以下、本発明を図面に示す実施例に基づい� ��詳細に説明する。
 図1~図5において、全体を符号1で示す眼鏡レ ンズの縁摺り加工装置は、未加工の円形レン ズからなる被加工レンズ2を縁摺り加工して� �望の玉型形状の眼鏡レンズ2A(図5A)を製造す� �ための装置であって、床面に設置された箱� �の筐体3を備えている。この筐体3の内部には 、被加工レンズ2がレンズ保持手段を介して� �着されるレンズ回転軸4と、このレンズ回転� ��4を軸線方向(X方向)に移動させる第1のレン� �回転軸移動機構5と、同じくレンズ回転軸4を 軸線と直交する水平な方向(Y方向)に移動させ る第2のレンズ回転軸移動機構6と、被加工レ� ��ズ2を縁摺り加工する加工具7と、この加工� �7の回転駆動機構8と、装置全体を制御する制 御部(図示せず)と、被加工レンズ2の光学面2a� ��2bを測定するレンズ形状測定部9と、被加工� ��ンズ2の面取り加工機構10等が組み込まれて� ��る。また、筐体3の上面には、被加工レンズ 2のレンズ情報、眼鏡フレームの情報、加工� �件等を入力する各種操作ボタン、表示装置� �を備えた操作パネル(図示せず)が設けられて いる。

 被加工レンズ2は、注型重合法によって形 成された円形(例えば、直径80φmm)のプラスチ� ��ク製マイナスレンズからなる。

 被加工レンズ2の光学基材としては、例え ば、メチルメタクリレートと一種以上の他の モノマーとの共重合体、ジエチルグリコール ビスアリルカーボネートと一種以上の他のモ ノマーとの共重合体、ポリカーボネート、ウ レタン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不 飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレ ート、ポリウレタン、ポリチオウレタン、エ ン-チオール反応を利用したスルフィド、硫� �を含むビニル重合体等が挙げられ、中でも� �レタン系光学基材とアリル系光学基材が好� �であるが、これに限定されるものではない� �また、本発明における光学基材としては、� �ラスチック光学基材であると好ましく、眼� �用プラスチック光学基材であるとさらに好� �しい。

 被加工レンズ2の各光学面2a、2bには、図6� ��示すように表面全体に保護膜層64と撥水膜� �67とが積層した状態で形成されている。保護 膜層64は、レンズの光学特性、耐久性、耐擦� ��性等を向上させるために形成されるもので� ��通常ハードコート膜層65と反射防止膜層66と で構成されている。

 最下層のハードコート膜層65は、眼鏡レ� �ズ自体の硬度を高めるとともに耐擦傷性を� �上させるために形成されるものであり、材� �としては、例えば、シリコン系樹脂などの� �機物質が用いられる。ハードコート膜層65は 、溶剤からなるシリコン系樹脂を浸漬法また はスピンコート法によって塗布した後、加熱 炉によって加熱し硬化させることにより形成 される。このようなハードコート膜層65の形� ��方法は、従来からよく知られている方法で� ��る。

 中間層の反射防止膜層66は、反射防止効果� �耐擦傷効果を高めるために形成されるもの� �ある。また、この反射防止膜層66は、異なっ た複数の材質によって形成されることにより 、多層の反射防止膜層を形成している。反射 防止用材料としては、例えば、Zr,Ti,Sn,Si,In,Al� ��の金属酸化物または珪素酸化物やMgF ₂  が用いられる。このような多層反射防止膜� ��66は、例えば上記した特開平11-333685号公報� �記載されている真空蒸着法によって形成さ� �る。

 また、多層反射防止膜層66としては、良好� �膜強度および密着性を得るためにイオンア� �スト法で形成されることが好ましい。この� �射防止膜のハイブリッド層以外の膜構成層� �、良好な反射防止効果、耐擦傷性等の物性� �得るために、高屈折率層として酸化タンタ� �(Ta ₂ O ₅ )層とする。この酸化タンタル層は各層中に� �れぞれ酸化タンタルを少なくとも50重量%含� �し、さらに、80重量%以上含有することが好� �しい。

 イオンアシスト法において、出力に関す� ��好ましい範囲は、特に、良好な反応を得る� ��点から、加速電圧50~700v、加速電流30~250mAで� ��る。イオンアシスト法を実施する際に使用� ��れるイオン化ガスは、成膜中の反応性、酸� ��防止の点からアルゴン(Ar)、またはアルゴン と酸素の混合ガスを用いることが好ましい。

 本発明におけるハイブリッド層に使用され� ��無機物質としては、二酸化ケイ素を含有す� ��ことが必要であり、その他、酸化アルミニ� ��ム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化� ��ンタル、酸化イットリウムおよび酸化ニオ� ��から選ばれる少なくとも1種を含んでいても よい。複数の無機物質を用いる場合は、それ らを物理的に混合してもよいし、また複合酸 化物であってもよく、具体的には二酸化ケイ 素(SiO ₂  )、-酸化アルミニウム(Al ₂  O ₃  )等がある。これらのうち二酸化ケイ素単独 、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムから 選ばれる少なくとも1種類の無機酸化物が好� �しい。

 本発明におけるハイブリッド層に使用さ� ��る有機物質としては、膜厚の制御、蒸着速� ��の制御の観点から、常温、常圧下で、液体� ��態にある有機ケイ素化合物および/または常 温、常圧下で液体であるケイ素非含有有機化 合物が用いられる。

 有機ケイ素化合物としては、例えば、以� ��の一般式(a)~(d)で表されるいずれかの構造を 有することが好ましい。

 一般式(a):シラン・シロキサン化合

 一般式(b):シラザン化合物

 一般式(c):シクロシロキサン化合物

一般式(d):シクロシラザン化合物

 一般式(a)~(d)において、式中のm、nは、それ� ��れ独立に0以上の整数を表す。また、X ₁ ~X ₈ はそれぞれ独立に水素、炭素数1~6の炭化水素 基(飽和・不飽和双方を含む)、-OR ¹ 基、-CH ₂ OR ² 基、-COOR ³ 基、-OCOR ⁴ 基、-SR ₅ 基、-CH ₂ SR ⁶  基、-NR ⁷ ₂ 基、または、-CH ₂ NR ⁸ ₂ 基[R ¹ ~R ⁸ は水素または炭素数1~6の炭化水素基(飽和・� �飽和双方を含む)]を表し、X ₁ ~X ₈ は上記の任意の官能基であればよく、すべて 同じ官能基でもよいし、すべて異なるもので もよい。

 R ¹ ~R ⁸ で示される炭素数1~6の炭化水素基の具体例と しては、メチル基、エチル基、n-プロピル基� ��イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル� �、ペンチル基、ヘキシル基、ビニル基、ア� �ル基、エチニル基、フェニル基、シクロヘ� �シル基、プロピニル基、イソプロペニル基� �が挙げられる。

