JI LIANGLIANG (CN)
LIU LINYUE (CN)
YAO YIMING (CN)
CN209168761U | 2019-07-26 | |||
CN102903423A | 2013-01-30 | |||
CN108319400A | 2018-07-24 | |||
CN101882040A | 2010-11-10 | |||
JP2014199565A | 2014-10-23 | |||
CN207852328U | 2018-09-11 |
权利要求书 [权利要求 1] 一种导电膜的制作方法, 其特征在于, 该方法包括: 在基材上形成结构层, 所述结构层内形成深度相同的多个凹槽; 在所述多个凹槽内形成具有第一图形的第一导电层; 在所述多个凹槽内形成绝缘层, 所述绝缘层覆盖所述第一导电层; 以 及 在所述多个凹槽内于所述绝缘层上方形成具有第二图形的第二导电层 [权利要求 2] 如权利要求 1所述的导电膜的制作方法, 其特征在于, 该方法还包括 : 在所述多个凹槽内形成保护层, 所述保护层覆盖所述第二导电层。 [权利要求 3] 如权利要求 1所述的导电膜的制作方法, 其特征在于, 所述第一图形 与所述第二图形不相同。 [权利要求 4] 如权利要求 3所述的导电膜的制作方法, 其特征在于, 所述第二导电 层与所述第一导电层部分重叠, 且二者重叠部分之间具有所述绝缘层 [权利要求 5] 如权利要求 1所述的导电膜的制作方法, 其特征在于, 形成所述结构 层的步骤包括: 在所述基材上涂覆一层 UV光固化胶, 利用一模具, 在所述 UV光固化胶上进行一次压印, 然后进行固化; 固化后, 所述 UV光固化胶形成所述结构层, 且所述结构层内形成有所述多个凹槽 [权利要求 6] 如权利要求 1所述的导电膜的制作方法, 其特征在于, 形成所述第一 导电层的步骤包括: 将导电材料按照所述第一导电层的厚度通过刮涂 的方式填充在所述多个凹槽中, 并进行固化形成第一导电线路; 然后 按照所述第一图形蚀刻掉部分所述第一导电线路, 以形成所述第一导 电层。 [权利要求 7] 如权利要求 1所述的导电膜的制作方法, 其特征在于, 形成所述绝缘 层的步骤包括: 按照所述绝缘层的厚度采用刮涂方式将绝缘材料填充 在所述多个凹槽中, 并进行固化形成所述绝缘层, 其中, 所述绝缘层 的上表面平整, 且所述绝缘层覆盖所述第一导电层以及未被所述第一 导电层覆盖的部分凹槽的底部。 [权利要求 8] 如权利要求 1所述的导电膜的制作方法, 其特征在于, 形成所述第二 导电层的步骤包括: 在所述绝缘层上按照所述第二导电层的厚度通过 刮涂的方式将导电材料填充在所述多个凹槽中, 并进行固化形成第二 导电线路; 然后按照所述第二图形蚀刻掉部分所述第二导电线路, 以 形成所述第二导电层。 [权利要求 9] 一种导电膜, 其特征在于, 包括基材、 结构层、 第一导电层、 绝缘层 和第二导电层, 所述结构层设置在所述基材上, 所述结构层内设有深 度相同的多个凹槽, 所述第一导电层、 所述绝缘层和所述第二导电层 均设置在所述多个凹槽内, 所述绝缘层覆盖所述第一导电层, 所述第 二导电层设置在所述绝缘层上方。 [权利要求 10] 如权利要求 9所述的导电膜, 其特征在于, 该导电膜还包括保护层, 所述保护层设置在所述多个凹槽内且覆盖所述第二导电层。 [权利要求 11] 如权利要求 9所述的导电膜, 其特征在于, 所述第一导电层的图形与 所述第二导电层的图形不相同。 [权利要求 12] 如权利要求 11所述的导电膜, 其特征在于, 所述第二导电层与所述第 一导电层部分重叠, 且二者重叠部分之间具有所述绝缘层。 [权利要求 13] 如权利要求 9所述的导电膜, 其特征在于, 所述多个凹槽的深度为 8-3 Oum, 宽度为 l-20um [权利要求 14] 如权利要求 13所述的导电膜, 其特征在于, 所述第一导电层和所述第 二导电层的厚度均为 l-10um, 二者宽度均与所述多个凹槽的宽度相 等。 [权利要求 15] 如权利要求 14所述的导电膜, 其特征在于, 所述绝缘层的厚度为 2-15 um, 宽度与所述多个凹槽的宽度相等。 |
技术领域
[0001] 本发明涉及导电薄膜技术领域, 特别是涉及一种导电膜的制作方法及导电膜。
背景技术
