OPTISCHES BAUTEIL FÜR EINE LITHOGRAPHIEANLAGE Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches Bauteil, eine Verwendung eines optischen Bauteils, ein Projektionsobjektiv, eine Lithographieanlage und meh- rere Verfahren zum Herstellen eines derartigen optischen Bauteils. Der Inhalt der Prioritätsanmeldung DE 102022204268.9 wird durch Bezug- nahme vollumfänglich miteinbezogen (incorporation by reference). Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithogra- phieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Be- leuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Pro- jektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) be- schichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen. Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstel- lung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen entwi- ckelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, ins- besondere 13,5 nm, verwenden. Da die meisten Materialien Licht dieser Wellen- länge absorbieren, müssen bei solchen EUV-Lithographieanlagen reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von - wie bisher - brechenden Optiken, das heißt, Linsen, eingesetzt werden. Neben dem Verzicht auf brechende Medien bedeutet der Schritt zum EUV-Be- reich auch den Übergang zu Spiegelsystemen, die entweder in nahezu senkrech- tem Einfall oder streifend arbeiten. Im senkrechten Einfall wird auf jedem Spiegel etwa ein Drittel des einfallenden Lichts absorbiert (abhängig vom kon- kreten Einfallswinkelspektrum), unter streifendem Einfall liegen typische Ab- sorptionswerte bei einem Viertel oder Fünftel. In brechenden Medien, wie etwa Linsen, mit einer Antireflexschicht liegt dagegen die absorbierte Intensität zum Vergleich im Promillebereich. Daraus erklären sich erheblich stärkere Tempera- turänderungen in EUV-Optiken im Vergleich zu linsenbasierten Systemen. Die Temperaturveränderungen liegen im Bereich mehrerer Kelvin anstelle von weni- gen Zehntel Kelvin, wie bei Linsensystemen. Weil sich Temperaturgradienten aufgrund des thermischen Ausdehnungskoeffi- zienten in Oberflächenfehler übersetzen, führen sie gerade in Spiegeln zu erheb- lichen optischen Aberrationen, die in Relation zur Nutzwellenlänge bildver- schlechternd wirken. Entsprechend werden EUV-Spiegel vorzugsweise aus Mate- rialien mit besonders niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten gefertigt, zum Beispiel aus Zerodur® oder ULE® ("Ultralow Expansion"-Material). Diese Mate- rialien spielen Komponenten mit positivem und negativem Wärmeausdehnungs- koeffizienten gegeneinander aus. Das Ergebnis ist ein effektiv linearer Zusam- menhang zwischen Wärmeausdehnung und Temperatur, wobei es genau einen Temperaturwert gibt, bei dem die Wärmeausdehnung verschwindet, nämlich bei der sogenannten Nulldurchgangstemperatur ("zero-crossing temperature"). Sol- che Materialien sind in der Herstellung besonders aufwendig und daher teuer. Entsprechend sind die daraus hergestellten Optiken gleichfalls kostenintensiv. Tatsächlich sind diese Kosten eines der großen Hindernisse auf dem Weg zu ei- ner Steigerung der numerischen Apertur, welche die Verwendung größerer Spie- gel, das heißt mit größerem Durchmesser, erfordert. Die hohen Materialkosten wirken sich auch deshalb besonders begrenzend aus, da mit steigendem Spiegel- durchmesser auch dessen Dicke erhöht werden muss, um dynamisch generierte Deformationen zu begrenzen. Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, ein verbessertes optisches Bauteil für eine Lithographieanlage bereitzustellen. Demgemäß wird ein optisches Bauteil für eine Lithographieanlage vorgeschla- gen. Dieses umfasst ein optisches Element, welches aus einem ersten Material gefertigt ist und eine optisch wirksame Fläche aufweist. Ferner umfasst das opti- sche Bauteil ein Tragelement, welches aus einem zweiten Material gefertigt ist und das optische Element trägt. Das zweite Material ist von dem ersten Material verschieden. Das Verhältnis der Dichten des ersten und zweiten Materials weicht um weniger als 20 %, bevorzugt um weniger als 10 % und noch weiter bevorzugt um weniger als 5 % von 1 ab. Das optische Element und das Tragelement haben jeweils eine Haupterstreckungsebene, in welche sie eine maximale Ausdehnung aufweisen. Die maximale Ausdehnung des optischen Elements beträgt weniger als 90 %, bevorzugt weniger als 80 % und noch weiter bevorzugt weniger als 75 % der maximalen Ausdehnung des Tragelements. Der vorliegenden Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, dass das Tragele- ment funktional andere Aufgaben erfüllt als das optische Element und daher aus einem anderen, insbesondere kostengünstigen Material gefertigt werden kann. Gleichwohl sollte das Tragelement beziehungsweise dessen zweites Material dem ersten Material möglichst ähnlich (wenn auch kostengünstiger) sein. Entspre- chend kann ein mechanisches und/oder thermisches Verhalten des Tragelements dem des optischen Elements angenähert sein. Dadurch kann eine negative me- chanische Wechselwirkung zwischen dem optischen Element und dem Tragele- ment minimiert werden. Indem das optische Element eine kleinere maximale Ausdehnung als das Tragelement (jeweils in Bezug auf ihre Haupterstreckungs- ebene) aufweist, ist sichergestellt, dass das Tragelement das optische Element großflächig abstützen kann. Die Haupterstreckungsebene des optischen Elements und die Haupterstre- ckungsebene des Tragelements sind vorzugsweise parallel zueinander angeord- net oder stehen in einem Winkel kleiner 10 Grad, bevorzugt kleiner 5 Grad und noch weiter bevorzugt kleiner 3 Grad zueinander. Mit der "optisch wirksamen Fläche" ist vorliegend diejenige Fläche des optischen Elements gemeint, die mit dem Nutzlicht (Arbeitslicht), insbesondere für den Ab- bildungsprozess, wechselwirkt. Das optische Bauteil ist insbesondere für den Einsatz im Lithographiebereich ge- eignet ausgebildet. Dort kann es etwa für Lithographieanlagen (DUV und EUV), Messinstrumente oder Herstellungsvorrichtungen verwendet werden. Gemäß einer Ausführungsform weisen das optische Element und das Tragele- ment jeweils senkrecht zur Haupterstreckungsebene eine maximale Dicke auf, wobei die maximale Dicke des optischen Elements weniger als 90 %, bevorzugt weniger als 80 %, noch weiter bevorzugt weniger als 75 % der maximalen Dicke des Tragelements beträgt. Dadurch ist vorteilhaft sichergestellt, dass das Tragelement den Großteil der De- formationskräfte aufnehmen kann, welche auf das optische Bauteil – beispiels- weise im Rahmen einer Manipulation im Betrieb der Lithographieanlage – wir- ken. Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das optische Element eine von der optisch wirksamen Fläche abgewandte Seite auf, wobei die Seite eine Seitenober- fläche aufweist und das optische Element mit zumindest 50 %, bevorzugt zumin- dest 75 %, noch weiter bevorzugt zumindest 90 % der Seitenoberfläche oder gänz- lich mit dem Tragelement in, bevorzugt vollflächigem, Kontakt steht. Auch durch diese Maßnahme wird ein Krafteintrag aus dem Tragelement in das optische Element, und umgekehrt, verbessert. Grundsätzlich kann ein punktuel- ler Kontakt zwischen dem optischen Element und dem Tragelement genügen. Be- vorzugt, weil so punktuelle Deformationen besser vermieden werden können, ist jedoch ein vollflächiger Kontakt zwischen der Seitenoberfläche (beispielsweise über mindestes 90% derselben) und dem Tragelement. Ein gänzliches In-Kon- takt-Stehen meint, dass 100% der Seitenoberfläche mit dem Tragelement in Kon- takt stehen. Dies schließt etwas das Vorhandensein von Kühlkanälen an der Grenzfläche zwischen dem optischen Element und dem Tragelement aus. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist das optische Element in einer Vertie- fung, insbesondere in einer topfförmigen Vertiefung, oder in einer Durchgangsöff- nung in dem Tragelement aufgenommen. Auch durch diese Maßnahme kann eine Kraftkopplung zwischen dem optischen Element und dem Tragelement verbessert werden. Gemäß einer weiteren Ausführungsform verläuft eine Materialgrenze zwischen dem ersten und zweiten Material teilweise oder vollständig in einer Richtung senkrecht zu der Haupterstreckungsebene des optischen Elements. Insbesondere kann das optische Element sowohl an seiner Rückseite als auch an ein oder mehreren dazu senkrecht verlaufenden Umfangsflächen (oder unter ei- nem anderen, von senkrecht abweichenden Winkel) mit dem Tragelement ver- bunden sein. Auch hierdurch verbessert sich die Kraftkopplung. Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind das optische Element und das Tra- gelement einteilig miteinander ausgebildet. Das heißt, das optische Element und das Tragelement sind in sechs Freiheitsgra- den fest, das heißt unbeweglich, miteinander verbunden. Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind das optische Element und das Tragelement kraft-, stoff- und/oder formschlüssig aneinander befestigt. Mit "Kraftschluss" ist eine reibschlüssige Verbindung oder eine Verbindung mit Hilfe von Magnetkräften gemeint. Beim "Reibschluss" wirkt eine Normalkraft senkrecht auf die den Reibschluss bereitstellenden und gegeneinander anliegen- den Oberflächen des optischen Elements und des Tragelements. Mit "Stoff- schluss" ist eine Verbindung mit Hilfe von Adhäsionskräften gemeint. Dies kann mit Hilfe eines haftvermittelnden Werkstoffs, wie beispielsweise Klebstoff, oder auch ohne einen solchen erfolgen. Letzterenfalls haften das optische Element und das Tragelement direkt aneinander. Dies geschieht beispielsweise durch An- sprengen oder Verschmelzen. Unter einem "Formschluss" ist ein wechselseitiges Hintergreifen der Verbindungspartner gemeint. Das heißt, dass sich das optische Element und das Tragelement an ein oder mehreren Befestigungsstellen hinter- greifen. Dazu ist beispielsweise ein Eingriffs- und ein Aufnahmemittel vorgese- hen, oder aber es kann ein zusätzliches Verbindungsmittel (Separatteil) vorgese- hen sein, welches das optische Element und das Tragelement miteinander form- schlüssig verbindet. In diesem Fall weist das Befestigungsmittel eines von dem Eingriffs- oder Aufnahmemittel auf. Das optische Element und das Tragelement weisen in diesem Fall ein korrespondierendes Aufnahme- oder Eingriffsmittel auf. Das Verbindungsmittel verbindet das optische Element und das Tragele- ment sodann formschlüssig. Auch bei dem Kraft- oder Stoffschluss kann ein Be- festigungsmittel (Separatteil) zum Einsatz kommen (mittelbare Befestigung). Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind das optische Element und das Tra- gelement miteinander verschmolzen, aneinandergeklebt oder aneinanderge- sprengt. Eine solche Verbindungstechnik ist vorteilhaft, weil sie eine über die Oberfläche gleichmäßige Kraftübertragung gewährleistet. Des Weiteren kommen nachfolgende Verfahren (auch in Kombination miteinan- der) zur Verbindung des optischen Elements und des Tragelements miteinander in Betracht, wobei es sich insbesondere um stoffschlüssige Verfahren handeln kann: - Glas-Frit-Bonden (Löten mit Glaslot). Diese Verbindung ist vorteilhaft an- organisch und kann eine Schmelztemperatur von beispielsweise zwischen 300 und 400°C aufweisen. - Löten, insbesondere unter Verwendung metallischer Lote. Diese Art der Verbindung ist vorteilhaft anorganisch. Insbesondere können niederschmelzende Lote mit einer Schmelztemperatur von beispielsweise 60 - 400°C, bevorzugt 60 - 250°C verwendet werden. Besonders bevorzugt wird ein Lot mit einer Schmelz- temperatur größer 200°C verwendet. - Diffusionsgetriebene Verfahren, wie beispielsweise Thermo-Kompression- Bonden, Fest-Flüssig-Interdiffusion-Bonden und/oder eutektisches Fügen. - Schweißen, insbesondere: Strahlbasiertes Schweißen, wie beispielsweise Laserschweißen. Dazu kann etwa folgendes Vorgehen gewählt werden: Polieren der Oberflä- chen der zu fügenden Bauteile (hier: optisches Elements und/oder Tragele- ment), Bauteile aneinandersprengen, Laser im Bereich der Fügeflächen fo- kussieren und Teilbereiche aufschmelzen und dadurch Verbinden der Bau- teile. Reibschweißen, dies eventuell in Verbindung mit einer metallischen Beschichtung. Kaltschweißverfahren, insbesondere diffusionsgetriebene Verbin- dungsprozesse, beispielsweise beschleunigt durch eine erhöhte Temperatur oder einen erhöhten Fügedruck. Insoweit kann insbesondere folgendes Verfahren gewählt werden: Zunächst werden die Oberflächen der zu fü- genden Bauteile (hier: optisches Elements und/oder Tragelement) poliert, dann werden die Bauteile aneinandergesprengt. Anschließend ruhen die Bauteile, bis der Materialaustausch in den Verbindungsflächen zu der ge- wünschten Festigkeit führt. - Silikatisches Fügen und/oder Hydroxid-basiertes Fügen, im Speziellen für siliziumhaltige Werkstoffe. - Reaktives Fügen. - Anodisches Bonden. - Oberflächenaktiviertes Bonden (Engl.: surface-activated bonding), insbe- sondere unter Verwendung einer metallischen Beschichtung. Gemäß einer weiteren Ausführungsform unterscheiden sich das erste und zweite Material in einer oder mehreren der nachfolgenden Eigenschaften: einer Brech- zahlhomogenität, einem Anteil und/oder einer Größe von Einschlüssen, insbeson- dere Blasen, einer Spannungsdoppelbrechung, einer intrinsischen Polarisations- doppelbrechung, einem Transmissionsvermögen, insbesondere bei der Betriebs- wellenlänge des optischen Elements, einer Dichte und/oder einer Änderung der Dichte in zumindest einer Raumrichtung, einer Härte oder einer Änderung der Härte in zumindest einer Raumrichtung, einer Rauheit, einer Slumping- Eigenschaft und einer Beständigkeit gegenüber