Hohlraumresonator 1 geleitet werden, der bei der Ausführungsform gemäß Fig. 1 die Form eines kurzen Zylinders besitzt. Bei der dargestellten Ausführungsform ist der Hohlraumresonator 1 durch einen Boden 3 verschlosssen, durch den die Koaxialleitung 5 hindurchtritt. Bei der dargestellten Ausführungsform erfolgt die Einkoppelung der Mikrowellen koaxial, so daß man sich die Iris des Hohlleiters 2 geschlossen denken muß. Der Boden 3 trägt einen lambda/4-Kurz- schlußschieber 4 und kann in Richtung auf den Quarzdom 8 oder in entgegengesetzter Richtung verschiebbar sein. Der Hohlraumreso¬ nator 1 wird von einem etwa zylindrischen Sockel 7 getragen, in den in drei verschiedenen Niveaus Isolatoren 11a, 11b und 11c eintreten. Diese Isolatoren 11a, 11b und 11c können beliebig ge¬ staltet sein, beispielsweise Scheiben- oder kranzförmig. Bei der dargestellten Ausführungsform ist der dem Quarzdom benachbarte Isolator 11a eine perforierte Scheibe, deren lichter Durchmesser deutlich geringer als der des Hohlraumresonators 1 ist, wobei der Isolator 11a

wiederum einen ringförmigen Träger 9 von gleichem lichten Durch¬ messer trägt, auf dem der Quarzdom 8 aufsitzt. Die rohrförmige Gaszufuhr 10 ist durch Sockel 7 und den Quarzdomträger 9 ge¬ führt, so daß das zugeführte Gas, beispielsweise Argon, über eine Düse in den Quarzdom 8 eintritt. Die Isolatoren 11a, 11b und 11c halten multiaperture Extraktionselektroden 12, 13 und 14, vorzigsweise aus Graphit. Wie man Fig. 1 entnehmen kann, sind die Elektroden 12, 13 und 14 "abgeschattet", um einer Ab¬ lagerung von Material auf den Isolatoren vorzubeugen. Bei der dargestellten Ausführungsform fluchten die Öffnungen der Elek¬ troden derart miteinander, daß sich ein Breitstrahl aus sich überlappenden Einzelstrahlen des Plasmas ergibt. Die Potentiale der einzelnen Elektroden sind der Fig. 1 zu entnehmen. Der Trä¬ ger 15 für das dem Plasmastrahl auszusetzende Substrat ist geer¬ det und nur schematisch dargestellt. Mit ECR sind Magnetspulen bezeichnet, die den Hohlraumresonator 1 umgeben.

Nach Fig. 2 werden die von einem Magnetron 119 erzeugten Mikrowellen mit Hilfe eines Hohlleiters 102 über eine im Boden 103 des Hohlleiters 102 vorgesehene Iris 117 in den Hohlraumre¬ sonator 101 eingeführt. Fakultativ ist auch eine Koaxialleitung 105 vorgesehen.

Der Boden 103 trägt an seiner Peripherie einen lambda/4-Kurz- schlußschieber 104. Der Hohlleiter 102 samt Koaxialleitung 105 ist an einer Gewindestange hδhenverstellbar auf ehäng , wobei er im oberen Bereich des Hohlraumresonators 101 über einen federar¬ tigen metallischen Gleitkontakt mit dem Resonator 101 in Verbin¬ dung stehen kann.

Bei dieser Ausführungsform sitzt der Quarzdom 108 auf einem

ringförmigen Träger 109 auf, der mit dem Sockel 107 einen ring¬ förmigen Kanal bildet, über den das Gas mit Hilfe nicht darge¬ stellter Öffnungen in den Quarzdom eingeleitet wird.

Bei der dargestellten Ausführungsform sind im Unterschied zu der Ausführungsform der Fig. 1 nur zwei multiaperture Extrak¬ tionselektroden 112, 113 vorgesehen.

Die ECR-Magnete 106 sind nur schematisch dargestellt. Der Reak¬ tor 118 zur Einwirkung des Plasmas auf das vorgegebene Substrat ist im unteren Bereich weggebrochen.

Bei der in Fig. 3 dargestellten Ausführungsform wird der Quarz¬ dom 208 wiederum über eine Ringleitung 216 mit Gas versorgt. Wie bei der Ausführungsform der Fig. 2 sind Doppelelektroden 212, 213 vorgesehen.