[0002] 5见有技术中的双层导电膜通常采用两次压印 术形成凹槽结构, 再将导电材料 填充在两层不同的凹槽结构中, 从而形成双层导电结构。 但是, 采用两次压印 技术形成双层导电结构时, 往往存在两层导电层对位偏差的问题, 从而会影响 导电膜的使用效果。 另外, 采用两次压印技术, 通常需要用不同的模具进行压 印, 如此将增加了模具的成本。
[0003] 前面的叙述在于提供一般的背景信息, 并不一定构成现有技术。
发明概述
技术问题
问题的解决方案
技术解决方案
[0004] 本发明的目的在于提供一种多个导电层对位精 度高的导电膜的制作方法及导电 膜。
[0005] 本发明提供一种导电膜的制作方法, 该方法包括:
[0006] 在基材上形成结构层, 所述结构层内形成深度相同的多个凹槽;
[0007] 在所述多个凹槽内形成具有第一图形的第一导 电层;
[0008] 在所述多个凹槽内形成绝缘层, 所述绝缘层覆盖所述第一导电层; 以及
[0009] 在所述多个凹槽内于所述绝缘层上方形成具有 第二图形的第二导电层。
[0010] 在其中一实施例中, 该方法还包括: 在所述多个凹槽内形成保护层, 所述保护 层覆盖所述第二导电层。
[0011] 在其中一实施例中, 所述第一图形与所述第二图形不相同。
[0012] 在其中一实施例中, 所述第二导电层与所述第一导电层部分重叠, 且二者重叠 部分之间具有所述绝缘层。 [0013] 在其中一实施例中, 形成所述结构层的步骤包括: 在所述基材上涂覆一层 UV 光固化胶, 利用一模具, 在所述 UV光固化胶上进行一次压印, 然后进行固化; 固化后, 所述 UV光固化胶形成所述结构层, 且所述结构层内形成有所述多个凹 槽。
[0014] 在其中一实施例中, 形成所述第一导电层的步骤包括: 将导电材料按照所述第 一导电层的厚度通过刮涂的方式填充在所述多 个凹槽中, 并进行固化形成第一 导电线路; 然后按照所述第一图形蚀刻掉部分所述第一导 电线路, 以形成所述 第一导电层。
[0015] 在其中一实施例中, 形成所述绝缘层的步骤包括: 按照所述绝缘层的厚度采用 刮涂方式将绝缘材料填充在所述多个凹槽中, 并进行固化形成所述绝缘层, 其 中, 所述绝缘层的上表面平整, 且所述绝缘层覆盖所述第一导电层以及未被所 述第一导电层覆盖的部分凹槽的底部。
[0016] 在其中一实施例中, 形成所述第二导电层的步骤包括: 在所述绝缘层上按照所 述第二导电层的厚度通过刮涂的方式将导电材 料填充在所述多个凹槽中, 并进 行固化形成第二导电线路; 然后按照所述第二图形蚀刻掉部分所述第二导 电线 路, 以形成所述第二导电层。
[0017] 本发明还提供一种导电膜, 包括基材、 结构层、 第一导电层、 绝缘层和第二导 电层, 所述结构层设置在所述基材上, 所述结构层内设有深度相同的多个凹槽 , 所述第一导电层、 所述绝缘层和所述第二导电层均设置在所述多 个凹槽内, 所述绝缘层覆盖所述第一导电层, 所述第二导电层设置在所述绝缘层上方。
[0018] 在其中一实施例中, 该导电膜还包括保护层, 所述保护层设置在所述多个凹槽 内且覆盖所述第二导电层。
[0019] 在其中一实施例中, 所述第一导电层的图形与所述第二导电层的图 形不相同。
[0020] 在其中一实施例中, 所述第二导电层与所述第一导电层部分重叠, 且二者重叠 部分之间具有所述绝缘层。
[0021] 在其中一实施例中, 所述多个凹槽的深度为 8-30um, 宽度为 l-20um。
[0022] 在其中一实施例中, 所述第一导电层和所述第二导电层的厚度均为 l-10um, 二 者宽度均与所述多个凹槽的宽度相等。 [0023] 在其中一实施例中, 所述绝缘层的厚度为 2-15um, 宽度与所述多个凹槽的宽度 相等。
发明的有益效果
有益效果
[0024] 本发明提供的导电膜的制作方法, 通过将多个图形不相同的导电层均在所述多 个凹槽中制作, 使各导电层对位精度高, 从而保证导电膜的使用效果。
对附图的简要说明
附图说明
[0025] 图 1为本发明实施例导电膜的制作方法的流程图
[0026] 图 2为本发明实施例导电膜的制作方法的步骤示 图;
[0027] 图 3为本发明实施例导电膜的结构示意图。
发明实施例
本发明的实施方式
[0028] 下面结合附图和实施例, 对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。 以下实 施例用于说明本发明, 但不用来限制本发明的范围。
