PAR EVAPORATION

La présente invention concerne une installation d'évaporation d'un matériau métallique sur une surface à trai¬ ter. Elle s'applique plus particulièrement à la réalisation de micropointes d'émission électronique déposées par evaporation sous vide d'un matériau conducteur sur une cathode d'un écran plat de visualisation.

Un tel écran à micropointes est essentiellement cons¬ titué d'une cathode à micropointes et d'une grille pourvue de trous correspondant aux emplacements des micropointes. La cathode est placée en regard d'une anode cathodoluminescente dont un substrat de verre constitue la surface d'écran.

Le principe de fonctionnement et le détail de la constitution d'un exemple d'écran à micropointes sont décrits dans le brevet américain numéro 4 940 916 du Commissariat à l'Energie Atomique.

Ce dispositif utilise le champ électrique créé entre l'anode et la cathode pour que des électrons soient extraits des micropointes vers une couche cathodoluminescente de l'anode, sous la commande de la grille.

La figure 1 représente partiellement et en coupe la structure d'une plaque de cathode-grille 1 d'un écran à micro¬ pointes.

La plaque 1 est généralement constituée de couches déposées successivement sur un substrat isolant 2. Une couche conductrice est déposée sur le substrat 2, puis est gravée selon un motif de mailles pour former des conducteurs de cathode 3. Une couche résistive 4 est ensuite déposée sur ces conducteurs de cathode 3. Cette couche résistive 4 a pour objet de protéger chaque micropointe 5 contre un excès de courant à l'amorçage d'une micropointe 5. Une couche isolante 6 est dépo¬ sée sur la couche résistive 4 pour isoler les conducteurs de cathode 3 de la grille 7 formée d'une couche conductrice. Des trous 8 sont pratiqués dans les couches 6 et 7 pour recevoir les micropointes 5.

Le dépôt des micropointes 5 s'effectue classiquement par evaporation d'un matériau conducteur, par exemple de molyb¬ dène. Une couche d'élimination par soulèvement, par exemple du nickel, est au préalable réalisée sur la surface de la grille 7, et également sur les bords des trous 8. On peut ainsi élimi¬ ner le matériau constitutif des micropointes vaporisé à ces emplacements.

Un problème qui se pose lors de la formation des micropointes est que les installations classiques d'évaporation d'un matériau métallique ne sont pas adaptées à la réalisation de dépôts sous incidence quasi-normale sur des plaques de gran¬ des dimensions.

En effet, comme il ressort de la figure 1, les micro¬ pointes 5 doivent être déposées dans le fond des trous 8 mais le matériau évaporé ne doit ni remplir les trous 8, ni se dépo¬ ser sur les parois des trous dans la couche d'isolement 6. Dans le cas contraire, le surplus de matériau conducteur ne pourrait être éliminé sélectivement par rapport aux micropointes 5. La couche d'élimination par soulèvement à laquelle on a générale- ment recours ne recouvre que les surfaces de la couche de

grille 7. L'incidence du faisceau d'évaporation doit donc être quasi-normale à la plaque 1 pour éviter le dépôt de matériau hors des zones souhaitées.

De plus, une plaque 1 donnée d'un écran est formée d'une seule pièce. De ce fait, l'incidence quasi-normale du faisceau d'évaporation doit être obtenue sur toute la surface de la plaque.

La figure 2 représente schématiquement une installa¬ tion classique d'évaporation d'un matériau métallique du type utilisée pour former les micropointes 5.

L'évaporation d'un matériau métallique 10 s'effectue sous vide, au moyen d'un creuset 11 contenant le matériau à évaporer. Le contenu du creuset 11 est chauffé et vaporisé au moyen d'un dispositif de bombardement électronique (non repré- sente) . Classiquement, une installation d'évaporation comprend un carrousel 12 à mouvement épicycloïdal. Des plaques à traiter 1 sont accrochées à la surface interne du carrousel 12 qui est concave vers le creuset 11. Une source d'évaporation, consti¬ tuée du creuset 11 et du dispositif de bombardement électroni- que, est placée au centre du carrousel 12. La rotation du car¬ rousel 12 et des plaques 1 permet d'obtenir un dépôt homogène.