Kompaktierung oder/und Solari- sierung. Vorteilhaft werden in Bezug auf diese Eigenschaften Unterschiede zwischen dem ersten und zweiten Material zugelassen, wodurch sich die Herstellkosten für das zweite Material reduzieren. Im Einzelnen können die Eigenschaften wie folgt de- finiert sein: Bei der Ermittlung der Brechzahlhomogenität wird wie folgt vorgegangen: So- wohl für das optische Element als auch für das Tragelement (die in diesem Fall als brechende Optiken ausgebildet sind) wird eine Brechzahlverteilung über de- ren jeweiliges Volumen ermittelt. Anschließend werden ein oder mehrere die Va- riation der Brechzahl über das Volumen charakterisierende Größen ermittelt. Eine solche Größe ist z.B. ein Berg-Tal-Wert, ein RMS-Wert („root mean square“) oder ein Entwicklungskoeffizienten einer Anpassung von einer oder mehreren Verlaufsfunktionen an die gemessene Verteilung. Bei den Verlaufsfunktionen kann es sich insbesondere um Produkte von Legendrepolynomen oder um Zerni- kefunktionen handeln. Nachfolgend werden die eine oder mehreren charakteri- sierenden Größen des optischen Elements mit jener oder jenen des Tragelements verglichen. Eine "Homogenität" im vorliegenden Sinne liegt beispielsweise dann vor, wenn das Verhältnis der die Variation charakterisierenden Größen bzw. das größte der jeweiligen Verhältnisse bei mehreren solchen Größen kleiner als 150% beträgt. Unter der Brechzahl, auch als Brechungsindex bezeichnet, ist das Ver- hältnis der Vakuumlichtgeschwindigkeit c ₀ zur Ausbreitungsgeschwindigkeit c _M des Lichts im jeweiligen Medium (also dem ersten oder zweiten Material) zu ver- stehen. Der Anteil der Einschlüsse in dem ersten oder zweiten Material kann als Volu- menprozent ausgedrückt werden. Die Größe der Einschlüsse kann als größte Di- mension, beispielsweise größter Durchmesser, angegeben werden. Beispielsweise kann die größte Blase in dem ersten Material mit der größten Blase in dem zwei- ten Material verglichen werden, wobei jeweils auf einen maximalen Durchmesser dieser abgestellt wird. Eine Differenz im Volumenanteil und/oder in der Größe von Einschlüssen kann beispielsweise größer 5 %, größer 10 % oder größer 20 % betragen. Die Spannungsdoppelbrechung kann dadurch bestimmt werden, dass ein Kon- trastverlust von Licht, welches das erste beziehungsweise zweite Material pas- siert, erfasst wird. Der Kontrastverlust ist Ergebnis der Änderung der Polarisati- onsrichtung. Der Kontrastverlust kann in Nanometer pro Zentimeter angegeben werden. Beispielsweise kann ein Unterschied im Maximalwert der Spannungs- doppelbrechung zwischen dem ersten und zweiten Material 0,2 nm/cm, 0,5 nm/cm oder 1,0 nm/cm betragen. Beispielsweise kann die intrinsische Polarisationsdoppelbrechung des ersten Ma- terials der eines Kalziumfluorid-Kristalls entsprechen oder innerhalb eines Tole- ranzfensters entsprechend einer vorgegebenen Genauigkeit der Kristallorientie- rung um einen Vorgabewert liegen. Das Toleranzfenster kann beispielsweise -5°, -10°, -20° bis 5°, 10°, 20° betragen. Beispielsweise kann die Kristallorientierung in dem Kalziumfluorid-Kristall 100, 111 oder 110 betragen. Das zweite Material weist demgegenüber keine intrinsische Doppelbrechung auf. Ebenso können beide Materialien eine intrinsische Polarisationsdoppelbrechung aufweisen, wobei die Abweichung dieser Doppelbrechung im ersten Material we- niger als 0,1 nm/cm, 0,2 nm/cm oder 0,5 nm/cm von einem ausgelegten Wert für diese intrinsische Doppelbrechung beträgt bzw. die wahre Kristallorientierung um weniger als 5°, 10° oder 20° von einem ausgelegten Wert für die Kristallorien- tierung abweicht, während die Abweichung im zweiten Material entsprechend höher liegt, z.B. jeweils um wenigstens 20% oder 50%. Ursache für diese Abweichung kann eine unterschiedlich präzise Einstellung des wahren Kristallo- rientierungswinkels relativ zu einem vorgegebenen Winkel im jeweiligen Mate- rial sein. Das Transmissionsvermögen k ist vorliegend als das Verhältnis der auf das opti- sche Element beziehungsweise das Tragelement einstrahlenden Lichtmenge I _ein zur das optische Element beziehungsweise Tragelement verlassenden Licht- menge I _ver definiert, wobei das Verhältnis angegeben wird als: , wobei "L" die Strecke im ersten beziehungsweise zweiten Material beschreibt, welche von dem einstrahlenden Licht durchstrahlt wird. Die Strecke wird in bei- spielsweise Metern angegeben. Der Unterschied im Transmissionsvermögen zwi- schen dem optischen Element und dem Tragelement beträgt beispielsweise grö- ßer 5 %, größer 10 % oder größer 20 %. Die Dichte, ausgedrückt als Masse pro Volumen, oder deren Änderung, das heißt, der Gradient in einer Raumrichtung, des ersten Materials weicht vorzugsweise um größer 5 %, größer 10 % oder größer 20 % von der Dichte oder Änderung der- selben des zweiten Materials ab. Unter einer "Slumping-Eigenschaft" wird vorliegend Folgendes verstanden: Das optische Element, aber auch das Tragelement (jedoch weniger bevorzugt) können einen Schichtenaufbau aufweisen. Dabei wird im Rahmen der Herstellung ein ge- schichtet aufgebauter Rohling in oder auf eine gekrümmte Form gegeben und dort erwärmt. Entsprechend nimmt auch der Schichtstapel (in einem dank der hohen Temperatur verformbaren Zustand) einheitlich die entsprechende Form an, wobei die Schichtabfolge entlang der Flächensenkrechten weitgehend erhal- ten bleibt. Durch dieses Verfahren kann ein hochwertiges Bauteil geschaffen werden. Insbesondere kann dadurch das optische Bauteil mit der gewünschten Krümmung an seiner optisch wirksamen Fläche hergestellt werden. Ein Unter- schied zwischen dem ersten und zweiten Material hinsichtlich seiner Slumping- Eigenschaft kann entweder darin bestehen, dass das erste Material bzw. das op- tische Element in einem Slumping-Verfahren, wie oben beschrieben, hergestellt worden ist und das zweite Material bzw. das Tragelement in einem solchen Ver- fahren nicht hergestellt wurde. Soweit sowohl das erste und zweite Material (bzw. optisches Element und Tragelement) in einem Slumping-Verfahren herge- stellt worden sind, können sich die Dicken der Schichtabfolge entlang der Flä- chennormalen in verschiedenem Maße von einem gewünschten Zielzustand un- terscheiden. Insbesondere können die Schichtdickengenauigkeiten des ersten Materials bzw. des optischen Elements im Mittel oder im Maximum näher als 10%, näher als 25% oder näher als 50% an einem Vorgabewert im Vergleich zu den Schichtdickengenauigkeiten des zweiten Materials bzw. des Tragelements zu diesem Vorgabewert, ebenfalls im Mittel oder Maximum, liegen. Zur Härtung von Quarzglas oder anderen Materialien gegenüber Kompaktierung und Solarisierung aufgrund des Aufbrechens von Bindungen durch die hochener- getische Nutzstrahlung (Arbeitslicht) kann eine Beladung mit Wasserstoff oder