[0029] 请参图 1和图 2a至图 2g, 本发明实施例中提供的导电膜的制作方法, 该导电膜 包括基材 1、 结构层 2、 第一导电层 3 、 绝缘层 4和第二导电层 5 , 该方法包括: [0030] S1: 在基材 1上形成结构层 2, 结构层 2内形成深度相同的多个凹槽 21。
[0031] 具体地, 请参图 2a, 在基材 1上涂覆一层 UV光固化胶, 利用一具有各导电层图 形的模具, 在 UV光固化胶上进行一次压印, 形成深度相同的多个凹槽 21, 然后 进行固化; 固化后, 该 UV光固化胶即形成结构层 2。 所述多个凹槽 21形成的图形 为网状, 包括各导电层的图形; 此网状凹槽 21的深度根据所需导电层的层数决 定。
[0032] S2: 在所述多个凹槽 21内形成具有第一图形的第一导电层 3。
[0033] 具体地, 请参图 2b, 在上述网状凹槽 21内通过刮涂方式填充导电材料, 填充的 导电材料与网状凹槽 21不齐平, 固化后, 形成第一导电线路 30。 第一导电线路 3 0的厚度与第一导电层 3的厚度相等, 宽度与网状凹槽 21宽度相等。 [0034] 请参图 2c, 按照第一图形对上述第一导电线路 30采用激光或化学方式中的任意 一种进行蚀刻, 形成宽度与网状凹槽 21宽度相等的第一导电层 3。
[0035] 在本实施例中, 第一图形与网状凹槽 21的部分图形相同。 因此, 第一导电层 3 未完全覆盖网状凹槽 21的底部。
[0036] 在其它实施例中, 导电材料填满至与网状凹槽 21齐平, 固化后, 按照第一图形 及第一导电层 3厚度进行蚀刻, 形成第一导电层 3。
[0037] S3: 在所述多个凹槽 21内形成绝缘层 4, 绝缘层 4覆盖第一导电层 3。
[0038] 具体地, 请参图 2d, 在具有第一导电层 3的网状凹槽 21内按照绝缘层 4厚度通过 刮涂方式填充绝缘材料, 该绝缘材料覆盖第一导电层 3和未被第一导电层 3覆盖 而裸露的部分网状凹槽 21的底部; 固化后形成绝缘层 4。
[0039] 在其它实施例中, 绝缘材料填满至与网状凹槽 21齐平, 固化后, 按照第二图形 及绝缘层 4厚度进行蚀刻, 形成绝缘层 4。
[0040] 在本实施例中, 所有凹槽 21内均设有绝缘层 4, 且绝缘层 4的上表面平整, 其厚 度小于具有第一导电层 3的网状凹槽 21剩余深度, 宽度与网状凹槽 21宽度相同。
[0041] 在其它实施例中, 只在部分凹槽 21内设有绝缘层 4。 即, 绝缘层 4只需在保证第 一导电层 3与下一导电层 5不接触以及保证下一导电层 5的下表面平整下才设置。 其中, 下一导电层 5设置在此绝缘层 4上。
[0042] S4: 在所述多个凹槽 21内于绝缘层 4上方形成具有第二图形的第二导电层 5。
[0043] 在本实施例中, 第二图形与第一图形的图形不相同, 但第二图形与第一图形具 有部分图形相同。 即, 第二导电层 5与第一导电层 3部分重叠, 且二者重叠部分 之间具有绝缘层 4。
[0044] 具体地, 请参图 2e, 在绝缘层 4上通过刮涂的方式将导电材料填充在网状凹 2 1中, 填充的导电材料与网状凹槽 21不齐平, 固化后, 形成第二导电线路 50。 第 二导电线路 50的厚度与第二导电层 5的厚度相等, 宽度与网状凹槽 21宽度相等。
[0045] 请参图 2f, 按照第二图形对上述第二导电线路 50采用激光或化学方式中的任意 一种进行蚀刻, 形成宽度与网状凹槽 21宽度相等的第二导电层 5。
[0046] 在其它实施例中, 导电材料填满至与网状凹槽 21齐平, 固化后, 按照第二图形 及第二导电层 5厚度进行蚀刻, 形成第二导电层 5。 [0047] 在其它实施例中, 第二图形与第一图形的图形完全不相同, 或者第二图形的部 分图形与第一图形完全相同。
[0048] S5: 在所述多个凹槽 21内形成保护层 6, 保护层 6覆盖第二导电层 5。
[0049] 具体地, 请参图 2g, 当该导电膜具有两层导电层时, 在具有第一导电层 3、 绝 缘层 4和第二导电层 5的网状凹槽 21内通过刮涂方式填充保护材料, 该保护材料 平整地填满整个上述具有第一导电层 3、 绝缘层 4和第二导电层 5的网状凹槽 21且 与之齐平。 即, 该保护材料覆盖第二导电层 5和被蚀刻掉第二导电线路 50后裸露 的部分绝缘层 4表面, 形成保护层 6。 当该导电膜具有两层以上导电层时, 可在 最外层导电层上填充保护材料, 以形成表面平整的保护层 6。