 一般式(a)で表せる具体的な化合物として� ��、トリメチルシラノール、テトラメチルシ� ��ン、ジエチルシラン、ジメチルエトキシシ� ��ン、ヒドロキシメチルトリメチルシラン、� ��トキシトリメチルシラン、ジメトキシジメ� ��ルシラン、メチルトリメトキシシラン、メ� ��カプトメチルトリメトキシシラン、テトラ� ��トキシシラン、メルカプトメチルトリメチ� ��シラン、アミノメチルトリメチルシラン、� ��メチルジメチルアミノシラン、エチニルト� ��メチルシラン、ジアセトキシメチルシラン� ��アリルジメチルシラン、トリメチルビニル� ��ラン、メトキシジメチルビニルシラン、ア� ��トキシトリメチルシラン、トリメトキシビ� ��ルシラン、ジエチルメチルシラン、エチル� ��リメチルシラン、エトキシトリメチルシラ� ��、ジエトキシメチルシラン、エチルトリメ� ��キシシラン、ジメチルアミノトリメチルシ� ��ン、ビス(ジメチルアミノ)メチルシラン、� �ェニルシラン、ジメチルジビニルシラン、2- プロピニロキシトリメチルシラン、ジメチル エトキシエチニルシラン、ジアセトキシジメ チルシラン、アリルトリメチルシラン、アリ ロキシトリメチルシラン、エトキシジメチル ビニルシラン、イソプロペノキシトリメチル シラン、アリルアミノトリメチルシラン、ト リメチルプロピルシラン、トリメチルイソプ ロピルシラン、トリエチルシラン、ジエチル ジメチルシラン、ブチルジメチルシラン、ト リメチルプロポキシシラン、トリメチルイソ プロポキシシラン、トリエチルシラノール、 ジエトキシジメチルシラン、プロピルトリメ トキシシラン、ジエチルアミノジメチルシラ ン、ビス(エチルアミノ)ジメチルシラン、ビ� ��(ジメチルアミノ)ジメチルシラン、トリ(ジ� ��チルアミノ)シラン、メチルフェニルシラン 、メチルトリビニルシラン、ジアセトキシメ チルビニルシラン、メチルトリアセトキシシ ラン、アリロキシジメチルビニルシラン、ジ エチルメチルビニルシラン、ジエトキシメチ ルビニルシラン、ビス(ジメチルアミノ)メチ� ��ビニルシラン、ブチルジメチルヒドロキシ� ��チルシラン、1-メチルプロポキシトリメチ� �シラン、イソブトキシトリメチルシラン、� �トキシトリメチルシラン、ブチルトリメト� �シシラン、メチルトリエトキシシラン、イ� �プロピルアミノメチルトリメチルシラン、� �エチルアミノトリメチルシラン、メチルト� �(ジメチルアミノ)シラン、ジメチルフェニル シラン、テトラビニルシラン、トリアセトキ シビニルシラン、テトラアセトキシシラン、 エチルトリアセトキシシラン、ジアリルジメ チルシラン、1,1-ジメチルプロピニロキシト� �メチルシラン、ジエトキシジビニルシラン� �ブチルジメチルビニルシラン、ジメチルイ� �ブトキシビニルシラン、アセトキシトリエ� �ルシラン、トリエトキシビニルシラン、テ� �ラエチルシラン、ジメチルジプロピルシラ� �、ジエトキシジエチルシラン、ジメチルジ� �ロポキシシラン、エチルトリエトキシシラ� �、テトラエトキシシラン、メチルフェニル� �ニルシラン、フェニルトリメチルシラン、� �メチルヒドロキシメチルフェニルシラン、� �ェノキシトリメチルシラン、ジメトキシメ� �ルフェニルシラン、フェニルトリメトキシ� �ラン、アニリノトリメチルシラン、1-シクロ ヘキセニロキシトリメチルシラン、シクロヘ キシロキシトリメチルシラン、ジメチルイソ ペンチロキシビニルシラン、アリルトリエト キシシラン、トリプロピルシラン、ブチルジ メチル-3-ヒドロキシプロピルシラン、ヘキシ ロキシトリメチルシラン、プロピルトリエト キシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、 ジメチルフェニルビニルシラン、トリメチル シリルベンゾネート、ジメチルエトキシフェ ニルシラン、メチルトリイソプロペノキシシ ラン、メトキシトリプロピルシラン、ジブト キシジメチルシラン、メチルトリプロポキシ シラン、ビス(ブチルアミノ)ジメチルシラン� ��ジビニルメチルフェニルシラン、ジアセト� ��シメチルフェニルシラン、ジエチルメチル� ��ェニルシラン、ジエトキシメチルフェニル� ��ラン、トリイソプロポキシビニルシラン、2 -エチルヘキシロキシトリメチルシラン、ペ� �チルトリエトキシシラン、ジフェニルシラ� �、ジフェニルシランジオールフェニルトリ� �ニルシラン、トリエチルフェニルシラン、� �ェニルトリエトキシシラン、テトラアリロ� �シシラン、フェニルトリ(ジメチルアミノ)シ ラン、テトラプロポキシシラン、テトライソ プロポキシシラン、ジフェニルメチルシラン 、ジアリルメチルフェニルシラン、ジメチル ジフェニルシラン、ジメトキシジフェニルシ ラン、ジアニリノジメチルシラン、ジフェニ ルエトキシメチルシラン、トリペンチロキシ シラン、ジフェニルジビニルシラン、ジアセ トキシジフェニルシラン、ジエチルジフェニ ルシラン、ジエトキシジフェニルシラン、ビ ス(ジメチルアミノ)ジフェニルシラン、テト� ��ブチルシラン、テトラブトキシシラン、ト� ��フェニルシラン、ジアリルジフェニルシラ� ��、トリヘキシルシラン、トリフェノキシビ� ��ルシラン、1,1,3,3-テトラメチルジシロキサ� �、ペンタメチルジシロキサン、ヘキサメチ� �ジシロキサン、1,3-ジメトキシテトラメチル� ��シロキサン、1,3-ジエチニル-1,1,3,3-テトラメ チルジシロキサン、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テト� �メチルジシロキサン、1,3-ジエトキシテトラ� ��チルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキ� ��ン、1,3-ジブチル-1,1,3,3-テトラメチルジシロ キサンなどの化合物が挙げられる。

 一般式(b)で表される具体的な化合物とし� ��は、1,1,3,3-テトラメチルジシラザン、ヘキ� �メチルジシラザン、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テト� ��メチルジシラザンなどの化合物が挙げられ� ��。

 一般式(c)で表される具体的な化合物とし� ��は、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、� ��キサエチルシクロトリシロキサン、1,3,5,7-� �トラメチルシクロテトラシロキサン、オク� �メチルシクロテトラシロキサンなどの化合� �が挙げられる。

 一般式(d)で表される具体的な化合物とし� ��は、1,1,3,3,5,5-ヘキサメチルシクロトリシラ� ��ン、1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルシクロテトラ シラザンなどの化合物が挙げられる。

 これらの有機ケイ素化合物の数平均分子� ��は、ハイブリッド膜中の有機成分の制御、� ��自体の強度の点から、好ましくは、48~600、� ��に好ましくは、140~500である。

 さらに、ハイブリッド層を構成するケイ� ��非含有有機化合物は、その側鎖または末端� ��反応性基を含有する炭素および水素を必須� ��分とするものが好ましく、より具体的には� ��般式(e)~(g)で表される化合物が好ましく用い られる。

 一般式(e):片末端にエポキシ基を有する炭素 および水素を必須成分とするケイ素非含有有 機化合物

 一般式(f):両末端にエポキシ基を有する炭素 および水素を必須成分とするケイ素非含有有 機化合物

 一般式(g):二重結合を含む、炭素および水素 を必須成分とするケイ素非含有有機化合物
CX ₉ X ₁₀ =CX ₁₁ X ₁₂  ・・・(g)

 一般式(e)、(f)において、R ⁹ は水素、または酸素を含んでいてもよい炭素 数1~10の炭化水素基、R ¹⁰ は、酸素を含んでいてもよい炭素数1~7の二価 の炭化水素基を表す。一般式(g)において、X ₉ ~X ₁₂ はそれぞれ独立に水素、炭素数1~10の炭化水� �基、または炭素数1~10の炭素、水素を必須成� ��とし、さらに酸素および窒素の少なくとも� ��方を必須成分とする有機基を表す。

 一般式(e)の化合物の具体例としては、メ� ��ルグリシジルエーテル、ブチルグリシジル� ��ーテル、2-エチルヘキシルグリシジルエー� �ル、デジルグリシジルエーテル、ステアリ� �グリシジルエーテル、アリルグリシジルエ� �テル、フェニルグリシジルエーテル、p-sec-� �チルフェニルグリシジルエーテル、p-tert-ブ� ��ルフェニルグリシジルエーテル、2-メチル� �クチルグリシジルエーテル、グリシドール� �トリメチロールプロパンポリグリシジルエ� �テルなどが挙げられる。

 一般式(f)の化合物の具体例としては、ネ� ��ペンチルグリコールジグリシジルエーテル� ��グリセロールジグリシジルエーテル、グリ� ��ロールトリグリシジルエーテル、プロピレ� ��グリコールジグリシジルエーテル、トリプ� ��ピレングリコールジグリシジルエーテル、� ��リプロピレングリコールジグリシジルエー� ��ル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエー テル、エチレングリコールジグリシジルエー テル、ジエチレングリコールジグリシジルエ ーテル、ポリエチレングリコールジグリシジ ルエーテルなどが挙げられる。

 一般式(g)の具体例としてはエチレン、プ� ��ピレン、塩化ビニル、フッ化ビニル、アク� ��ルアミド、ビニルピロリドン、ビニルカル� ��ゾール、メチルメタクリレート、エチルメ� ��クリレート、ベンジルメタクリレート、n-� �チルメタクリレート、イソブチルメタクリ� �ート、ジメチルアミノエチルメタクリレー� �、メタクリル酸、グリシジルメタクリレー� �、酢酸ビニル、スチレンなどがあげられる� �

 また、一般式(e)~(g)で表される化合物の数 平均分子量は、ハイブリッド膜中の有機成分 の制御およびハイブリッドの膜強度を考慮し て、好ましくは、28~4000、特に好ましくは、14 0~360である。

 本発明における常温、常圧下で液体であ� ��有機ケイ素化合物および/または常温、常圧 下で液体であるケイ素非含有有機化合物(以� �「有機物質」ということがある)の成膜方法� ��しては、ハイブリッド層を形成する際には� ��無機物質、有機物質それぞれを別の蒸着源� ��て同時に蒸着して成膜するのが好ましい。� ��体的には、無機物質を電子銃等を用いて加� ��することにより気化させ、有機物質を外部� ��ンクに貯蔵し、このタンク内でこの有機物� ��を気化させ、無機物質と有機物質を同時に� ��着させる方法が好ましい。

