本発明のカラーフィルタの製造方法は、感� ��性樹脂組成物を基板上に塗布する工程と、� ��ィルタセグメント又はブラックマトリック� ��となる部分に、画素形成のための複数の小� ��フォトマスクを介し、レーザを積算露光量� ��1~150mJ/cm ²  となるように照射して硬化させる工程と、現 像して前記感光性樹脂層の未露光部分を除去 する工程と、前記現像後の感光性樹脂層を熱 硬化させる工程を、色毎に繰り返し、ブラッ クマトリックス及びフィルタセグメントを形 成することを特徴とする。

 本発明の技術は、ノボラック樹脂をベー� ��とするポジ型感光性樹脂をレジストパター� ��として用いることで、TFTなどアクティブマ� ��リクス素子のパターンを形成できる。或い� ��TFT素子の形成された基板上にカラーフィル� ��を形成するCOAと呼ばれる技術に適用できる� ��ショット数を変えた露光量や、或いはレー� ��照射角度を調整することにより、液晶分子� ��向の調整可能な配向膜パターン、また、リ� ��デーションの異なる位相差パターンを形成� ��きる。

 本発明のカラーフィルタの製造方法で作� ��されるカラーフィルタは、透明基板上にフ� ��ルタセグメント及びブラックマトリックス� ��具備するものであり、フィルタセグメント� ��、赤、緑、青、黄、オレンジ及びシアンか� ��なる群から選ばれる少なくとも2色を備える ことができる。これを液晶用とする場合は、 さらに透明導電層、配向膜層を順次積層せし めたものであり、例えば薄膜トランジスタ(TF T)のような電極を形成した対向基板と対置さ� ��液晶層を介して、液晶表示装置を構成する� ��以下では、透明基板、ブラックマトリック� ��と赤、緑、青の着色画素層を合わせてカラ� ��フィルタとする。必要に応じて前記カラー� ��ィルタ上に平坦化層、保護層や透明導電層� ��設けることができる。

 カラーフィルタの基板には、硝子基板、� ��英基板、プラスチック基板等、公知の透明� ��板材料を使用できる。中でも硝子基板は、� ��明性、強度、耐熱性、耐候性において優れ� ��いる。前記したように予めTFTなど液晶を駆� ��するアクティブ素子の形成された基板を用� ��、その基板上にカラーフィルタを形成して� ��良い。

 [感光性樹脂組成物の塗布工程]
 感光性樹脂組成物の塗布工程では、スリッ� ��ダイコーター、スピンコーター等、公知の� ��工装置を用いて均一に塗工する。その後、� ��剤成分を除去するため必要に応じて、減圧� ��燥処理やプリベーク処理を施すことができ� ��。カラーフィルタに用いられる感光性樹脂� ��成物には、通常はアクリル樹脂をベースと� ��、色材として有機顔料を分散したネガ型の� ��光性樹脂を用いる。TFTなど液晶駆動を前提� ��したアクティブ素子のパターン形成には、� ��ボラック樹脂をベースとしたポジ型の感光� ��樹脂を用いる。

 [露光工程]
 露光工程では、前記感光性樹脂層のフィル� ��セグメント又はブラックマトリックスとな� ��部分にレーザを照射して硬化、若しくは感� ��させる。具体的には、大サイズの基板上に� ��成された感光性樹脂層に、基板と比較して� ��さいフォトマスクを介して、それぞれレー� ��を照射し硬化、若しくは感光させる。

 図1に示すように、感光性樹脂層の塗布さ れた矩形である大型基板20の幅方向に沿って� ��数の小型のフォトマスク10を配設する。さ� �に、各々のフォトマスク10に対応させてレー ザ光源(図示せず)を設ける。フォトマスク10� �複数配設することで、レーザ露光によるス� �ープット低下を防ぐことができる。小型フ� �トマスク10を配設する方向は、矩形基板20の� ��手方向の方がマスクの個数を少なくできる� ��故に、矩形基板20は、露光時、長手方向に� �板送りを行う。大画面での繋ぎムラを緩和� �るため、小型フォトマスク10を、大型基板の 幅方向に1列でなく複数例並べても良い。具� �的には、小型フォトマスク10は、基板20の短� ��方向に沿って複数個配置され、且つ1つの列 に対して短手方向にマスク1個分ずらしても� �1列配置されている。