Le besoin d'un faisceau d'évaporation présentant une incidence quasi-normale au plan des plaques 1 entraîne, pour des plaques de grandes dimensions, que la source d'évaporation doit être placée à une très grande distance des plaques. Ceci afin que l'angle α d'incidence maximale du faisceau d'évapora¬ tion qui atteint une plaque donnée, soit très faible. En d'au¬ tres termes, le carrousel 12 doit présenter un rayon important pour que le cône de matériau évaporé atteignant par sa base une plaque 1 donnée, présente un angle très faible. Typiquement, l'angle maximal d'incidence du faisceau sur iπie plaque 1 donnée doit être compris entre 5 et 15°. Par exer pour une plaque 1 rectangulaire de 20 cm par 30 cm, un maximal d'inci¬ dence d'environ 9° conduit à une distance entre les plaques 1 et le creuset 11 d'environ 1 m.

Une telle distance conduit à prévoir des installa¬ tions fort encombrantes.

Un autre inconvénient provient du fait que les étapes de chargement et de déchargement d'une nouvelle série de pla- ques 1 dans le carrousel 12 entraîne une pollution du vide sous lequel doit être réalisée l'evaporation, ce qui diminue le ren¬ dement de l'installation.

La présente invention vise à pallier ces inconvé¬ nients en proposant une installation qui permette une évapora- tion sous incidence quasi-normale tout en restant compacte et à fort débit.

L'invention vise également à éviter une pollution du vide sous lequel est réalisée 1'evaporation et à autoriser un traitement en chaîne des plaques. Pour atteindre ces objets, la présente invention pré¬ voit une installation de dépôt par evaporation d'un matériau métallique sur une plaque, comportant une enceinte équipée en partie haute d'un convoyeur linéaire d'au moins une plaque, surface à traiter dirigée vers le bas, et en partie basse d'au moins deux sources d'évaporation réparties perpendiculairement à la direction de convoyage, chaque source étant associée à un collimateur de son faisceau de matière évaporée, et les sources d'évaporation et leur collimateur associé étant agencés de manière à traiter toute la surface de la plaque. Selon un mode de réalisation de l'invention, le con¬ voyeur comporte des moyens pour maintenir la plaque parallèle à la direction de convoyage mais inclinée avec un angle donné par rapport à l'horizontale, chaque source d'évaporation étant associée à un collimateur agencé pour définir un cône d'évapo- ration dont l'axe présenté un angle donné par rapport à la sur¬ face du matériau à évaporer.

Selon un mode de réalisation de l'invention, les col¬ limateurs sont constitués d'un masque ouvert circulairement et disposé entre la plaque et les sources d'évaporation.

Selon un mode de réalisation de l'invention, l'en¬ ceinte est une enceinte sous vide hermétique, limitée par deux sas, respectivement d'entrée et de sortie de la plaque.

Selon un mode de réalisation de l'invention, une pla- que à traiter comporte un empilement de couches constitutives d'une cathode et d'une grille d'un écran plat de visualisation, le matériau à évaporer étant un matériau conducteur de forma¬ tion de micropointes d'émission électronique dans des trous que comportent la grille et une couche d'isolement de la grille par rapport à des conducteurs de cathode.

L'invention concerne également un procédé de forma¬ tion de micropointes d'émission électronique d'un écran plat de visualisation déposées par evaporation sous vide d'un matériau conducteur, consistant à amener une plaque dans une enceinte sous vide hermétique et à déplacer la plaque linéairement devant des sources d'évaporation du matériau qui sont associées à des collimateurs de définition d'un cône d'évaporation de petit angle.

Selon un mode de réalisation de l'invention, l'angle du cône défini par chaque collimateur est compris entre 5 et 15°.

Ces objets, caractéristiques et avantages, ainsi que d'autres de la présente invention seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite à titre non limitatif en relation avec les figures join¬ tes parmi lesquelles : les figures 1 et 2 qui on; été décrites précédemment sont destinées à exposer l'état de la technique et le problème posé ; la figure 3 est une vue en coupe longitudinale d'un premier mode de réalisation d'une installation de dépôt par evaporation d'un matériau métallique selon l'invention ; la figure 4 est une vue de dessus de l'installation représentée à la figure 3 ; et

la figure 5 est une vue en coupe transversale d'un deuxième mode de réalisation d'une installation de dépôt par evaporation selon l'invention.