 なお、蒸着速度の制御の観点から、有機� ��質を貯蔵する外部タンクを加熱・減圧して� ��の有機物質をチャンバー内に供給し、酸素� ��スおよび/またはアルゴンガスを用いイオン アシスト成膜するのが好ましい。さらに、本 発明では有機物質が常温・常圧で液体であり 、溶媒を使用する必要がなく、直接加熱して 蒸着することができる。また、有機物質の導 入口は、無機物質蒸発源真上に設けるのが耐 衝撃性、耐摩耗性向上に効果的であり、有機 ケイ素化合物を下部より、その側鎖または末 端に反応性基を含有する炭素および水素を必 須成分とするケイ素非含有有機化合物を上部 より供給するのが好ましい。

 外部タンクの加熱温度は、その有機物質� ��蒸発温度により異なるが、30~200℃、好まし� ��は50~150℃とすることが適当な蒸着速度を得� ��という点から好ましい。

 本発明におけるハイブリッド層の有機物� ��の好ましい膜内含有率は、特に良好な物性� ��質効果が得られる点を考慮して、0.020~25重� �%である。

 本発明における好ましい膜厚および屈折率� ��範囲は以下の通りである。なお、ここでλ� �光の波長を示す。
第1層 0.005λ~1.25λ 1.41~1.50
第2層 0.005λ~0.10λ 2.00~2.35
第3層 0.005λ~1.25λ 1.41~1.50
第4層 0.05λ~0.45λ 2.00~2.35
第5層 0.005λ~0.15λ 1.41~1.50
第6層 0.05λ~0.45λ 2.00~2.35
第7層 0.2λ~0.29λ 1.41~1.50
 かかる膜構成にすることにより、目的とす� ��物性が容易に得られる。

 最上層の撥水膜層67は、凸側光学面2aと凹 側光学面2bの平滑度を高めて防汚性を向上さ� ��るとともに、水やけを防止するために形成� ��れるもので、最近では滑り性のよい超撥水� ��ンズが普及しつつある。撥水材としては、� ��えばフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素� ��合物を含む撥水原料等が用いられている。

 撥水膜層67の原料および形成方法は、特� �2004-122238号公報に記載されている方法を用い ることが好ましい。その方法としては、溶媒 で希釈したフッ素置換アルキル基含有有機ケ イ素化合物を減圧下であって、この有機ケイ 素化合物の蒸着開始温度以上から有機ケイ素 化合物の分解温度を超えない範囲で、加熱開 始から蒸着を90秒以内、好ましくは10秒以内� �完結させることが好ましい。このような蒸� �時間を達成する方法としては、有機ケイ素� �合物に電子ビームを照射する方法が好まし� �用いられる。

 フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化� ��物としては、下記一般式(h)で表されるもの� ��または下記単位式(i)で表されるものが好ま� ��い。

 式(h)中、RFは炭素数1~16の直鎖状のパーフル� ��ロアルキル基、Xは水素または炭素数1~5の低 級アルキル基、R ¹¹ は加水分解可能な基、kは1~50の整数、rは0~2の 整数、pは1~10の整数である。
CqF ₂ q+1CH ₂ CH ₂ Si(NH ₂ ) ₃  ・・・(i)
 ただし、qは1以上の整数である。

 ここで、上記R ¹¹ で示される加水分解可能な基としてはアミノ 基、アルコキシ基、特にアルキル部が炭素数 1~2であるアルコキシ基、塩素原子等が挙げら れる。

 また、上記式(i)で表される化合物の具体例� ��しては、n-CF ₃ CH ₂ CH ₂ Si(NH ₂ ) ₃ ;n-トリフロロ(1,1,2,2-テトラヒドロ)プロピル� �ラザン、n-C ₃ F ₇ CH ₂ CH ₂ Si(NH ₂ ) ₃ ;n-ヘプタフロロ(1,1,2,2-テトラヒドロ)ペンチ� �シラザン、n-C ₄ F ₉ CH ₂ CH ₂ Si(NH ₂ ) ₃ ;n-ノナフロロ(1,1,2,2-テトラヒドロ)ヘキシル� �ラザン、n-C ₆ F ₁₃ CH ₂ CH ₂ Si ₂ (NH ₂ ) ₃ ;n-トリデオフロロ(1,1,2,2-テトラヒドロ)オク� �ルシラザン、n-C ₈ F ₁₇ CH ₂ CH ₂ Si(NH ₂ ) ₃ ;n-ヘプタデカフロロ(1,1,2,2-テトラヒドロ)デ� �ルシラザン等を例示することができる。

 また、撥水膜層67の原料として、フッ素� �換アルキル基含有有機ケイ素化合物と、ケ� �素非含有のパーフルオロポリエーテルとの2� ��分を主成分とする原料を用いることもでき� ��さらにはこれらの原料からなる第1層を形成 し、この第1層上に接して、ケイ素非含有の� �ーフルオロポリエーテルを主成分とする原� �を用いて第2層を形成することにより、撥水� ��層を形成することも好適である。

 ケイ素非含有のパーフルオロポリエーテル� ��、ケイ素を含有しない以下の構造式(j)
-(R ¹² O)- ・・・(j)
式(j)中、R ¹² は炭素数1~3のパーフルオロアルキレン基であ る。
で表される単位からなるものが好ましく用い られ、平均分子量が1000~10000、特に2000~10000の� ��のが好ましい。Rは炭素数1~3のパーフルオロ アルキレン基であり、具体的にはCF ₂ 、CF ₂ -CF ₂ 、CF ₂ CF ₂ CF ₂ 、CF(CF ₂ )CF ₂ 等の基が挙げられる。これらのパーフルオロ ポリエーテルは常温で液状であり、いわゆる フッ素オイルと称されるものである。

 また、本発明の眼鏡レンズは、反射防止� ��層の下に、密着性を向上させるために、下� ��層として、後述するハイブリッド層形成の� ��に触媒作用のある金属、例えば、ニッケル( Ni)、銀(Ag)、白金(Pt)、ニオブ(Nb)およびチタニ ウム(Ti)から選ばれる少なくとも1種類からな� ��層を施すことができる。特に好ましい下地� ��は、より良好な耐衝撃性を付与させるため� ��、ニオブからなる金属層である。金属層を� ��地層として用いた場合、下地層の上に設け� ��れるハイブリッド層の反応が進みやすくな� ��、分子内編み目構造を有する物質が得られ� ��耐衝撃性が向上する。

 最上層の撥水膜層67が内部に2層構造を有し� ��第一撥水層および第2撥水層からなることも 本願発明に好適である。例えば撥水膜層67と� ��て、下記一般式(I)で示されるフッ素置換ア� ��キル基含有有機ケイ素化合物と、下記一般� ��(II-1)、(II-2)および(II-3)の中から選ばれた少� ��くとも一種のシラン化合物との混合物を含� ��する蒸着材料を光学部材上に蒸着して第1撥 水層を形成し、その上に下記一般式(III)で示� ��れるパーフルオロポリエーテル-ポリシロキ サン共重合体変性シランと溶媒を含有する浸 漬材料に浸漬して第2撥水層を形成すること� �より、2層からなる撥水膜層67を形成する。
一般式(I)

 一般式(I)中において、Rfは、式:-(C _k F _2k O)-(kは1~6の整数である)で表わされる単位を含 み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポ リアルキレンエーテル構造を有する二価の基 である。Rは独立に炭素原子数1~8の一価炭化� �素基である。Xは独立に加水分解性基または� ��ロゲン原子である。nおよびn’はそれぞれ0~ 2の整数であり、mおよびm’はそれぞれ1~5の整 数であり、aおよびbはそれぞれ2または3であ� �。

 一般式(II)
R’は有機基であり、R’’はアルキル基であ� ��。

 一般式(III)

 一般式(III)中、Rgは、式:-(C _j F _2j O)-(jは1~5の整数である)で表わされる繰り返し 単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフ ルオロポリアルキレンエーテル構造を有する 二価の基であり、繰り返し単位数が30~60であ� ��、異なるjの繰り返し単位を同時に含んでい てもよい。R ¹ は同一または異なっていてもよい炭素数1~4の アルキル基またはフェニル基、wは30~100、a,b� �よびcは、それぞれ独立に1~5の整数、R ² は炭素数1~4のアルキル基またはフェニル基、 X ¹ は加水分解性基、dは2または3、yは1~5の整数� �ある。
 以下、一般式(I)~(III)の化合物について説明� ��る。

 一般式(I)において、Rf基は、式:-(C _k F _2k O)-(式中、kは1~6、好ましくは1~4の整数であり� ��一般式(I)中のCkF _2k Oの配列はランダムである。)で表わされる単� ��を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフル� ��ロポリアルキレンエーテル構造を有する二� ��の基である。なお、一般式(I)中のnおよびn� �がいずれも0である場合、一般式(I)中の酸素� ��子(O)に結合するRf基の末端は、酸素原子で� �ない。