 また、大画面での繋ぎムラを緩和するた� ��、小型フォトマスク10内に形成される同一� �ターンの寸法や配列を数ミクロン或いはサ� �ミクロンオーダーでランダマイズさせるこ� �は好ましい。同様、露光時に小型フォトマ� �ク位置をランダマイズに微調整しても良い� �なお、図中の破線で囲った領域21は、4つの� �晶パネルに相当する露光領域であり、この� �では矩形基板20から4つの液晶パネルを形成� �るものとしている。

 一般的なフォトマスクは、露光のための� ��口部である有効パターンの周辺に額縁状の� ��有効部がある。本発明に用いる小型フォト� ��スク10は上記したように被露光対象の矩形� �板の短手方向に複数個配設するが、非有効� �による未露光パターンをなくすため、図1に� ��すように千鳥配列にて2列、或いは3列以上� �べることが好ましい。小型フォトマスク自� �を移動させるステッパー露光を行うより、� �いスループットを確保できる。

 4つの配向領域を持つ配向膜パターン形成 の場合には、2列の小型マスクの並びを2組配� ��することで対応できる。配向膜パターン形� ��の場合には、レーザ光源と共に、小型フォ� ��マスク或いはその開口部を矩形基板の送り� ��向に対して、例えば45度傾けて使用しても� �い。矩形基板上の感光性樹脂層の面へのレ� �ザの入射角度は、例えば20度~70度傾斜を持た せても良い。

 フォトマスクの構造を、図2(a)の断面図及 び図2(b)の平面図を参照して更に詳しく説明� �る。フォトマスク10は、透明基板11の下面上� ��遮光膜12を形成し、遮光膜12に開口パターン を設けることにより形成されている。透明基 板11の上面側から、プラインドシャッター15� �介してレーザを照射することにより、開口� �ターンを透過した光が転写される。なお、� �中の13a,13bは品種の異なるパターン、14はマ� �ク上のレーザ照射領域を示している。

 本発明の小型フォトマスク10は、矩形基� �の送り方向に異なる品種のパターンを配設� �ることが好ましい。例えば、図2(a)(b)に示す� ��うに、カラーフィルタ品種の異なるCF-aパタ ーン13aとCF-bパターン13bの2種を配設してもよ� ��。さらに、必ずしも2種に限らず、3種以上� �配設することもできる。フィルタセグメン� �の幅や大きさの異なるこれらCF-aパターン13a� ��CF-bパターン13bは、他方をブラインドシャッ ター15にて覆い露光させないことで、片方の� ��種のみの生産を行うことができる。即ち、� ��種毎に選択露光することができる。当技術� ��品種の切り替え作業を極めて少ないものと� ��、併せて品種毎の新たなフォトマスクを作� ��する必要が無くなる効果がある。

 配向膜パターン形成の場合には、矩形基� ��の鉛直方向或いは矩形基板の幅方向にレー� ��の照射角度を変え露光することで所望の配� ��処理が実施できる。配向膜パターン形成に� ��たっては、液晶を封入した液晶セルを矩形� ��板として処理しても良く、さらには電界や� ��界環境下でレーザ照射を行っても良い。

 レーザは、半導体レーザ、YAG(固体)レー� �、気体レーザ(アルゴンレーザ、ヘリウムネ� ��ンレーザ、炭酸ガスレーザ、エキシマレー� ��)などの公知のレーザを用いることができる 。YAGレーザは、343nm或いは355nmの発振波長の� �のを好ましく使用できる。配向膜パターン� �位相差パターンの形成に際しては、不足す� �光の波長域を補う観点でLED光源やショート� �ーク型ランプを併用しても良い。レーザ光� �、無偏光でも良く、或いは偏光子を介して� �光させたものであっても良い。