[0050] 请参考图 3 , 本发明还公开一种导电膜, 包括基材 1、 结构层 2、 第一导电层 3 、 绝缘层 4和第二导电层 5。 结构层 2设置在基材 1上, 结构层 2内设有深度相同的多 个凹槽 21, 第一导电层 3 、 绝缘层 4和第二导电层 5均设置在所述多个凹槽 21内。 绝缘层 4覆盖第一导电层 3 , 第二导电层 5设置在绝缘层 4上方。 其中, 第二导电 层 5 的图形与第一导电层 3 的图形不相同, 第二导电层 5与第一导电层 3部分重叠 , 且二者重叠部分之间具有绝缘层 4。
[0051] 基材 1为柔性透明材质; 结构层 2为 UV光固化胶, 结构层 2厚度略大于所述多个 凹槽 21深度。 所述多个凹槽 21呈网状, 网状凹槽 21深度为 8-30um, 宽度为 l-20u m。
[0052] 在本实施例中, 导电膜设置两层导电层 3、 5 , 第一导电层 3的图形与第二导电 层 5的图形部分相同, 且第一导电层 3与第二导电层 5之间通过绝缘层 4间隔开。 其中, 第一导电层 3未完全覆盖网状凹槽 21底部, 绝缘层 4覆盖第一导电层 3和未 被第一导电层 3覆盖的网状凹槽 21底部; 且第二导电层 5设置在绝缘层 4上且未完 全覆盖绝缘层 4上表面。
[0053] 第一导电层 3和第二导电层 5均为银或铜。 具体地, 第一导电层 3和第二导电层 5 为银; 第一导电层 3和第二导电层 5的厚度均为 l-10um, 二者的宽度均与网状凹 槽 21的宽度相等。
[0054] 绝缘层 4为 UV光固化胶, 其上表面平整, 厚度为 2-15um, 宽度与网状凹槽 21的 宽度相等。 [0055] 在其它实施例中, 绝缘层 4为其它高分子树脂或绝缘油墨。
[0056] 进一步地, 导电膜还包括保护层 6 , 保护层 6设置在所述多个凹槽 21内且覆盖第 二导电层 5。 具体地, 保护层 6覆盖第二导电层 5和未被第二导电层 5覆盖的绝缘 层 4。 保护层 6为油墨或浆料或树脂中的任意一种; 保护层 6的厚度为 2-lOum, 宽 度与网状凹槽 21的宽度相等。
[0057] 在本实施例方法中, 通过将多个图形不相同的导电层均在所述多个 凹槽中制作 , 使各导电层对位精度高, 从而保证导电膜的使用效果。 另外, 通过一次压印 形成所述多个凹槽, 无需使用不同的模具进行压印, 降低了模具的开发成本。
[0058] 在附图中, 为了清晰起见, 会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。 应当理解的是 , 当元件例如层、 区域或基板被称作“形成在”、 “设置在”或“位于”另一元件上时 , 该元件可以直接设置在所述另一元件上, 或者也可以存在中间元件。 相反, 当元件被称作“直接形成在”或“直接设置在 ”另一元件上时, 不存在中间元件。
[0059] 在本文中, 术语“上”、 “下”、 “前”、 “后”、 “左”、 “右”、 “顶”、 “底”、 “内”、 “ 夕卜”、 “竖直”、 “水平”等指示的方位或位置关系为基于附图 所示的方位或位置关 系, 仅是为了表达技术方案的清楚及描述方便, 因此不能理解为对本发明的限 制。
[0060] 在本文中, 用于描述元件的序列形容词“第一”、 “第二”等仅仅是为了区别属性 类似的元件, 并不意味着这样描述的元件必须依照给定的顺 序, 或者时间、 空 间、 等级或其它的限制。
[0061] 在本文中, 除非另有说明, “多个”、 “若干”的含义是两个或两个以上。
[0062] 在本文中, 术语“包括”、 “包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他 性的包含 , 除了包含所列的那些要素, 而且还可包含没有明确列出的其他要素。
[0063] 以上所述, 仅为本发明的具体实施方式, 但本发明的保护范围并不局限于此, 任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露 的技术范围内, 可轻易想到变化 或替换, 都应涵盖在本发明的保护范围之内。 因此, 本发明的保护范围应以所 述权利要求的保护范围为准。
Next Patent: FOLDING ARM TYPE DUAL-ARM BRIDGE INSPECTION VEHICLE