 ここで、Rfは、二価の直鎖型パーフルオロ� �リエーテル基であり、各種鎖長のパーフル� �ロポリエーテル基が含まれるが、好ましく� �炭素数1~6程度のパーフルオロポリエーテル� �を繰返し単位とする二価の直鎖型パーフル� �ロポリエーテルである。この二価の直鎖型� �ーフルオロポリエーテルとしては、例えば� �以下に示すようなものが挙げられる。
-CF ₂ CF ₂ O(CF ₂ CF ₂ CF ₂ O) _r CF ₂ CF ₂ -
-CF ₂ (OC ₂ F ₄ ) _s -(OCF ₂ ) _t -
上記化学構造式中のr、sおよびtはそれぞれ1� �上の整数を示す。具体的には1~50、より好ま� ��くは10~40の範囲が好ましい。なお、パーフ� �オロポリエーテルの分子構造は、これら例� �したものに限定されるものではない。

 一般式(I)において、Xは加水分解性基または ハロゲン原子である。Xが加水分解性基であ� �場合としては、例えば、メトキシ基、エト� �シ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアル� �キシ基;メトキシメトキシ基、メトキシエト� ��シ基、エトキシエトキシ基等のアルコキシ� ��ルコキシ基;アリロキシ基、イソプロペノキ シ等のアルケニルオキシ基;アセトキシ基、� �ロピオニルオキシ基、ブチルカルボニルオ� �シ基、ベンゾイルオキシ基等のアシロキシ� �;ジメチルケトオキシム基、メチルエチルケ� ��オキシム基、ジエチルケトオキシム基、シ� ��ロペンタノキシム基、シクロヘキサノキシ� ��基等のケトオキシム基;N-メチルアミノ基、N -エチルアミノ基、N-プロピルアミノ基、N-ブ� ��ルアミノ基、N,N-ジメチルアミノ基、N,N-ジ� �チルアミノ基、N-シクロヘキシルアミノ基等 のアミノ基;N-メチルアセトアミド基、N-エチ� ��アセトアミド基、N-メチルベンズアミド基� �のアミド基;N,N-ジメチルアミノオキシ基、N,N -ジエチルアミノオキシ基等のアミノオキシ� �等を挙げることができる。
 また、上記Xがハロゲン原子である場合とし ては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素 原子等が挙げられる。
 これらの中で、メトキシ基、エトキシ基、� ��ソプロペノキシ基および塩素原子が好適で� ��る。

 一般式(I)において、Rは炭素原子数1~8の一 価炭化水素基であり、Rが複数存在する場合� �は、Rは互いに同一でも異なってもよい。Rの 具体例としては、例えば、メチル基、エチル 基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ キシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアル キル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル� �等のシクロアルキル基;フェニル基、トリル� ��、キシリル基等のアリール基;ベンジル基、 フェネチル基等のアラルキル基;ビニル基、� �リル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキ� �ニル基等のアルケニル基等が挙げられる。� �れらの中でも炭素原子数1~3の一価炭化水素� �が好ましく、特にメチル基が好適である。

 一般式(I)において、nおよびn’はそれぞ� �0~2の整数であり、好ましくは1である。nとn� �は互いに同一であっても異なっていてもよ� �。また、mおよびm’はそれぞれ1~5の整数であ り、3であることが好ましい。mとm’は互いに 同一であっても異なっていてもよい。

 次に、aおよびbは各々2または3であり、加 水分解および縮合反応性、および被膜の密着 性の観点から、3であることが好ましい。

 一般式(I)で表されるフッ素置換アルキル� ��含有有機ケイ素化合物の分子量は、特に制� ��されないが、安定性、取扱い易さ等の点か� ��、数平均分子量で500~20,000、好ましくは1000~1 0,000のものが適当である。

 一般式(I)で表されるフッ素置換アルキル基� ��有有機ケイ素化合物の具体例としては、例� ��ば、下記構造式で示されるものが挙げられ� ��。但し、下記例示に限定されるものではな� ��。
(CH ₃ O) ₃ SiCH ₂ CH ₂ CH ₂ OCH ₂ CF ₂ CF ₂ O(CF ₂ CF ₂ CF ₂ O) _l CF ₂ CF ₂ CH ₂ OCH ₂ CH ₂ CHSi(OCH ₃ ) ₃
(CH ₃ O) ₂ CH ₃ SiCH ₂ CH ₂ CH ₂ OCH ₂ CF ₂ CF ₂ O(CF ₂ CF ₂ CF ₂ O) _l CF ₂ CF ₂ CH ₂ OCH ₂ CH ₂ CH ₂ SiCH ₃ (OCH ₃ ) ₂ (CH ₃ O) ₃ SiCH ₂ CH ₂ CH ₂ OCH ₂ CF ₂ (OC ₂ F ₄ ) _p (OCF ₂ ) _q OCF ₂ CH ₂ OCH ₂ CH ₂ CH ₂ Si(OCH ₃ ) ₃
(CH ₃ O) ₂ CH ₃ SiCH ₂ CH ₂ CH ₂ OCH ₂ CF ₂ (OC ₂ F ₄ ) _p (OCF ₂ ) _q OCF ₂ CH ₂ OCH ₂ CH ₂ CH ₂ SiCH ₃ (OCH ₃ ) ₂
(CH ₃ O) ₃ SiCH ₂ CH ₂ CH ₂ OCH ₂ CH ₂ CF ₂ (OC ₂ F ₄ ) _p (OCF ₂ )qOCF ₂ CH ₂ CH ₂ OCH ₂ CH ₂ CH ₂ Si(OCH ₃ ) ₃
(C ₂ H ₅ O) ₃ SiCH ₂ CH ₂ CH ₂ OCH ₂ CF ₂ (OC ₂ F ₄ ) _p (OCF ₂ ) _q OCF ₂ CH ₂ OCH ₂ CH ₂ CH ₂ Si(OC ₂ H ₅ ) ₃

 一般式(I)の化合物は、1種単独でも2種以� �を組合せても使用することができる。また� �場合により、上記フッ素置換アルキル基含� �有機ケイ素化合物とその部分加水分解縮合� �とを組み合わせて使用することができる。� �らに、後述する一般式(III)で示されるような パーフルオロポリエーテル-ポリシロキサン� �重合体変性シランを組み合わせて使用する� �ともできる。

 一般式(I)で表されるフッ素置換アルキル� ��含有有機ケイ素化合物は、溶媒で希釈され� ��ものを用いるとよい。使用できる溶媒とし� ��は、例えば、フッ素変性脂肪族炭化水素系� ��剤(パーフルオロヘプタン、パーフルオロオ クタン等)、フッ素変性芳香族炭化水素系溶� �(1,3-ジ(トリフルオロメチル)ベンゼン、トリ� ��ルオロメチルベンゼン等)、フッ素変性エー テル系溶剤(メチルパーフルオロブチルエー� �ル、パーフルオロ(2-ブチルテトラヒドロフ� �ン)等)、フッ素変性アルキルアミン系溶剤(� �ーフルオロトリブチルアミン、パーフルオ� �トリペンチルアミン等)、炭化水素系溶剤(石 油ベンジン、ミネラルスピリッツ、トルエン 、キシレン等)、ケトン系溶剤(アセトン、メ� ��ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン� ��)、アルコール溶剤(メタノール、エタノー� �、イソプロパノール、n-プロパノール等)等� �挙げられる。これらは1種単独でも2種以上を 組み合わせてもよい。これらのなかでも、変 性シランの溶解性、濡れ性等の点で、フッ素 変性された溶剤が好ましく、特に、1,3-ジ(ト� ��フルオロメチル)ベンゼン、パーフルオロ(2- ブチルテトラヒドロフラン)、およびパーフ� �オロトリブチルアミンが好ましい。

 一般式(II-1)、(II-2)および(II-3)の中から選ば� ��た少なくとも一種のシラン化合物は、
    一般式(II-1)  R’-Si(OR’’) ₃
    一般式(II-2)  Si(OR’’) ₄
    一般式(II-3)  SiO(OR’’) ₃ Si(OR’’) ₃
からなる。

 R’は有機基であり、炭素数1~50(好ましく� ��1~10)のアルキル基(メチル基、エチル基、プ� ��ピル基等)、エポキシエチル基、グリシジル 基、アミノ基等が挙げられ、これらは置換さ れていてもよい。R’’は炭素数1~48のアルキ� ��基(メチル基、エチル基、プロピル基等)で� �り、メチル基またはエチル基が好ましい。

 一般式(II-1)~(II-3)で表されるシラン化合物の 具体例としては、例えば、構造式、(C ₂ H ₅ O) ₃ SiC ₃ H ₆ NH ₂ 、(CH ₃ O) ₃ SiC ₃ H ₆ NH ₂ 、(C ₂ H ₅ O) ₄ Si、(C ₂ H ₅ O) ₃ Si-O-Si(OC ₂ H ₅ ) ₃ 等が挙げられる。但し、上記例示に限定され るものではない。

 一般式(II-1)~(II-3)のシラン化合物は、1種単� �でも2種以上を組合せても使用することがで� ��る。
 シラン化合物は、一般式(II-1)の化合物を単� ��あるいは他の成分より多く用いることがよ� ��好ましい。