 中でも、アルゴン、クリプトン、キセノ� ��などの希ガスと、フッ素、塩素などのハロ� ��ンガスとの混合ガスを用いてレーザ光を発� ��させるエキシマレーザが好ましく使用でき� ��。エキシマレーザは、その混合ガスの種類� ��組合せによって、発振波長が異なり、193nm(A rF)、248nm(KrF)、308nm(XeCL)、351nm(XeF)などがある� �また、エキシマレーザは、パルス幅は数十ns で、ビームの断面は放電領域の形状を反映し 、長方形のビームを高出力で発振する。ビー ムが太く、パルスエネルギーも大きく数千mJ� ��で出せる装置もある。エキシマレーザは、� ��ームを一点に集中させる加工よりも、比較� ��大きな面積を高い照射強度で一括処理加工� ��るような分野に適している。

 レーザビームをスリット状に拡げる光学� ��は、エクスパンダーと呼ばれる光学レンズ� ��が良く、ポリゴンミラーのような回転体を� ��いる方式は、露光時に感光性樹脂層面で光� ��干渉を報じるため好ましくない。マイクロ� ��ンズ集合体であるフライアイレンズの併用� ��好ましい。

 着色塗膜は、膜を分解しない程度の適度な� ��ネルギーを与えて硬化、或いは感光させる� ��とが必須である。レーザ光の照射強度が低� ��ぎると十分な光硬化或いは感光させるまで� ��時間がかかり生産性(タクト)を低下させる� �題がある。逆に、レーザ光の照射強度が高� �ぎると、アブレーション(abrasion)とよぶ樹脂� ��解やレジスト成分の放散による膜減りが生� ��てしまう。本発明で用いられるレーザの1パ ルス当たりのエネルギー密度は0.1mJ/cm ²  以上1000mJ/cm ²  以下であることが好ましい。

 レジスト塗膜を十分に硬化させるには、0.3m J/cm ²  以上がより好ましく、1mJ/cm2 以上が最も好ま しい。さらに、アブレーションにより感光性 樹脂層である着色塗膜の膜減りをさせないよ うにするには、150mJ/cm ²  以下がより好ましく、50mJ/cm ²  以下がさらに好ましい。レーザ光の照射強度 、スループットおよび感光性樹脂層の感度の 関係から1mJ/cm ²  ~50mJ/cm ²  の範囲が特に好ましい。

 また、パルス幅は0.1nsec以上3000nsec以下で� ��ることが好ましい。アブレーション現象に� ��り着色塗膜を分解させないようにするには� ��0.5nsec以上がより好ましく、1nsec以上が最も� ��ましい。レーザスキャン露光の際に、パタ� ��ンの太りを防ぎ、パターンの合わせ精度を� ��上させるには、1000nsec以下がより好ましく� �50nsec以下が最も好ましい。基板の送り速度� �、レーザ光の照射強度との関係でパルス幅� �、1nsecから50nsecの範囲が特に好ましい。

 本発明の技術において、マスク開口幅や� ��ーザ発振周波数、必要な露光量を得るため� ��照射回数(ショット数)、照射密度は、高い� �産性を確保するために重要な要素である。

 被露光対象の矩形基板の方向の、小型フ� ��トマスクの開口幅を「マスク開口幅」とし� ��同一のフィルタセグメントへのレーザ露光� ��繰り返し照射を「ショット数」とすれば、� ��産性の指標となる露光速度(矩形基板の送り 速度の関係)は下式となる。