Pour des raisons de clarté, les représentations des figures ne sont pas à l'échelle et les mêmes éléments ont été désignés par les mêmes références aux différentes figures.

Comme le montrent les figures 3 et 4, une installa¬ tion selon l'invention comporte une enceinte hermétique 20 for¬ mant tunnel et limitée par deux sas, respectivement d'entrée 21 et de sortie 22. Chaque sas est limité par des portes, respec¬ tivement 23 et 24, 25 et 26.

Une plaque 1 introduite au moyen du sas 21 est ache¬ minée vers l'enceinte 20 au moyen d'un convoyeur 27 que com¬ porte le sas 21. Ce convoyeur 27 est de préférence aligné avec un convoyeur 28 dont est équipée l'enceinte 20 dans sa partie haute. Côté sortie, un convoyeur 29 du sas 22 est aligné avec le convoyeur 28 de l'enceinte 20. Le trajet du convoyeur 28 dans l'enceinte est linéaire et horizontal au moins dans une zone de traitement par evaporation. De préférence, le trajet du convoyeur 28 est linéaire et horizontal dans toute l'enceinte 20 depuis le sas d'entrée 21 jusqu'au sas de sortie 22.

Les convoyeurs 27, 28 et 29 sont par exemple consti¬ tués de deux bandes parallèles et écartées l'une de l'autre, entraînées par des rouleaux 30. Les plaques 1 sont transpor- tées, surface à traiter vers le bas, en reposant par deux de leurs bords sur les bandes des convoyeurs. On pourra également avoir recours par exemple à des convoyeurs aériens, constitués de rails desquels pendent des luges dont les patins constituent supports pour deux des bords des plaques 1. Les plaques 1 pour- raient encore être suspendues à des convoyeurs aériens au moyen de griffes de préhension des bords des plaques.

Des sources d'évaporation 31 sont disposées dans la partie basse de l'enceinte 20. Ces sources d'évaporation sont constituées de creusets 11 contenant le matériau à évaporer et de dispositifs de bombardement électronique (non représentés) .

Les sources 31 sont de préférence réparties dans la zone de traitement de manière à traiter toute la surface de la plaque 1 durant sont trajet dans l'enceinte 20. En d'autres termes, l'enceinte 20 comporte plusieurs sources d'évaporation 31 dis- posées perpendiculairement à l'axe de convoyage des plaques 1, chaque source d'évaporation 31 couvrant une zone déterminée dans la largeur de l'enceinte 20.

Chaque source d'évaporation 31 est associée à un col¬ limateur du faisceau de matériau évaporé qu'elle émet. Ce col- limateur est interposé entre le creuset 11 de la source d'éva¬ poration et la surface à traiter de la plaque 1. Les collima¬ teurs sont par exemple constitués d'un masque 32 interposé entre les creusets 11 et la surface à traiter de la plaque 1. Le masque 32 est par exemple constitué d'une tôle ouverte cir- culairemënt au droit de chaque creuset 11.

^' Le choix du diamètre de chaque ouverture 33 du masque 32 dépend de la plage d'angles d'incidences souhaitée pour 1'evaporation du matériau 10, et de la distance qui sépare les creusets du masque 32. Dans la représentation des figures 3 et 4, les sour¬ ces d'évaporation 31 ont été représentées réparties le long de l'enceinte 20. Elles pourraient également être alignées selon une direction perpendiculaire à l'axe de convoyage. On veillera cependant à ce que les zones, couvertes par les bases des cônes d'évaporation sur la plaque 1 et définies par les ouvertures 33, recouvrent toute la largeur de la plaque 1. De plus, on veillera à ce que les bases des cônes d'évaporation de deux sources 31 dont les zones de couverture sont voisines, se che¬ vauchent de façon optimale afin de ne pas nuire à la régularité du dépôt.