 一般式(III)のパーフルオロポリエーテル-ポ� ��シロキサン共重合体変性シラン

 一般式(III)において、Rg基は、式:-(C _j F _2j O)-(jは1~5の整数であり、好ましくは1~3の整数� ��あり、一般式(III)中のC _j F _2j Oの配列はランダムである。)で表わされる繰� ��返し単位を含み、分岐を有しない直鎖状の� ��ーフルオロポリアルキレンエーテル構造を� ��する二価の基であり、繰り返し単位数が30~6 0(好ましくは30~50)であり、異なるjの繰り返し 単位を同時に含んでいてもよい。

 ここで、Rgは、二価の直鎖型パーフルオロ� �リエーテル基であり、各種鎖長のパーフル� �ロポリエーテル基が含まれるが、好ましく� �炭素数1~5程度のパーフルオロポリエーテル� �を繰返し単位とする二価の直鎖型パーフル� �ロポリエーテルである。この二価の直鎖型� �ーフルオロポリエーテルとしては、例えば� �以下に示すようなものが挙げられる。
-CF ₂ CF ₂ O(CF ₂ CFCF ₂ O) _k CF ₂ CF ₂ -
-CF ₂ (OC ₂ F ₄ ) _p -(OCF ₂ ) _q -
 上記化学構造式中のk、pおよびqはそれぞれ1 以上の整数を示す。kおよびp+qは30~60の範囲が 好ましい。なお、パーフルオロポリエーテル の分子構造は、これら例示したものに限定さ れるものではない。

 一般式(III)において、R ¹ は同一または異なっていてもよい炭素数1~4の アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、� �ロピル基、ブチル基)またはフェニル基であ� ��。
 一般式(III)において、wは30~100であり、30~60� �あると好ましい。a、bおよびcは、それぞれ� �立に1~5の整数であり、1~3であると好ましい� �
 一般式(III)において、R ² は炭素数1~4のアルキル基(例えば、メチル基� �エチル基、プロピル基、ブチル基)またはフ� ��ニル基である。

 一般式(III)において、X ¹ は加水分解性基であり、例えば、メトキシ基 、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等 のアルコキシ基;メトキシメトキシ基、メト� �シエトキシ基、エトキシエトキシ基等のア� �コキシアルコキシ基;アリロキシ基、イソプ� ��ペノキシ等のアルケニルオキシ基;アセトキ シ基、プロピオニルオキシ基、ブチルカルボ ニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシ ロキシ基;ジメチルケトオキシム基、メチル� �チルケトオキシム基、ジエチルケトオキシ� �基、シクロペンタノキシム基、シクロヘキ� �ノキシム基等のケトオキシム基;N-メチルア� �ノ基、N-エチルアミノ基、N-プロピルアミノ� ��、N-ブチルアミノ基、N,N-ジメチルアミノ基� ��N,N-ジエチルアミノ基、N-シクロヘキシルア� ��ノ基等のアミノ基;N-メチルアセトアミド基� ��N-エチルアセトアミド基、N-メチルベンズア ミド基等のアミド基;N,N-ジメチルアミノオキ� ��基、N,N-ジエチルアミノオキシ基等のアミノ オキシ基等を挙げることができる。これらの 基中で、メトキシ基、エトキシ基、イソプロ ペノキシ基が好適である。

 一般式(III)において、dは2または3で、加水� �解および縮合反応性、および被膜の密着性� �観点から考えると3であることが好ましい。y は1~5の整数であり、1~3であると好ましい。
 一般式(III)の化合物は、1種単独でも2種以上 を組合せても使用することもある。

  本発明で使用するプラスチック基材の� �質は、特に限定されず、例えば、メチルメ� �クリレート単独重合体、メチルメタクリレ� �トと1種以上の他のモノマーとの共重合体、� ��エチレングリコールビスアリルカーボネー� ��単独重合体、ジエチレングリコールビスア� ��ルカーボネートと1種以上の他のモノマーと の共重合体、イオウ含有共重合体、ハロゲン 共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン 、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポ リエチレンテレフタレート、ポリウレタン、 ポリチオウレタン、エピチオ基を有する化合 物を原料とする重合体などが挙げられる。

  エピチオ基を有する化合物の例として� �、ビス(β-エピチオプロピルチオ)メタン、1,2 -ビス(β-エピチオプロピルチオ)エタン、1,3-� �ス(β-エピチオプロピルチオ)プロパン、1,2-� �ス(β-エピチオプロピルチオ)プロパン、1-(β- エピチオプロピルチオ)-2-(β-エピチオプロピ� ��チオメチル)プロパン、1,4-ビス(β-エピチオ� ��ロピルチオ)ブタン、1,3-ビス(β-エピチオプ� ��ピルチオ)ブタン、1-(β-エピチオプロピルチ オ)-3-(β-エピチオプロピルチオメチル)ブタン 、1,5-ビス(β-エピチオプロピルチオ)ペンタン 、1-(β-エピチオプロピルチオ)-4-(β-エピチオ� ��ロピルチオメチル)ペンタン、1,6-ビス(β-エ� ��チオプロピルチオ)ヘキサン、1-(β-エピチオ プロピルチオ)-5-(β-エピチオプロピルチオメ� ��ル)ヘキサン、1-(β-エピチオプロピルチオ)-2 -〔(2-β-エピチオプロピルチオエチル)チオ〕� ��タン、1-(β-エピチオプロピルチオ)-2-[〔2-(2- β-エピチオプロピルチオエチル)チオエチル� �チオ]エタン等の鎖状有機化合物等が挙げら� ��る。また、テトラキス(β-エピチオプロピル チオメチル)メタン、1,1,1-トリス(β-エピチオ� ��ロピルチオメチル)プロパン、1,5-ビス(β-エ� ��チオプロピルチオ)-2-(β-エピチオプロピル� �オメチル)-3-チアペンタン、1,5-ビス(β-エピ� �オプロピルチオ)-2,4-ビス(β-エピチオプロピ� ��チオメチル)-3-チアペンタン、1-(β-エピチオ プロピルチオ)-2,2-ビス(β-エピチオプロピル� �オメチル)-4-チアヘキサン、1,5,6-トリス(β-エ ピチオプロピルチオ)-4-(β-エピチオプロピル� ��オメチル)-3-チアヘキサン、1,8-ビス(β-エピ� ��オプロピルチオ)-4-(β-エピチオプロピルチ� �メチル)-3,6-ジチアオクタン、1,8-ビス(β-エピ チオプロピルチオ)-4,5ビス(β-エピチオプロピ ルチオメチル)-3,6-ジチアオクタン、1,8-ビス(� �-エピチオプロピルチオ)-4,4-ビス(β-エピチオ プロピルチオメチル)-3,6-ジチアオクタン、1,8 -ビス(β-エピチオプロピルチオ)-2,4,5-トリス(� �-エピチオプロピルチオメチル)-3,6-ジチアオ� ��タン、1,8-ビス(β-エピチオプロピルチオ)-2,5 -ビス(β-エピチオプロピルチオメチル)-3,6-ジ� ��アオクタン、1,9-ビス(β-エピチオプロピル� �オ)-5-(β-エピチオプロピルチオメチル)-5-〔(2 -β-エピチオプロピルチオエチル)チオメチル� ��-3,7-ジチアノナン、1,10-ビス(β-エピチオプ� �ピルチオ)-5,6-ビス〔(2-β-エピチオプロピル� �オエチル)チオ〕-3,6,9-トリチアデカン、1,11-� ��ス(β-エピチオプロピルチオ)-4,8-ビス(β-エ� �チオプロピルチオメチル)-3,6,9-トリチアウン デカン、1,11-ビス(β-エピチオプロピルチオ)-5 ,7-ビス(β-エピチオプロピルチオメチル)-3,6,9- トリチアウンデカン、1,11-ビス(β-エピチオプ ロピルチオ)-5,7-〔(2-β-エピチオプロピルチオ エチル)チオメチル〕-3,6,9-トリチアウンデカ� ��、1,11-ビス(β-エピチオプロピルチオ)-4,7-ビ� ��(β-エピチオプロピルチオメチル)-3,6,9-トリ� ��アウンデカン等の分岐状有機化合物および� ��れらの化合物のエピスルフィド基の水素の� ��なくとも1個がメチル基で置換された化合物 等が挙げられる。さらには1,3および1,4-ビス(� �-エピチオプロピルチオ)シクロヘキサン、1,3 および1,4-ビス(β-エピチオプロピルチオメチ� ��)シクロヘキサン、ビス〔4-(β-エピチオプロ ピルチオ)シクロヘキシル〕メタン、2,2-ビス� ��4-(β-エピチオプロピルチオ)シクロヘキシル 〕プロパン、ビス〔4-(β-エピチオプロピルチ オ)シクロヘキシル〕スルフィド、2,5-ビス(β- エピチオプロピルチオメチル)-1,4-ジチアン、 2,5-ビス(β-エピチオプロピルチオエチルチオ� ��チル)-1,4-ジチアン等の環状脂肪族有機化合� ��およびこれらの化合物のエピスルフィド基� ��水素の少なくとも1個がメチル基で置換され た化合物、および1,3および1,4-ビス(β-エピチ� ��プロピルチオ)ベンゼン、1,3および1,4-ビス(� �-エピチオプロピルチオメチル)ベンゼン、ビ ス〔4-(β-エピチオプロピルチオ)フェニル〕� �タン、2,2-ビス〔4-(β-エピチオプロピルチオ) フェニル〕プロパン、ビス〔4-(β-エピチオプ ロピルチオ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4- (β-エピチオプロピルチオ)フェニル〕スルフ� ��ン、4,4’-ビス(β-エピチオプロピルチオ)ビ� ��ェニル等の芳香族有機化合物およびこれら� ��化合物のエピスルフィド基の水素の少なく� ��も1個がメチル基で置換された化合物等が挙 げられる。