   露光速度 = (マスク開口幅×発振周波数) /ショット数
 また、上記ひとまとまりの「ショット数」� ��打てるフィルタセグメントの数、「ショッ� ��画素数」は、下式で表される整数となる。� ��ち、本発明ではひとまとまりの「ショット� ��」で打てるフィルタセグメントは、矩形基� ��の移動方向に対して、おおよそ2画素から20� ��素の整数となる。

   ショット画素数 ≦ マスク開口幅/(ショ ット数×画素ピッチ)
 さらに、レーザの発振周波数は1Hz以上5000Hz� ��下であることが好ましい。露光処理時間を� ��くするには、10Hz以上がより好ましく、着色 感光性樹脂組成物の露光において30Hz以上が� �も好ましい。スキャン露光の際に、合わせ� �度を向上させるには、500Hz以下がより好まし い。高い精度を確保しながら、基板の送りと の同期を行い易くするために、30Hz~500Hzの範� �が特に好ましい。

 本発明では、レーザを複数回に分けて、感� ��性樹脂組成物からなる感光性樹脂層に照射� ��ることができる。アブレーション現象を抑� ��するためには、レーザのパルスエネルギー� ��低く抑え、複数回繰り返すことが有効な手� ��である。積算露光量は、1~150mJ/cm ² であることが好ましく、1~50mJ/cm ² であることが最も好ましい。積算露光量が150 mJ/cm ² を超えると、アブレーション現象により感光 性樹脂層である着色塗膜の分解が進行し、最 終的に十分な膜厚のフィルタセグメント又は ブラックマトリックスが得られない。一方、 感光性樹脂組成物の着色組成物とのマッチン グが良ければ、最低積算露光量が1mJ/cm ²  カラーフィルタとしてフィルタセグメントが 形成できる。

 液晶セルギャップ規制のために高さの異な� ��スペーサを形成する目的では、レーザ光源� ��らのショット数を変えて露光することが簡� ��で自由度の高い手段となる。これら高さや� ��きさの異なる構造物のショット数(露光量)� �、例えば10mJ/cm ² ~40mJ/cm ² の範囲でショット数(露光量)と構造物の高さ� ��緩やかな直線性を持たせて形成できる。換� ��すれば、ショット数に対応して高さの異な� ��構造物を形成できる。

 [現像工程]
 着色塗膜のようなネガ型の感光性樹脂層の� ��合、現像工程では、従来公知の現像方法に� ��り、感光性樹脂層の未露光部分を除去して� ��ィルタセグメント、又はブラックマトリッ� ��スを形成する。未露光部分の除去に際して� ��、アルカリ現像液として炭酸ナトリウム、� ��酸化ナトリウム等の水溶液が使用され、ジ� ��チルベンジルアミン、トリエタノールアミ� ��等の有機アルカリを用いることもできる。� ��た、現像液には、消泡剤や界面活性剤を添� ��することもできる。現像処理方法としては� ��シャワー現像法、スプレー現像法、ディッ� ��(浸漬)現像法、パドル(液盛り)現像法等を適 用することができる。ノボラック樹脂のよう なポジ型感光性樹脂の場合、感光した感光性 樹脂層をアルカリ現像液で除去してポジ型の パターンを形成してパターン付き基板とする 。

 [焼成工程]
 本発明においては、フィルタセグメント及� ��ブラックマトリックスを形成した後、熱処� ��を施して硬化させる硬膜工程を設ける。熱� ��理方法としてはコンベクションオーブン、� ��ットプレート、ハロゲンヒータ、IRオーブ� �による加熱等が利用でき、特に限定される� �のではない。ここで、焼成条件は、200~250℃� ��10分~60分間加熱することが好ましい。