Ainsi, l'invention pr-rmet de réaliser 1'evaporation du matériau sous une incidence quasi-normale à la surface à traiter tout en réduisant la distance qui sépare les plaques 1 des sources d'évaporation. Cette réduction de distance est obtenue grâce à la multiplication des sources d'évaporation

associées à une même plaque. Cette multiplication des sources réduit la surface de base de chaque cône d'évaporation et per¬ met ainsi de réduire la distance entre les plaques et les creusets. De plus, l'acheminement linéaire des plaques permet de rapporter la distance entre les plaques 1 et un nombre de creusets 11 donné, non plus au grand côté, mais au petit côté d'une plaque rectangulaire.

En outre, le recours à un masque 32 ouvert uniquement au droit des creusets 11 et dont les ouvertures 33 sont di en- sionnées en fonction de la taille des plaques, permet d'éviter une dispersion du matériau dans l'enceinte 20 en limitant les directions d'évaporation aux directions utiles.

En reprenant l'exemple exposé en relation avec la figure 2, il suffit désormais que la plaque 1 soit placée à environ 13 cm de cinq creusets 11 dont les cônes d'évaporation présentent un diamètre à la base de 4 cm. De tels cônes d'éva¬ poration peuvent par exemple être obtenus au moyen d'un masque 32 présentant des ouvertures circulaires 33 d'environ 2 cm de diamètre placé à environ 6 cm des creusets 11. Comme une plaque

I donnée reçoit du matériau évaporé provenant de cinq creusets

II affectés chacun à une partie de la surface de la plaque, la vitesse de dépôt augmente d'un facteur cinq par rapport au cas de la figure 2. La figure 5 illustre un autre mode de réalisation d'une installation selon la présente invention.

Selon ce mode de réalisation, les plaques 1 sont tou¬ jours transportées linéairement dans l'enceinte 20 au moyen d'un convoyeur 34, mais en étant inclinées d'un angle donné par rapport à l'horizontale.

Chaque source d'évaporation 31 est associée à un col¬ limateur 35 qui définit un cône d'évaporation selon une direc¬ tion qui présente un angle β par rapport à la normale à la sur¬ face du matériau 10 contenu dans le creuset 11. Le cône défini par chaque collimateur 35 est dirigé vers la plaque 1. Chaque

collimateur 35 est par exemple comme précédemment constitué ^* r une tôle comportant une ouverture circulaire 33 de définition du cône d'évaporation. De préférence, chaque tôle constitutive d'un collimateur 35 recouvre le creuset 11 auquel elle est associée afin d'éviter une dispersion inutile du matériau dans l'enceinte 20.

Les sources d'évaporation 31 sent toujours réparties perpendiculairement à la direction de convoyage, mais également en hauteur pour que la distance entre la plaque 1 et tous les creusets 11 soit constante. Pour des raisons de clarté, seule une source d'évaporation 31 a été représentée à la figure 5. En pratique, on prévoira plusieurs sources d'évaporation pour que chaque cône d'évaporation ne traite par sa base, qu'une bande de la plaque 1, et ainsi permettre comme précédemment de placer les plaques à faible distance des creusets 11.

Les plaques 1 devant être inclinées, on aura de pré¬ férence recours à un convoyeur aérien. Ce convoyeur 34 est par exemple constitué de traverses 37 suspendues à deux rails parallèles 38 par l'intermédiaire de galets de roulement 39. Les plaques 1 sont suspendues aux traverses au moyen de sup¬ ports à griffes 40.

Un tel mode de réalisation permet d'éviter que des éruptions de matière, qui sont susceptibles de se produire essentiellement selon la normale à la surface du matériau con- tenu dans le creuset, ne viennent se déposer sur les plaques ce qui les rendraient inutilisables.

Bien entendu, la présente invention est susceptible de diverses variantes et modifications qui apparaîtront à l'homme de l'art. En particulier, chacun des dispositifs décrits pourra être remplacé par un ou plusieurs éléments rem¬ plissant la même fonction. Par exemple, les convoyeurs pourront être constitués par tout o-'-^n approprié pourvu qu'ils permet¬ tent de laisser accessible . surface des plaques dirigée vers le bas et de convoyer les plaques linéairement selon une direc- tion horizontale.

En outre, le choix des dimensions respectives des ouvertures des collimateurs et de la distance qui sépare ces collimateurs des sources d'évaporation, dépend de l'angle d'in¬ cidence souhaité" pour le matériau évaporé, de la taille des plaques à traiter et de la distance qui les séparent des sour¬ ces d'évaporation.