 図1および図4において、レンズ回転軸4は� ��軸線を一致させて水平に配置された第1、第 2のレンズ回転軸4A、4Bで構成され、レンズ保� ��ユニット15に配設されている。レンズ保持� �ニット15は、装置の左右方向(X方向)において 対向する一対の支持部15a、15bを有し、一方の 支持部15aによって第1のレンズ回転軸4Aを回転 自在に軸支し、他方の支持部15bによって第2� �レンズ回転軸4Bを回転自在にかつ軸線方向に 移動自在に軸支している。第1、第2のレンズ� ��転軸4A、4Bの互いに対向する先端には、図2� �示すように被加工レンズ2のレンズ保持手段� ��構成するレンズホルダ16とレンズ押え17がそ れぞれ着脱自在に取付けられている。

 レンズ保持ユニット15の他方の支持部15b� �は、レンズ回転軸用駆動モータ18が固定され ており、この駆動モータ18の回転がプーリ、� ��付きベルト等の回転伝達手段19を介して第1� ��第2のレンズ回転軸4A、4Bにそれぞれ伝達さ� �るように構成されている。したがって、第1� ��第2のレンズ回転軸4A、4Bは同期して駆動さ� �る。レンズ回転軸用駆動モータ18としては、 回転速度が可変でしかも正逆回転可能なパル スモータが用いられる。また、レンズ保持ユ ニット15の他方の支持部16bの内部には、第2の レンズ軸4Bを第1のレンズ軸4Aに対して進退移� ��させる駆動モータ(図示せず)が組み込まれ� �いる。

 第1のレンズ回転軸移動機構5は、筐体3の� ��板30上に平行に設置されたX方向に長い前後� ��対のX軸リニアガイド31と、これらのX軸リニ アガイド31に沿ってX方向に移動自在なX方向� �ーブル32と、このX方向テーブル32をX軸リニ� �ガイド31に沿って移動させるX方向テーブル� �駆動モータ33等で構成されている。

 第2のレンズ回転軸移動機構6は、X方向テ� ��ブル32の上面に平行に設置されたY方向に延� ��する左右一対のY軸リニアガイド35と、これ� ��のY軸リニアガイド35に沿ってY方向に移動自 在なY方向テーブル36と、このY方向テーブル36 をY軸リニアガイド35に沿って移動させるY方� �テーブル用駆動モータ37と、Y方向テーブル36 上に設置されたレンズ保持ユニット15等で構� ��されている。このため、レンズ回転軸4の動 作は、3方向、すなわち軸線回りの回転と、� �線と直交する左右方向(X方向)および前後方� �(Y方向)の移動である。これら3方向の動作は� ��制御部により被加工レンズ2の形状加工デー タに基づいて数値制御される。

 被加工レンズ2の周面2cを研削加工する加� ��具7としては、図2に示すように円筒状に形� �されたダイヤモンドホイール等の砥石が用� �られ、回転駆動機構8の加工具回転軸40に取� �けられている。また、加工具7は、一次加工� ��(荒加工用)の研削砥石7Aと、二次加工用(仕� �げ加工用)の研削砥石7Bとで構成されている� �二次加工用研削砥石7Bの外周面には、左右対 称なV字状の環状溝からなるヤゲン用溝41が形 成されている。

 加工具7の回転駆動機構8は、筐体3の底板3 0上に設置されたフレーム44と、このフレーム 44の上端に片持ち支持された加工具回転軸40� �、この加工具回転軸40を回転させるインバー タ形式の加工具用駆動モータ45と、この加工� ��用駆動モータ45の回転を加工具回転軸44に伝 達するプーリ、歯付きベルト等の回転伝達機 構46等で構成されている。加工具回転軸40は� �レンズ回転軸4と平行でこれより前方に位置� ��ている。

 レンズ形状測定部9は、図4に示すように� �互いに対向して配設され被加工レンズ2の各� ��学面2a、2bをトレースする左右一対の測定子 50A、50Bと、これらの測定子50A、50Bを接近離間 させる駆動モータ(図示せず)と、測定子50A、5 0Bの軌跡から被加工レンズ2の各光学面2a、2b� �よび周面2c、2d、2eの両端エッジ部、すなわ� �凸面側外周縁51A、52A、53Aと凹面側外周縁51B� �52B、53Bの位置を演算処理し被加工レンズ2の� ��状情報を測定する演算処理装置(図示せず)� �を備えている。なお、図4において、2cは被� �工レンズ2を縁摺り加工する以前の周面、2d� �一次加工後の周面、2eは二次加工後の周面で ある。

 レンズ形状測定部9による被加工レンズ2� �形状測定に際しては、被加工レンズ2を回転� ��せ、左右の測定子50A、50Bを互いに接近させ� ��被加工レンズ2の各光学面2a、2bに押し付け� �この状態でレンズ保持ユニット15を前後方向 に移動させると、被加工レンズ2の形状を測� �することができる。

 面取り機構10は、被加工レンズ2の二次加� ��後の各エッジ部53A、53Bを面取り加工するも� ��で、左右一対の面取り用加工具60、60と、こ れらの面取り用加工具60を駆動する面取り用� ��動モータ61と、この駆動モータ61の回転を各 面取り用加工具60に伝達するプーリ、ベルト� ��の回転伝達機構62とで構成されている。面� �り用加工具60としては、ダイヤモンドホイー ル等の研削ツールが用いられる。

 次に、上記構造からなる眼鏡レンズの縁摺� ��加工装置1による被加工レンズ2の縁摺り加� �の手順を図7に示すフローチャートに基づい� ��説明する。
 先ず、発注側である眼鏡店が製造側である� ��ンズメーカーの工場へ製造者が必要とする� ��鏡レンズの情報をオンラインで送信する(ス テップS1)。眼鏡店は、レンズの製造、納品を 工場に依頼する際に、レンズの材質、処方値 、レンズの加工指定値、眼鏡枠情報、アイポ イント位置を指定するレイアウト情報、ヤゲ ンモード、ヤゲン位置、ヤゲン形状等のレン ズ製造に必要な各種情報を工場に送る。眼鏡 枠情報は、3次元レンズ枠形状データ、近似� �面定義データ、フレームPD(またはDBL)、あお� ��角、周長などである。

 このような眼鏡店から工場への眼鏡レン� ��の製造依頼は、特に撥水膜層が形成されて� ��るレンズの製造を依頼する場合等において� ��効である(撥水膜層が形成されていると眼鏡 店での一次加工が困難なため)。

 工場では、眼鏡店からの眼鏡レンズの製� ��に必要な各種情報を取得すると、これらの� ��報に基づいて加工形状データ、玉型形状情� ��、レイアウト情報、加工指示情報等を作成� ��縁摺り加工装置1に入力する(ステップS2)。

 次に、作業者が在庫として保管してある� ��ンカットレンズの中から注文のレンズに適� ��するレンズを被加工レンズ2として選択し、 その凸側光学面2aをレンズホルダ16によって� �持する(ステップS3)。

 レンズホルダ16は、図3に示すように金属� ��の軸部70と、この軸部70に一体成形された弾 性材料からなる保持カップ71とで構成されて� ��る。また、保持カップ71は、軸70に固定され た軸部71Aと、この軸部71Aの先端面に一体に設 けられたレンズ保持部71Bとで構成されている 。レンズ保持部71Bは、矩形板状に形成されて いて、前面がレンズ2の凸側光学面2aと略同一 の曲率半径の凹面からなるレンズ保持面72を� ��成しており、リープテープ73が貼着されて� �る。レンズホルダ16による被加工レンズ2の� �持は、リープテープ73を凸側光学面2aに押し� ��けて貼着すればよい。このとき、図5Aに示� �ようにレンズホルダ16の中心Oと被加工レン� �2の加工の際の回転中心である加工中心位置2 1とを一致させてレンズホルダ16を被加工レン ズ2に取付ける。また、レンズに乱視軸があ� �場合は、その方向も所定の角度に合わせて� �付ける。被加工レンズ2の加工中心位置21は� �眼鏡枠のフレームセンターBまたは被加工レ� ��ズ2の光学中心Cである。