 [感光性樹脂組成物]
 次に、本発明に使用できる感光性樹脂組成� ��につて説明する。本発明で用いることの可� ��な感光性樹脂組成物は、液晶パネル化工程� ��必要な耐熱性があることが望ましい。さら� ��、後工程のアルカリを用いる現像工程で、� ��ターン現像のできる感光性樹脂材料であれ� ��良く、限定するものでない。例えば、着色� ��光性樹脂組成物として有機顔料、エチレン� ��不飽和二重結合を有するモノマー及び光重� ��開始剤を含有し、且つレーザ照射で硬化可� ��な感光性樹脂組成物が挙げられる。液晶セ� ��ギャップ規制や液晶配向規制の目的で形成� ��るスペーサやリブ、配向制御用と突起を形� ��する感光性樹脂組成物には、アクリル樹脂� ��ベースとする感光性樹脂組成物を用いるこ� ��ができる。ネガ型感光性樹脂組成物、或い� ��ポジ型感光性樹脂組成物は、目的に応じて� ��い分ければ良い。

 前記した樹脂以外に、有機樹脂としてポ� ��イミド、ポリスルホン、ポリエステル、ポ� ��アミド、ポリカーボネート、ポリ(メタ)ア� �リレート、ポリフェニレンスルフィド、ポ� �フェニレンオキサイド、ノルボルネンなど� �樹脂を本発明に適用できる。

 配向膜パターンに用いる材料を限定する� ��要はない。配向膜材料として、例えばポリ� ��ミック酸、ポリイミド、ポリアミック酸エ� ��テル、ポリスチレン、スチレン-フェニルマ レイミド共重合体、ポリ(メタ)アクリレート� ��どを骨格として、これらの主鎖又は側鎖に� ��光性基及び配向性基を有する光配向性重合� ��を用いることができる。同様に、位相差パ� ��ーンに用いる材料も特定する必要はないが� ��感光性の棒状重合性液晶化合物、感光性の� ��ィスコティック重合性化合物があげられる� ��

 [顔料]
 着色感光性樹脂組成物に含有される顔料と� ��ては、一般に市販されている有機顔料を用� ��ることができ、形成するフィルタセグメン� ��の色相に応じて、染料、天然色素、無機顔� ��を併用することができる。有機顔料として� ��、発色性が高く、且つ耐熱性、特に耐熱分� ��性の高いものが好適に持に用いられる。有� ��顔料は、1種を単独で、又は2種以上を混合� �て用いることができる。また、有機顔料は� �ソルトミリング、アシッドペースティング� �により微細化したものであっても良い。

 着色感光性樹脂組成物には、彩度と明度� ��バランスをとりつつ、良好な塗布性、感度� ��現像性等を確保するために、無機顔料を含� ��させることができる。無機顔料としては、� ��化チタン、硫酸バリウム、亜鉛華、硫酸鉛� ��黄色鉛、亜鉛黄、べんがら(赤色酸化鉄(III)) 、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑 、コバルト緑、アンバー、チタンブラック、 合成鉄黒、カーボンブラック等が挙げられる 。無機顔料は、1種を単独で、又は2種以上を� ��合して用いることができる。無機顔料は、� ��料の合計質量を基準(100質量%)として、0.1~10� ��量%の量で用いることができる。

 また、本発明に使用される感光性樹脂組� ��物には、調色のため、耐熱性を低下させな� ��範囲内で染料を含有させることができる。� ��料は、顔料の合計質量を基準(100質量%)とし� ��、0.1~1.0質量%の量で用いることができる。

 [エチレン性不飽和二重結合を有するモノマ ー]
 エチレン性不飽和二重結合を有するモノマ� ��は、レーザを照射することにより硬化する� ��分である。エチレン性不飽和二重結合を有� ��るモノマーの例としては、2-ヒドロキシエ� �ル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピ� ��(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ) アクリレート、ポリエチレングリコールジ(� �タ)アクリレート、ペンタエリスリトールト� ��(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ� �ントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス リトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリシ� ��ロデカニル(メタ)アクリレート、メラミン(� ��タ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレ� ��ト等の各種アクリル酸エステルおよびメタ� ��リル酸エステル、(メタ)アクリル酸、スチ� �ン、酢酸ビニル、(メタ)アクリルアミド、N-� ��ドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、ア� �リロニトリル等が挙げられる。

 エチレン性不飽和二重結合を有するモノ� ��ーは、着色組成物の感度アップの観点から� ��エチレン性不飽和二重結合を4~12個有するこ とが好ましい。エチレン性不飽和二重結合を 有するモノマーは、単独で又は2種類以上混� �して用いることができる。エチレン性不飽� �二重結合を有するモノマーの含有量は、顔� �100質量部に対して、好ましくは10~300質量部� �より好ましくは10~200質量部の量で用いるこ� �ができる。

 [光重合開始剤]
 光重合開始剤としては、308nmにおけるモル� �光係数(ε308)が365nmにおけるモル吸光係数(ε36 5)よりも大きいものが好適に用いられる。こ� ��で、モル吸光係数とは、光重合開始剤をア� ��トニトリルで約1.0×10 ^-5 モル/mlに希釈し、その波長における吸収スペ クトルをモル濃度で換算した値である。

 光重合開始剤としては、アセトフェノン� ��光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤� ��ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサ� ��トン系光重合開始剤、トリアジン系光重合� ��始剤、ボレート系光重合開始剤、カルバゾ� ��ル系光重合開始剤、イミダゾール系光重合� ��始剤等が用いられる。これらの光重合開始� ��は、1種を単独、又は2種以上を混合して用� �ることができる。光重合開始剤の含有量は� �顔料100質量部に対して5~200質量部、好ましく は10~150質量部の量で用いることができる。

 なお、アセトフェノン系光重合開始剤と� ��ては、4-フェノキシジクロロアセトフェノ� �、4-t-ブチル-ジクロロアセトフェノン、ジエ トキシアセトフェノン、1-(4-イソプロピルフ� ��ニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン 、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト� ��、2-メチル-1[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モル フォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメ� ��ルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタ� �-1-オン等がある。ベンゾイン系光重合開始� �としては、ベンゾイン、ベンゾインメチル� �ーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベン� �インイソプロピルエーテル、ベンジルジメ� �ルケタール等がある。

 ベンゾフェノン系光重合開始剤としては� ��ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベ� ��ゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾ� �ェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アク� �ル化ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4'-メチ� �ジフェニルサルファイド等がある。

 チオキサントン系光重合開始剤としては� ��チオキサントン、2-クロロチオキサントン� �2-メチルチオキサントン、イソプロピルチオ キサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサン� �ン等がある。

 トリアジン系光重合開始剤としては、2,4, 6-トリクロロ-s-トリアジン、2-フェニル-4,6-ビ ス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(p-メ� �キシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s- トリアジン、2-(p-トリル)-4,6-ビス(トリクロロ メチル)-s-トリアジン、2-ピペロニル-4,6-ビス( トリクロロメチル)-s-トリアジン、2,4-ビス(ト リクロロメチル)-6-スチリル-s-トリアジン、2- (ナフト-1-イル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s- トリアジン、2-(4-メトキシ-ナフト-1-イル)-4,6- ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2,4-ト リクロロメチル-(ピペロニル)-6-トリアジン、 2,4-トリクロロメチル(4'-メトキシスチリル)-6- トリアジン等がある。

 また、エチレン性不飽和二重結合を有す� ��モノマー質量(M)に対する光重合開始剤の質� ��(I)の比(I/M)は、0.01~0.45の範囲であることが� �ましい。光重合開始剤の減量によるコスト� �ウンの見地からすると、比(I/M)は、より少な い方が好ましく、0.30以下であることが好ま� �い。しかし、比(I/M)が0.01未満であると、光� �合開始剤の基本作用が発揮されにくくなる� �

 本発明に使用される感光性樹脂組成物に� ��、基本的に増感剤は必要としないが、光重� ��開始剤と増感剤を併用してもかまわない。� ��れらの増感剤は、1種を単独で、又は2種以� �を混合して用いることができる。増感剤の� �有量は、光重合開始剤100質量部に対して0.1~6 .0質量部が好ましい。