 次に、作業者が被加工レンズ2の凸側光学 面2aに2つの軸ずれ測定用マーク81a、81b(図5A~� �5C)を表示する(ステップS4)。レンズホルダ16� �は、予め2つの基準位置マーク80a、80bが表示� ��れており、これらのマーク80a、80bと一致す� ��ように軸ずれ測定用マーク81a、81bを表示す� ��。レンズホルダ16の基準位置マーク80a、80b� �、中心Oを通る互いに直交する2本の直線から なり、レンズ保持部71Bの背面に表示されてい る。なお、これらの基準位置マーク80a、80bは 、被加工レンズ2を保持する前に予めレンズ� �ルダ16に表示されるが、これに限らず被加工 レンズ2を保持した後、レンズホルダ16と被加 工レンズ2に基準位置マーク80a、80bと軸ずれ� �定用マーク81a、81bとを同時に表示してもよ� �。

 被加工レンズ2の軸ずれ測定用マーク81a、 81bは、加工中心位置21を通る互いに直交する2 本の直線で構成されており、レンズホルダ16� ��よって保持された後、適宜なインクによっ� ��基準位置マーク80a、80bと連続した直線を形� ��するように表示される。また。これらのマ� ��ク81a、81bは線幅が異なり、一方のマーク81a� ��他方のマーク81bより太く表示されている。

 次に、被加工レンズ2をレンズ回転軸4に� �着する(ステップS5)。レンズ回転軸4への装着 に際しては、先ず被加工レンズ2を保持して� �るレンズホルダ16を第1のレンズ回転軸4Aに装 着する。このレンズホルダ16の装着は、軸部7 0を第1のレンズ回転軸4Aの先端面に形成され� �いる凹陥部に嵌合することにより行なうこ� �ができる。

 次に、第2のレンズ回転軸4Bを前進させて� ��の回転軸の先端に取付けられているレンズ� ��え17を被加工レンズ2の凹側光学面2bに弾性� �材85(図2)を介して押し付ける。これにより、 被加工レンズ2の凸側と凹側の光学面2a、2bの� ��工中心位置21がレンズホルダ16とレンズ押え 17とによって挟持保持され、レンズ回転軸4へ のレンズの装着が終了する。

 次に、レンズ回転軸4を低速回転させ、被 加工レンズ2の周面2cを加工具7により加工形� �データに基づいて一次加工する(ステップS6)� ��この一次加工は、一次加工用研削砥石7Aに� �って周面2cを研削し、被加工レンズ2を一次� �状にする。一次加工による被加工レンズ2の� ��次形状は、眼鏡フレームの枠形状に適合す� ��玉型形状2A(図5A~図5C)が内接する円よりも大� ��い円形または玉型形状2Aと相似形でこれよ� �二次加工の加工代分だけ大きい玉型形状で� �る。玉型形状2Aが内接する円よりも大きい円 88は、玉型形状2Aの最大半径R(図5B)に二次加工 時の加工代を加えた値と等しいか、この値よ り若干大きい半径を有する円(例えば、50φmm)� ��ある。

 被加工レンズ2の一次加工が終了すると、 作業者は被加工レンズ2をレンズ回転軸4から� ��り外して被加工レンズ2の軸ずれを測定する (ステップS7)。被加工レンズ2に撥水膜層が形� ��されている場合、一般のレンズと同程度の� ��ンズ保持力で被加工レンズ2を保持して一次 工すると、加工抵抗が大きいため軸ずれが生 じ易く、軸ずれが生じたまま二次加工すると 不良品となる。

 そこで、一次加工が終了すると、レンズ� ��ルダ16を第1のレンズ回転軸4Aから取り外し� �基準位置マーク80a、80bと軸ずれ測定用マー� �81a、81bにより軸ずれしたか否かを判定する� �

 図5Bは、一次加工により加工中心位置21がレ ンズホルダ16の中心OからX方向に-X ₁  、Y方向に-Y ₁  だけ軸ずれし、回転角が基準位置マーク80a� ��対して反時計方向に-θ ₁  だけ軸ずれした場合を示す。図5Cは加工中� �位置21がレンズホルダ16の中心Oに対して軸ず れせず、回転角のみが基準位置マーク80aに対 して反時計方向にθ ₂  だけ軸ずれした場合を示す。

 軸ずれしている場合は、加工中心位置21の� �ンズホルダ16の中心Oに対するX、Y方向のずれ 量(X ₁  、Y ₁  )と回転角(θ ₁  、θ ₂  )を測定する。軸ずれを測定した結果、例え ば加工中心位置21のX、Y方向のずれ量がそれ� �れ±0.5mm以上であるかまたは回転角が±5°以� �のいずれかであった場合は、加工中心位置21 が軸ずれしていると判定し、それ以下の場合 は軸ずれなしと判定する。なお、軸ずれ量と 回転角の許容値はレンズの種類や度数によっ て異なる。例えば、対象レンズが単焦点レン ズの乱視軸であると、前述の回転角度のずれ が±2°以下であれば眼鏡レンズの規格を満た� ��ことがあるため公差については適宜選択を� ��ることとする。

 このような軸ずれの測定は、作業者が目� ��または公知の画像処理によって行なう。画� ��処理による場合は、目視に比べてずれ量を� ��確に測定することができる利点がある。な� ��、画像処理による加工形状データの補正に� ��いてはさらに後述する。

 測定の結果、軸ずれが生じたと判定した� ��合は、レンズホルダ16によって被加工レン� �2を再保持して軸ずれを補正する(ステップS8) 。すなわち、レンズホルダ16を被加工レンズ2 から取り外し、レンズホルダ16の中心Oと被加 工レンズ21の加工中心位置21とを一致させる� �ともに、基準位置マーク80a、80bと軸ずれ測� �用マーク81a、81bとを一致させてレンズホル� �16を被加工レンズ2に再装着すると、軸ずれ� �補正される。なお、軸ずれが許容値以下で� �る場合は、レンズホルダ16を被加工レンズ2� �ら取り外す必要がない。

 次に、被加工レンズ2を上記したステップ S5と同じ手順にしたがってレンズ回転軸4に再 装着する(ステップS9)。

 レンズ回転軸4への装着が終了すると、レ ンズ回転軸4を回転させ、一次加工された被� �工レンズ2の周面2dを加工形状データに基づ� �て二次加工用研削砥石7Bで二次加工し、二次 形状にする(ステップS10)。二次加工による被� ��工レンズ2の二次形状は、眼鏡枠の玉型形状 2Aに適合する玉型形状、またはこれより僅か� ��大きい玉型形状である。眼鏡枠の玉型形状� ��り僅かに大きい玉型形状は、眼鏡店からの� ��文により眼鏡店での最終仕上げ加工を行な� ��際の加工代を残しておくためである。この� ��うな二次加工による被加工レンズの二次形� ��は、一次形状と同様に予め算出して加工形� ��データとして制御部に入力しておく。

 ここで、本実施例においては、一般のリ� ��付き眼鏡フレームに装着される眼鏡レンズ� ��製造を対象しているため、ヤゲン用溝41を� �する研削用砥石7Bを用いたが、リムを備えな い眼鏡フレーム(縁無し眼鏡フレーム)に装着� ��れる眼鏡レンズやナイロールフレームに装� ��される眼鏡レンズを製造する場合は、研削� ��石7Bを縁無し眼鏡フレーム用またはナイロ� �ルフレーム用の研削砥石に交換して被加工� �ンズ2の周面を縁摺り加工すればよい。

 次に、二次加工が終了すると、被加工レ� ��ズ2をレンズ回転軸4から外して被加工レン� �2の軸ずれを測定する(ステップS11)。この軸� �れは、前述したステップS7と同様に基準位置 マーク80a、80bが軸ずれ測定用マーク81a、81bに 対してずれているか否かによって判定する。 二次加工の場合は、一次加工後の外径が小さ い被加工レンズ2を加工するため、加工抵抗� �小さく、撥水膜層が形成されているレンズ� �あっても軸ずれするおそれがほとんどない� �、または軸ずれを所定の許容値以内に納め� �ことができるため、精度の高い加工を行な� �ことができる。また、軸ずれ測定用マーク81 a、81bが基準位置マーク80a、80bに対してずれ� �いないことを作業者が目視によって確認す� �ことで、被加工レンズ2が軸ずれしていない� ��とを保証することができる。

 二次加工が終了すると面取り加工する(ス テップS12)。面取り加工は、被加工レンズ2を� ��ンズ回転軸4とともに回転させ、周面2eのエ� ��ジ部53A、53Bに面取り用加工具60を押し当て� �ことで行うことができる。面取り時の加工� �60の制御データとして用いられる加工具60の� ��取り軌跡データは、二次加工後の被加工レ� ��ズ2の周面2eにおける各エッジ部53A、53Bの位� ��データを算出し、次いでこのエッジ部の位� ��データに基づいて算出する。