 本発明に使用される感光性樹脂組成物に� ��、さらに、連鎖移動剤としての働きをする� ��官能チオールを含有させることができる。� ��れらの多官能チオールは、1種を単独で、又 は2種以上を混合して用いることができる。� �官能チオールの含有量は、顔料100質量部に� �して0.05~100質量部が好ましく、より好ましく は0.1~60質量部である。

 本発明に使用される感光性樹脂組成物に� ��、組成物の経時粘度を安定化させるために� ��蔵安定剤を含有させることができる。また� ��透明基板との密着性を高めるためにシラン� ��ップリング剤等の密着向上剤を含有させる� ��ともできる。貯蔵安定剤は、感光性樹脂組� ��物中の顔料100質量部に対して、0.1~10質量部� ��量で用いることができる。

 本発明に使用される感光性樹脂組成物に� ��、顔料の分散性向上や塗布基材との密着性� ��上げるため、透明樹脂を含有させることが� ��きる。透明樹脂は、可視光領域の400~700nmの� ��波長領域において透過率が好ましくは80%以� ��、より好ましくは95%以上の樹脂である。透� ��樹脂には、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂及� ��感光性樹脂が含まれ、これらを単独で、又� ��2種以上混合して用いることができる。

 感光性透明樹脂としては、エチレン性不� ��和二重結合を有する樹脂を用いることがで� ��る。例えば、水酸基、カルボキシル基、ア� ��ノ基等の反応性の置換基を有する高分子に� ��イソシアネート基、アルデヒド基、エポキ� ��基、カルボキシル基等の反応性置換基を有� ��る(メタ)アクリル化合物やケイヒ酸を反応� �せて、(メタ)アクリロイル基、スチリル基等 のエチレン性不飽和二重結合を有する官能基 を前記高分子に導入した樹脂が挙げられる。

 具体的には、水酸基を有するエチレン性� ��飽和単量体および他のエチレン性不飽和単� ��体を共重合した共重合体に、水酸基と反応� ��能な官能基及びエチレン性不飽和二重結合� ��有する化合物を反応させることにより得ら� ��るものがある。水酸基と反応可能な官能基� ��しては、イソシアネート基、カルボキシル� ��等が挙げられるが、特に反応性の点でイソ� ��アネート基が好ましい。イソシアネート基� ��びエチレン性不飽和二重結合を有する化合� ��として具体的には、2-アクリロイルエチル� �ソシアネート、2-メタクリロイルエチルイソ シアネート等が挙げられる。また、スチレン -無水マレイン酸共重合体やα-オレフィン-無� ��マレイン酸共重合体等の酸無水物を含む高� ��子をヒドロキシアルキル(メタ)アクリレー� �等の水酸基を有する(メタ)アクリル化合物に よりハーフエステル化したものも用いられる 。

 本発明の感光性樹脂組成物には、顔料を� ��分に組成物中に分散させ、ガラス基板等の� ��明基板上に乾燥膜厚が0.2~5μmとなるように� �布してフィルタセグメントを形成すること� �容易にするために、溶剤を含有させること� �できる。溶剤は単独で、若しくは混合して� �いる。

 エチレン性不飽和二重結合を有するモノ� ��ーに顔料を分散する際には、適宜、界面活� ��剤、樹脂型顔料分散剤、色素誘導体等の分� ��剤が使用できる。分散剤は、顔料の分散に� ��れ、分散後の顔料の再凝集を防止する効果� ��大きいので、分散剤を用いて顔料を透明樹� ��及び有機溶剤中に分散してなる感光性樹脂� ��成物を用いた場合には、透明性に優れたカ� ��ーフィルタが得られる。顔料分散剤は、感� ��性樹脂組成物中の顔料100質量部に対して、0 .1~40質量部、好ましくは0.1~30質量部の量で用� ��ることができる。