 面取り加工が終了すると、被加工レンズ2 をレンズ回転軸4から取り外し、光学性能お� �び外観検査を行う(ステップS13)。

 検査で合格品と判定された被加工レンズ1 2は、眼鏡レンズとして包装され発注元であ� �眼鏡店へ出荷される(ステップS14)。

 眼鏡店では、工場から眼鏡レンズを受け� ��ると、光学性能および外観を検査する。そ� ��て、適正であると判断した場合、眼鏡レン� ��が装用者が選定した眼鏡フレームの枠形状� ��適合する玉型形状であれば、その眼鏡フレ� ��ムにはめ込み、装用者に引き渡す。一方、� ��鏡レンズが眼鏡フレームの枠形状よりも若� ��大きい玉型形状である場合は、眼鏡店で眼� ��フレームの枠形状に適合するように最終仕� ��げ加工して眼鏡フレームにはめ込み、装用� ��に引き渡す。眼鏡店での最終仕上げ加工は� ��レンズ自体の形状が小さいため、加工抵抗� ��小さく、撥水膜層が形成されているレンズ� ��あっても軸ずれするおそれが少ない。

 このように、本実施例においては、被加� ��レンズの軸ずれを補正する工程が、一次加� ��後に被加工レンズをレンズ保持手段ととも� ��レンズ回転軸から取り外して基準位置マー� ��と軸ずれ測定用マークにより前記被加工レ� ��ズの軸ずれを測定する軸ずれ測定工程と、� ��記被加工レンズの一方の光学面を前記レン� ��保持手段によって前記軸ずれ測定用マーク� ��前記基準位置マークを一致させて再度保持� ��ることにより、前記軸ずれ測定工程によっ� ��測定された被加工レンズの軸ずれを補正す� ��軸ずれ補正工程と、前記レンズ保持手段を� ��加工レンズとともに前記レンズ回転軸に再� ��着する工程とを備えているので、二次加工� ��おいては一般のレンズと同様に軸ずれする� ��となく加工することができる。すなわち、� ��実施例では、一次加工時の被加工レンズ2の 軸ずれを許容している。また、一次加工によ って被加工レンズ2が軸ずれすると、その軸� �れ量と方向を測定し、レンズホルダ16によっ て被加工レンズ2を再度保持することにより� �ずれを補正するようにしている。このよう� �、二次加工時に被加工レンズ2の軸ずれを補� ��しておくと、二次加工時のレンズ自体の形� ��は小さくなっているため、撥水膜層が形成� ��れているレンズであっても、格別大きなレ� ��ズ保持力でレンズを保持しなくても軸ずれ� ��を許容値以内に納めることができる。した� ��って、被加工レンズ2が滑性の高いレンズや 一次加工時のレンズが外径の大きいアンカッ トレンズであっても、一次加工工程において は格別な軸ずれ防止対策を講じる必要がなく 、二次加工においては格別大きなレンズ保持 力で保持せずとも一般のレンズと同様に軸ず れすることなく高い精度で加工することがで きることが確認された。

 図8は本発明の他の実施例を示すフローチャ ートである。
 本実施例は、上記した実施例と軸ずれ補正� ��仕方が異なる。すなわち、本実施例におけ� ��軸ずれの測定と補正(ステップS27)は、画像� �理によって軸ずれを測定し、縁摺り加工装� �1の加工形状データ自体を補正するようにし� ��ものである。

 以下、その手順について説明する。
 画像処理による軸ずれを測定する場合は、� ��9に示すようにラインセンサ90をレンズホル� ��16の中心Oを通る直線上に配置しておく。ま� ��、予めレンズホルダ16と被加工レンズ2に線� ��太さがそれぞれ異なる少なくとも2つの基準 位置マーク80a、80bと軸ずれ測定用マーク81a、 81bとを互いに一致するように表示しておく。 マーク80aと80b、81aと81bの線の太さを異ならせ ておくと、レンズ2上の光学中心(C)、装用状� �での上下左右方向等のレイアウトが識別可� �となる。

 一次加工が終了すると、被加工レンズ2を レンズホルダ16とともにレンズ回転軸4から取 外し、基準位置マーク80a、80bと軸ずれ測定用 マーク81a、81bとをラインセンサ90によって撮� ��する。撮像に際しては、被加工レンズ2を矢 印方向に回転させての基準位置マーク80a、80b と軸ずれ測定用マーク81a、81bの座標値を読み 取る。ここでマークがずれている場合は、そ のずれ量を計算する。ずれていない場合は、 被加工レンズ2をレンズ回転軸4に再び装着し� ��二次加工を実施する。

 軸ずれの量の算出に当たって、基準位置� ��ずれていない場合のレンズホルダ16の中心O� ��する。言い換えれば、レンズホルダ16の2つ� ��基準位置マーク80a、80bを延長した直線の交� ��する位置とする。そして、被加工レンズ2上 の軸ずれ測定用マーク81a、81bを延長した直線 が交差する点21’の座標値を算出し、軸ずれ� ��よる被加工レンズ2上の加工中心位置を特定 する(以下、加工中心位置21’という)。

 次に、レンズ回転軸4に垂直な方向へのず れ量としてレンズホルダ16の中心Oを基準とし た加工中心位置21’までの距離と方向を算出� ��て補正値A(X、Y)とする。補正値Aによる縁摺� ��加工装置1の加工中心位置がレンズホルダ16� ��中心Oからずれた被加工レンズ2上の加工中� �21’とする。また、回転方向のずれ量として 各軸ずれ測定用マーク81a、81bと基準位置マー ク80a、80bとのなす角度を算出し、補正値Bと� �る。そして、補正値Aと補正値Bに基づいて加 工形状データの加工中心を補正して二次加工 を行なう。

 このように、画像処理によって被加工レ� ��ズ2の軸ずれを測定した後、被加工レンズ2� �加工形状データ自体の加工軸中心を補正し� �この補正された加工形状データに基づいて� �次加工すると、被加工レンズ2が実際に軸ず� ��していてもレンズホルダ16を被加工レンズ2� ��ら取り外して再保持する必要がないので、� ��記した実施例に比べて作業工数が少なく縁� ��り加工に要する時間を大幅に短縮すること� ��できる利点がある。なお、ステップS21~S26、 ステップ28~ステップ33は、図7に示したステッ プS1~S6、ステップS9~ステップ14と全く同じで� �るため、その説明を省略する。

 このように、本実施例によれば、被加工� ��ンズの軸ずれを補正する工程が、一次加工� ��に被加工レンズをレンズ保持手段とともに� ��ンズ回転軸から取り外して基準位置マーク� ��軸ずれ測定用マークから前記被加工レンズ� ��軸ずれを測定し、加工形状データを補正す� ��加工形状データ補正工程とを備え、二次加� ��工程が前記加工形状データ補正工程によっ� ��補正された加工形状データに基づいて被加� ��レンズを加工するので、すなわち、測定さ� ��た軸ずれ量とその方向に対応させて加工形� ��データ自体を補正するので、被加工レンズ� ��レンズ保持手段に対して軸ずれしていても� ��レンズ保持手段をレンズから外してレンズ� ��再保持する必要がなく、軸ずれしたままの� ��態で二次加工することができる。したがっ� ��、軸ずれを補正するためのレンズ保持手段� ��よる再保持工程を必要とせず、レンズの縁� ��り加工に要する時間を短縮することができ� ��。

 また、本実施例によれば、一次加工工程� ��よって加工された被加工レンズの一次形状� ��、眼鏡フレームの枠形状に適合する玉型形� ��が内接する円よりも大きい円形と、前記玉� ��形状と相似形でこれより大きい玉型形状の� ��ちのいずれか一方であり、二次加工工程に� ��って加工された被加工レンズの二次形状が� ��眼鏡フレームの枠形状に適合する玉型形状� ��、これより僅かに大きい玉型形状のうちの� ��ずれか一方である。

 また、本実施例によれば、軸ずれ測定工� ��を画像処理および目視のうちのいずれか一� ��によって行なうことができる。

 さらに、本実施例によれば、基準位置マ� ��クを、被加工レンズを保持する以前と、未� ��工レンズに軸ずれ測定用マークを表示する� ��きと同時のうちのいずれか一方によって表� ��することができる。

 なお、上記した実施例においては、二次� ��工によって装用者が選定した眼鏡フレーム� ��枠形状に適合した玉型形状または枠形状よ� ��も若干大きい玉型形状に二次加工して眼鏡� ��に納品する場合について説明したが、眼鏡� ��の依頼によっては一次加工のみを行った一� ��形状の被加工レンズを納品する場合も考え� ��れる。その場合、軸ずれが生じているレン� ��については、加工中心位置21’に加えて、� �ずれ量とその方向を眼鏡店に知らせる。眼� �店では、一次加工された被加工レンズを受� �取ると、加工中心位置21を保持して眼鏡フレ ームの枠形状に適合した形状に仕上げ加工し 、その眼鏡フレームにはめ込むことにより眼 鏡が完成する。