vergleichbare Vorbehandlung erfolgen, die oftmals zeitaufwendig ist. Entspre- chend kann eine Bestrahlung des (geeignet ausgewählten und/oder behandelten) ersten Materials mit einer vorbestimmten Anzahl LASER-Pulsen zu einer um 50%, bevorzugt 80%, weiter bevorzugt 90% geringeren Brechzahl- oder Transmis- sionsänderung im Vergleich zu dem zweiten Material führen, wobei eine gleiche Prüflings- und Bestrahlgeometrie vorliegt. Insbesondere kann die Beladungszeit des ersten Materials mit Wasserstoff um wenigstens 50%, 100% oder 200% über jener des zweiten Materials liegen. Die Rauheit der Oberfläche des optischen Elements in einem Ortsfrequenzbe- reich 10 nm – 1 mm kann durch einen RMS-Wert charakterisiert sein, der um einen Faktor 5, 10 oder 20 oder mehr unter jenem des Tragelements liegt und insbesondere weniger als 0,5 nm, 0,3 nm oder 0,1 nm betragen kann. Entspre- chende Verhältnisse der RMS-Werte können auch in einzelnen Bändern für Orts- frequenzen, etwa im Band 100 µm – 1 mm, 10 µm – 100 µm, 1 µm – 10 µm oder 100 nm – 1 µm jeweils vorliegen. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist bei einer erwartbaren mittleren Be- triebstemperatur ein thermischer Ausdehnungskoeffizient des ersten Materials mindestens zehnmal niedriger als ein thermischer Ausdehnungskoeffizient des zweiten Materials. Auch dadurch ist sichergestellt, dass das erste Material höherwertiger ist als das zweite Material. Die erwartbare mittlere Betriebstemperatur richtet sich nach dem Einsatzzweck des optischen Bauteils. Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das Tragelement eine oder meh- rere der nachfolgenden Komponenten auf: eine mechanische Schnittstelle zur Be- festigung desselben an einem Tragrahmen einer Lithographieanlage und/oder zur Befestigung eines Aktuators, und/oder ein Messobjekt zur Vermessung der Position des Tragelements mit Hilfe einer Messeinrichtung. Damit werden dem Tragelement spezifische Funktionen abverlangt, welche von denen des optischen Elements abweichen, das selbst die optisch wirksame Fläche (Funktion des optischen Elements) aufweist. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist das optische Element ein Spiegel, eine Linse, ein polarisationsoptisches Element, insbesondere eine Retarderplatte, ein Polarisationsfilter oder ein Rotationselement, welches dazu eingerichtet ist, eine Polarisationsrichtung zu drehen, ein Farbfilter und/oder ein optisches Git- ter. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist das erste Material Ultralow Expan- sion-Material (ULE®), Zerodur®, Kalziumfluorid und/oder Quarzglas und/oder das zweite Material Quarzglas, optisches Glas, Glaskeramik, Silizium, SiSiC oder Stahl, insbesondere Invar®. Entsprechend ist das erste Material optisch höherwertiger als das zweite Mate- rial, das zweite Material dafür kostengünstiger. ULE ist ein titandotiertes Quarzglas. Zerodur ist eine Glaskeramik. Invar ist eine Eisen-Nickel-Legierung mit 64 % Eisenanteil und 36 % Nickelanteil. SiSiC ist ein Siliziumkarbid. Gemäß einem zweiten Aspekt wird eine Verwendung des optischen Bauteils, wie vorstehend beschrieben, bereitgestellt. Dabei wird das optische Bauteil in einem Abbildungsprozess verwendet, wobei ein verwendetes Arbeitslicht eine Wellen- länge kleiner 120 nm, bevorzugt 30 nm, aufweist. Das Arbeitslicht wechselwirkt mit der optisch wirksamen Fläche des optischen Elements. Gemäß einem dritten Aspekt wird ein Projektionsobjektiv, insbesondere ein kata- dioptrisches Projektionsobjektiv oder mit einem reinen Spiegelsystem, bereitge- stellt. Das Projektionsobjektiv weist ein optisches Bauteil, wie vorstehend be- schrieben, auf. Insbesondere kann das optische Element des Bauteils eine Linse sein, welche feldnah oder intermediär im Strahlengang angeordnet ist. Alternativ ist das Bau- teil ein Spiegel oder ein anderes optisches Element. Gemäß einem vierten Aspekt wird eine Lithographieanlage, insbesondere eine EUV- oder DUV-Lithographieanlage, bereitgestellt. Diese umfasst das optische Bauteil, wie vorstehend beschrieben, oder ein Projektionsobjektiv, wie vorste- hend beschrieben. EUV steht für "Extreme Ultraviolet" und bezeichnet eine Wellenlänge des Ar- beitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. DUV steht für "Deep Ultraviolet" und be- zeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm. Gemäß einem fünften Aspekt wird ein Verfahren zum Herstellen eines optischen Bauteils, wie vorstehend beschrieben, bereitgestellt. Das Verfahren umfasst die Schritte: a) Simulieren von Eigenschaften des optischen Bauteils im Betrieb; b) Anpassen zumindest einer dieser Eigenschaften in Abhängigkeit der Simula- tion; und c) Herstellen des optischen Bauteils mit der angepassten Eigenschaft. Diesem Verfahren liegt die Überlegung zugrunde, dass die Verwendung des ers- ten (teuren) Materials und des zweiten (kostengünstigeren) Materials an die rele- vanten Nutzungsszenarien angepasst wird. Gemäß einer weiteren Ausführungsform werden die Eigenschaften des optischen Bauteils im Betrieb gemäß Schritt a) in einer ersten Simulation simuliert. In ei- nem weiteren Schritt wird ein Herstellaufwand zur Herstellung des optischen Bauteils in einer zweiten Simulation simuliert. Daraufhin erfolgt ein Anpassen der zumindest einen Eigenschaft gemäß Schritt b) in Abhängigkeit der ersten und zweiten Simulation. Der Herstellaufwand kann beispielsweise in Maschinenstunden, Materialkosten etc. ausgedrückt werden. Dadurch wird eine sowohl in optischer Hinsicht als auch in Bezug auf Herstellkosten geeignete Lösung auf einfachem Wege ermit- telt. Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfassen die gemäß Schritt a) simulier- ten Eigenschaften eine optische Eigenschaft der optisch wirksamen Fläche. Die optische Eigenschaft ist beispielsweise eine Wärmeausdehnung, eine Brechzahl, eine Oberflächendeformation oder ein Abbildungsfehler, auch über das Projekti- onsobjektiv oder die Lithographieanlage hinweg. Gemeint ist also insbesondere ein Abbildungsfehler auf einem zu belichtenden Wafer. Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst das Anpassen der zumindest ei- nen Eigenschaft gemäß Schritt b) ein Anpassen einer Dimension des optischen Elements und/oder des Tragelements und/oder ein Anpassen des ersten oder zweiten Materials. Wird also festgestellt, dass beispielsweise die optische Eigenschaft noch nicht den Anforderungen genügt, so kann beispielsweise das optische Element größer (insbesondere mit einem größeren Volumen) gestaltet werden. Zusätzlich oder al- ternativ kann ein optisch besseres erstes Material verwendet werden. Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird ein Korrekturmittel zur Anpas- sung der zumindest einen Eigenschaft des optischen Elements ermittelt, wobei das Korrekturmittel außerhalb des optischen Bauteils vorgesehen ist. Vorteilhaft kann die gewünschte optische Eigenschaft nicht nur durch Anpas- sung des optischen Elements beziehungsweise des Tragelements erzielt werden. Vielmehr können – insbesondere aus dem Stand der Technik – bekannte Korrek- turmittel eingesetzt werden, um (dennoch) ein kleineres optisches Element oder ein optisches Element aus einem weniger hochwertigen ersten Material verwen- den zu können. Gemäß einem sechsten Aspekt wird ein Verfahren zum Herstellen eines optischen Bauteils für eine Lithographieanlage bereitgestellt. Dieses umfasst die Schritte: a) Fertigen eines optischen Elements aus einem ersten Material mit einer optisch wirksamen Fläche; und b) Fertigen eines Tragelements aus einem zweiten Material, wobei das zweite Material von dem ersten Material verschieden ist und ein Verhältnis der Dichten des ersten und zweiten Materials um weniger als 20 %, bevorzugt um weniger als 10 % und noch weiter bevorzugt um weniger als 5 % von 1 abweicht; c) Verbinden des optischen Elements mit dem Tragelement derart, dass das Tragelement das optische Element trägt, wobei das optische Element und das Tra- gelement jeweils eine Haupterstreckungsebene aufweisen, in welcher sie eine ma- ximale Ausdehnung haben, wobei die maximale Ausdehnung des optischen Ele- ments weniger als 90 %, bevorzugt weniger als 80 % und noch weiter bevorzugt weniger als 75 % der maximalen Ausdehnung des Tragelements beträgt. Die Schritte a) bis c) können grundsätzlich in beliebiger Reihenfolge durchgeführt werden. Etwa kann zunächst das Tragelement gefertigt werden und unmittelbar darauf das optische Element erzeugt werden, d.h., die Schritte a) und c) erfolgen gleichzeitig und nach Schritt b). Gemäß einer Ausführungsform beträgt in Schritt a) eine Variation einer Abtrag- rate, mit welcher das erste Material abgetragen wird, größer 20 %. Alternativ oder zusätzlich beträgt in Schritt b) eine Variation eine Abtragrate, mit welcher das zweite Material abgetragen wird, kleiner oder gleich 20%. Je höher die Variation der Abtragrate desto aufwendiger die Bearbeitung. Bei- spielsweise variiert die Abtragrate, wenn unterschiedliche Kristallstrukturen bzw. -ebenen jeweils mit hoher Qualität abgetragen werden müssen – dies etwa im Fall des Herausarbeitens einer gekrümmten Form aus Kalziumfluorid. Soll etwa bei Linsen eine geeignete Brechzahl erreicht werden, so kann eine entspre- chend große Variation der Abtragrate (etwa größer 20%) erforderlich sein. Ande- rerseits kann ein Tragelement mit einer nur geringen Variation der Abtragrate (etwa kleiner 20%) kostengünstig gefertigt werden. Die Abtragrate wird bei- spielsweise als mm ³ /h (also pro Zeiteinheit abgetragenes Materialvolumen) aus- gedrückt. Die Variation bezieht sich beispielsweise auf den gesamten Fertigungs- prozess vom Materialrohling bis zum (fertigen) optischen Element bzw. Tragele- ment. Die Abtragrate kann sich auf ein Abtragen mittels beispielsweise Fräsens oder Polierens beziehen. Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst das Fertigen in Schritt a) und/oder Schritt b) die Anwendung eines Slumping-Verfahrens, wobei bevorzugt eine maximale oder mittlere Abweichung einer Ist-Schichtdicke von einer Soll- Schichtdicke bei dem ersten Material kleiner ist als bei dem zweiten Material. Entsprechend ist das erste Material höherwertig als das zweite Material, letzte- res dafür kostengünstiger zu fertigen. "Ein" ist vorliegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die genannte Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichungen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Die für den ersten Aspekt beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gel- ten für die anderen Aspekte entsprechend, und umgekehrt. Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht expli- zit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausfüh- rungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen. Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegen- stand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungs- beispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzug- ten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher er- läutert. Die für den ersten Aspekt beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gel- ten entsprechend für die weiteren vorliegend beschriebenen Aspekte und ent- sprechend, und umgekehrt. Fig.1 zeigt einen schematischen Meridionalschnitt einer Projektionsbelichtungs- anlage für die EUV-Projektionslithographie; Fig.2 zeigt in einer perspektivischen Ansicht einen Ausschnitt aus einer Litho- graphieanlage gemäß einer Ausführungsform; Fig.3 zeigt einen Teilschnitt III aus Fig.2; Fig.4 zeigt ausschnittsweise eine Draufsicht IV aus Fig.2; Fig.5 zeigt eine Ansicht V aus Fig.4; Fig.6 zeigt in einem Schnitt ein optisches Bauteil gemäß einer weiteren Ausfüh- rungsform; Fig.7 zeigt in einem Schnitt ein optisches Bauteil gemäß einer noch weiteren Ausführungsform; Fig.8 zeigt in einem Schnitt ein optisches Bauteil gemäß einer noch weiteren Ausführungsform; Fig.9 zeigt in einem Schnitt ein optisches Bauteil gemäß einer noch weiteren Ausführungsform; Fig.10 zeigt in einer Seitenansicht ein optisches Bauteil mit einer Linse gemäß einer Ausführungsform; Fig.11 zeigt eine Ansicht XI aus Fig.10; Fig.12 zeigt in einem Flussdiagramm ein Verfahren gemäß einer Ausführungs- form; Fig.13 zeigt einen Verfahrensschritt bei einem Slumping-Verfahren; Fig.14 zeigt eine Ansicht XIV aus Fig.13; und Fig.15 zeigt in einem Flussdiagramm ein Verfahren gemäß einer Ausführungs- form. In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Be- zugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendiger- weise maßstabsgerecht sind. Fig.1 zeigt eine Ausführungsform einer Projektionsbelichtungsanlage 1 (Litho- graphieanlage), insbesondere einer EUV-Lithographieanlage. Eine Ausführung eines Beleuchtungssystems 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Licht- beziehungsweise Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Bei einer alternativen Ausführung kann die Lichtquelle 3 auch als ein zum sonstigen Beleuchtungssys- tem 2 separates Modul bereitgestellt sein. In diesem Fall umfasst das Beleuch- tungssystem 2 die Lichtquelle 3 nicht. Belichtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverla- gerungsantrieb 9, insbesondere in einer Scanrichtung, verlagerbar. In der Fig.1 ist zur Erläuterung ein kartesisches Koordinatensystem mit einer x- Richtung x, einer y-Richtung y und einer z-Richtung z eingezeichnet. Die x-Rich- tung x verläuft senkrecht in die Zeichenebene hinein. Die y-Richtung y verläuft horizontal und die z-Richtung z verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in der Fig.1 längs der y-Richtung y. Die z-Richtung z verläuft senkrecht zur Objekt- ebene 6. Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine Projektionsoptik 10. Die Projek- tionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Die Bildebene 12 verläuft parallel zur Objektebene 6. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 6 und der Bild- ebene 12 möglich. Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhal- ter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y-Rich- tung y verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Retikel- verlagerungsantrieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Waferverlage- rungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen. Bei der Lichtquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Licht- quelle 3 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung 16 hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle han- deln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (Engl.: Laser Produced Plasma, mit Hilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (Engl.: Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (Engl.: Free-Electron-Laser, FEL) handeln. Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Lichtquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt. Bei dem Kollektor 17 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflä- chen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 17 kann im streifenden Einfall (Engl.: Grazing Incidence, GI), also mit Einfallswinkeln grö- ßer als 45°, oder im normalen Einfall (Engl.: Normal Incidence, NI), also mit Ein- fallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt wer- den. Der Kollektor 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht struktu- riert und/oder beschichtet sein. Nach dem Kollektor 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Lichtquelle 3 und den Kollektor 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen. Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strah- lengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wir- kung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 19 als Spekt- ralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrah- lung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 20 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, die zur Objektebene 6 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 20 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 21, welche im auch als Feldfacetten be- zeichnet werden können. Von diesen ersten Facetten 21 sind in der Fig.1 nur beispielhaft einige dargestellt. Die ersten Facetten 21 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, ins- besondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teil- kreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 21 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein. Wie beispielsweise aus der DE 102008009600 A1 bekannt ist, können die ers- ten Facetten 21 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbe- sondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Fa- cettenspiegel 20 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die DE 102008009600 A1 verwiesen. Zwischen dem Kollektor 17 und dem Umlenkspiegel 19 verläuft die Beleuch- tungsstrahlung 16 horizontal, also längs der y-Richtung y. Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Sofern der zweite Facettenspiegel 22 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 22 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 20 und dem zweiten Facettenspiegel 22 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der US 2006/0132747 A1, der EP 1614 008 B1 und der US 6,573,978. Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23. Die zweiten Facetten 23 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet. Bei den zweiten Facetten 23 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facetten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die DE 102008009600 A1 verwiesen. Die zweiten Facetten 23 können plane oder alternativ konvex oder konkav ge- krümmte Reflexionsflächen aufweisen. Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Wabenkondensor (Engl.: Fly‘s Eye Integra- tor) bezeichnet. Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist, anzuordnen. Insbesondere kann der zweite Facettenspiegel 22 gegenüber ei- ner Pupillenebene der Projektionsoptik 10 verkippt angeordnet sein, wie es zum Beispiel in der DE 102017220586 A1 beschrieben ist. Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungs- strahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5. Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Ob- jektfeld 5 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbil- dung der ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufwei- sen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senk- rechten Einfall (NI-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (GI-Spiegel, Gracing Incidence Spiegel) umfassen. Die Beleuchtungsoptik 4 hat bei der Ausführung, die in der Fig.1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 17 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 19, den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22. Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann der Umlenkspiegel 19 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 4 nach dem Kollektor 17 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22. Die Abbildung der ersten Facetten 21 mittels der zweiten Facetten 23 bezie- hungsweise mit den zweiten Facetten 23 und einer Übertragungsoptik in die Ob- jektebene 6 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung. Die Projektionsoptik 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durch- nummeriert sind. Bei dem in der Fig.1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 10 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungs- strahlung 16. Die Projektionsoptik 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann. Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssym- metrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Refle- xionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, hochreflektierende Beschichtungen für die Beleuch- tungsstrahlung 16 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer-Be- schichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Sili- zium, gestaltet sein. Die Projektionsoptik 10 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung y zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 5 und einer y-Koor- dinate des Zentrums des Bildfeldes 11. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y-Rich- tung y kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12. Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe βx, βy in x- und y- Richtung x, y auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe βx, βy der Projektionsoptik 10 liegen bevorzugt bei (βx, βy) = (+/- 0,25, /+- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaß- stab β bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr. Die Projektionsoptik 10 führt somit in x-Richtung x, das heißt in Richtung senk- recht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 4:1. Die Projektionsoptik 10 führt in y-Richtung y, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung von 8:1. Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung x, y, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich. Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung x, y im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 11 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 10, unterschiedlich sein. Bei- spiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwi- schenbilder in x- und y-Richtung x, y sind bekannt aus der US 2018/0074303 A1. Jeweils eine der zweiten Facetten 23 ist genau einer der ersten Facetten 21 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der ersten Facetten 21 in eine Vielzahl an Objektfeldern 5 zerlegt. Die ersten Facetten 21 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten zweiten Facetten 23. Die ersten Facetten 21 werden jeweils von einer zugeordneten zweiten Facette 23 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 auf das Retikel 7 ab- gebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist insbesondere möglichst homo- gen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuch- tungskanäle erreicht werden. Durch eine Anordnung der zweiten Facetten 23 kann geometrisch die Ausleuch- tung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 definiert werden. Durch Aus- wahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der zweiten Facetten 23, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting oder Beleuchtungspupillenfüllung bezeichnet. Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchte- ter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden. Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objekt- feldes 5 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 beschrie- ben. Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein. Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 lässt sich regelmäßig mit dem zwei- ten Facettenspiegel 22 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projekti- onsoptik 10, welche das Zentrum des zweiten Facettenspiegels 22 telezentrisch auf den Wafer 13 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung. Es kann sein, dass die Projektionsoptik 10 unterschiedliche Lagen der Ein- trittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bauele- ment der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Retikel 7 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Elements kann die un- terschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Ein- trittspupille berücksichtigt werden. Bei der in der Fig.1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuch- tungsoptik 4 ist der zweite Facettenspiegel 22 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 konjugierten Fläche angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zur Objektebene 6 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 19 defi- niert ist. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene an- geordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 22 definiert ist. Fig.2 zeigt einen Ausschnitt aus der Lithographieanlage 1 aus Fig.1. Zu sehen ist ein optisches Bauteil 100, welches ein optisches Element 102 und ein Tragele- ment 104 umfasst. Bei dem optischen Element 102 kann es sich insbesondere um einen der Spiegel M1 bis M6 aus Fig.1 handeln, oder um ein optisches Element aus jedem anderen Optiksystem (z.B. ein Messsystem zur Anwendung im Lithographiebereich). Ins- besondere könnte es sich um einen der Spiegel aus dem Beleuchtungssystem 2 der Fig.1 handeln. Grundsätzlich kann es sich bei dem optischen Element 102 um einen Spiegel, eine Linse, ein polarisationsoptisches Element, insbesondere eine Retarderplatte, einen Polarisationsfilter oder ein Rotationselement, welches dazu eingerichtet ist, eine Polarisationsrichtung zu drehen, einen Farbfilter oder ein optisches Gitter handeln. In dem Ausführungsbeispiel nach Fig.2 handelt es sich bei dem optischen Element 102 um einen Spiegel. Das optische Element 102 weist eine optisch wirksame Fläche 106 auf. An dieser wird die Beleuchtungsstrahlung 16 (siehe auch Fig.1) bzw. das Arbeitslicht re- flektiert. Bei der Beleuchtungsstrahlung handelt es sich vorzugsweise um EUV- Strahlung, das heißt Licht mit einer Wellenlänge zwischen 0,1 und 30 nm. Das optische Element 102 ist aus einem ersten Material gefertigt. Bei diesem kann es sich beispielsweise um ULE, Zerodur, Kalziumfluorid oder Quarzglas handeln. Damit ist die Fertigung des optischen Elements 102 vergleichsweise kostenaufwendig. Das Tragelement 104 trägt das optische Element 102. Darunter ist insbesondere zu verstehen, dass die aus der auf das optische Element 102 wirkenden Schwer- kraft resultierenden Kräfte teilweise oder sämtlich in das Tragelement 104 aus dem optischen Element 102 eingeleitet werden. Zur Schwerkraft können dynami- sche Lasten, wie etwa solche, die aus Vibrationen oder sonstigen Beschleunigun- gen resultieren, hinzukommen. Das Tragelement 104 ist aus einem zweiten Material gefertigt. Das zweite Mate- rial kann beispielsweise aus Quarzglas, optischem Glas, Glaskeramik, Silizium, SiSiC (Siliziumcarbid) oder Stahl, insbesondere Invar, gefertigt sein. Entspre- chend ist das zweite Material ein vergleichsweise kostengünstiges Material, so dass sich die Herstellungskosten für das optische Bauteil 100 insgesamt reduzie- ren. Fig.3 zeigt einen Ausschnitt III aus Fig.2. Dort ist zu sehen, dass sich das erste Material G ₁₀₂ von dem zweiten Material G ₁₀₄ unterscheidet. Insbesondere gilt für das Verhältnis der Dichten ρ _G102 , ρ _G104 des ersten und zweiten Materials G ₁₀₂ , G ₁₀₄ (erstes Material G ₁₀₂ mit der ersten Dichte ρ _G102 , zweites Material G ₁₀₄ mit der zweiten Dichte ρ _G104 ): wobei x beträgt: 20 %, bevorzugt 10 % und noch weiter 5 %. Die vorstehenden Formeln (1) bis (4) gelten kumulativ. Mit anderen Worten sind das erste und zweite Material im Hinblick auf ihre Dichte vergleichbar, so dass in mechani- scher und/oder thermischer Hinsicht vertretbare Unterschiede zwischen diesen existieren. Bevorzugt weicht das Verhältnis der Dichten ρ _G102 , ρ _G104 des ersten und zweiten Materials G ₁₀₂ , G ₁₀₄ innerhalb der vorstehenden Grenzen von 1, von 1,0, von 1,00, von 1,000 oder von 1,0000 ab. Beispielsweise wird als erstes Material G ₁₀₂ ULE mit einer Dichte von 2,21 g/cm ³ (bei 25 °C), als zweites Material G ₁₀₄ ein Quarzglas mit einer Dichte von 2,20 g/cm ³ (bei 25 °C) eingesetzt. Entsprechend beträgt das Verhältnis ρ _G102 zu ρ _G104 1,005 und liegt damit innerhalb der vorstehend definierten Grenzen. Das erste und zweite Material können sich beispielsweise in dem Anteil und der Größe von Einschlüssen, insbesondere Blasen 108, 110, unterscheiden. Wie in Fig.3 zu sehen, ist der Durchmesser D ₁₁₀ der Blasen 110 in dem Material G ₁₀₄ größer als der Durchmesser D ₁₀₈ der Blasen 108 in dem Material G ₁₀₂ . Außerdem können sich das Material G ₁₀₂ und G ₁₀₄ im Hinblick auf den Anteil, ausgedrückt in Volumenprozent, der Blasen 108, 110 unterscheiden. Darüber hinaus oder al- ternativ können sich das erste und zweite Material G ₁₀₂ , G ₁₀₄ in einer Reihe wei- terer Eigenschaften unterscheiden: Beispielhaft sei nachfolgend genannt eine Brechzahlhomogenität, eine Spannungsdoppelbrechung, eine intrinsische Polari- sationsdoppelbrechung, ein Transmissionsvermögen, insbesondere bei der Be- triebswellenlänge des optischen Bauteils 100, eine Dichte oder eine Dichteände- rung in zumindest einer Raumrichtung, eine Härte oder eine Änderung der Härte in zumindest einer Raumrichtung, eine Slumping-Eigenschaft, eine Rau- heit und ein Beständigkeit gegenüber Kompaktierung oder/und Solarisierung insbesondere durch die Nutzstrahlung. Der thermische Ausdehnungskoeffizient des ersten Materials G ₁₀₂ ist bevorzugt mindestens zehnmal niedriger als ein thermischer Ausdehnungskoeffizient des Materials G ₁₀₄ , und zwar bei einer Temperatur des ersten und zweiten Materials G ₁₀₂ , G ₁₀₄ bei einer mittleren erwarteten Betriebstemperatur, die z.B. in einem Bereich zwischen 22°C und 32°C liegen kann. Nun zurückkehrend zu Fig.2 ist dort zu sehen, dass das optische Bauteil 100 mittels eines Aktuators 112 im Raum manipulierbar an einem Tragrahmen 114 der Lithographieanlage 1 abgestützt ist. Dazu weist das Tragelement 104 eine mechanische Schnittstelle 116 (z.B. einen Zapfen) auf. An der Schnittstelle 116 ist ein Festkörpergelenk 118 befestigt. Das Festkörpergelenk 118 verbindet einen Pin 120 um zwei Freiheitsgrade schwenkbar mit der Schnittstelle 116. Der Pin 120 wird mit Hilfe des Aktuators 112 entlang seiner Längsachse 122 verschoben, um die Lage des optischen Bauteils 100 beziehungsweise der optisch wirksamen Fläche 106 im Raum zu verändern. Bei der Schnittstelle 116 könnte es sich um jede andere mechanische Schnittstelle handeln. Zusätzlich oder alternativ kann das Tragelement 104 ein Messobjekt 124 aufwei- sen. Gemäß dem Ausführungsbeispiel handelt es sich bei dem Messobjekt 124 um einen Reflektor. Dieser reflektiert einen Messstrahl 126. Der Messstrahl 126 wird beispielsweise von einem Interferometer 128 ausgesandt, welches seiner- seits an einem Sensorrahmen 130 befestigt ist. Mit Hilfe der Messanordnung 132, umfassend das Interferometer 128 und das Messobjekt 124, kann die Ist-Po- sition (Lage und Orientierung) der optisch wirksamen Fläche 106 ermittelt wer- den. Fig.4 zeigt eine Draufsicht IV aus Fig.2, und zwar entgegen der z-Richtung (Hochrichtung) in Fig.2 gesehen. Die Vektoren x, y beschreiben eine horizontale Ebene, welche senkrecht zu dem Vektor z steht. Fig.5 zeigt eine Ansicht V aus Fig.4. Das optische Element 102 weist eine Haupterstreckungsebene H ₁₀₂ (siehe Fig.5) auf, das Tragelement 104 eine Haupterstreckungsebene H ₁₀₄ (siehe auch Fig.5). Die Haupterstreckungsebene ist diejenige Ebene, in der sich das jeweilige Bau- teil 102, 104 im Wesentlichen erstreckt. Die jeweilige Erstreckung in der Haupt- erstreckungsebene ist größer als in jeder anderen Ebene. Die Haupterstreckungs- ebene H ₁₀₂ , H ₁₀₄ liegt gemäß dem Ausführungsbeispiel jeweils in der xy-Ebene. In Fig.4 liegen die Haupterstreckungsebenen H ₁₀₂ , H ₁₀₄ (nicht gezeigt) überei- nander und jeweils parallel zur Papierebene. In ihrer jeweiligen Haupterstre- ckungsebene H ₁₀₂ , H ₁₀₄ weisen das optische Element 102 und das Tragelement 104 jeweils eine maximale Ausdehnung auf. Diese ist für das optische Element 102 dessen Durchmesser D102 und für das Tragelement 104 dessen Diagonale A ₁₀₄ . Der Durchmesser D102 beträgt weniger als 90 %, bevorzugt weniger als 80 % und weiter bevorzugt weniger als 75 % der Diagonale A ₁₀₄ . Senkrecht zu den Haupterstreckungsebenen H ₁₀₂ , H ₁₀₄ weisen das optische Ele- ment 102 und das Tragelement 104 jeweils eine maximale Dicke auf. Die Dicke gibt gemäß dem Ausführungsbeispiel die maximale Ausdehnung in der z-Rich- tung an. Die in Fig.5 gezeigte Dicke T ₁₀₂ (maximale Dicke) des optischen Ele- ments 102 beträgt vorzugsweise weniger als 90 %, bevorzugt weniger als 80 %, noch weiter bevorzugt weniger als 75 % der maximalen Dicke T ₁₀₄ des Tragele- ments 104. Wie ebenfalls in Fig.5 zu sehen, steht das optische Element 102 mit seiner Rückseite 134, also derjenigen Seite, die von der optisch wirksamen Flä- che 106 abgewandt ist, mit der Oberfläche 136 des Tragelements 4 in vollflächi- gem Kontakt. Die Oberfläche 136 (siehe auch Fig.2) des Tragelements 102 ist die dem optischen Element 102 zugewandte Fläche des Tragelements 104. Anstelle des gezeigten vollflächigen Kontakts über 100% der Rückseite 134 könnte auch vorgesehen sein, dass das optische Element 102 mit seiner Rückseite 134 (nur) zu zumindest 50 %, bevorzugt zumindest 75 % und noch weiter bevorzugt zumin- dest 90 % mit dem Tragelement 104 in Kontakt steht. Beispielsweise könnten Rippen an der Oberfläche 136 angeformt sein, welche den Kontakt der Rückseite 134 mit der Oberfläche 136 entsprechend reduzieren. Gemäß dem Ausführungsbeispiel sind das optische Element 102 und das Tragele- ment 104 einteilig ausgebildet, wobei gemäß dem Ausführungsbeispiel nach den Fig.2 bis 5 diese miteinander stoffschlüssig geformt sind. Der Stoffschluss wird dadurch hergestellt, dass das optische Element 102 und das Tragelement 104 be- vorzugt miteinander verschmolzen, aneinandergeklebt oder aneinandergesprengt sind. Bevorzugt wird eine thermische Verbindung, bei der in einer Umgebung der Trennfläche (Rückseite 134, Oberfläche 136) hohe Temperaturen oberhalb der Glastemperatur eingestellt werden, so dass sich dort das optische Element 102 und das Tragelement 104 miteinander verbinden. Beim Abkühlprozess werden vorzugsweise eingefrorene thermische Spannungen weitgehend vermieden, was zum Beispiel durch das Einhalten einer vorgegebenen Kühlkurve erreicht wird, bei der besonders bei einer hohen Temperatur ein Maximalwert für den zeitli- chen Temperaturgradienten nicht überschritten wird. Nachfolgende Temper- schritte können alternativ solche Spannungen entspannen. Insbesondere kann auch vorgesehen sein, dass ein Verschweißen an der Grenzfläche vorgesehen wird. Beispielsweise kann ein Laserstrahl 138 einer Laserquelle 140 an der Grenzfläche dazu eingesetzt werden, die Oberflächen 134, 136 miteinander zu verschmelzen. Fig.15 illustriert insoweit in einem Flussdiagramm ein Ausführungsbeispiel ei- nes Verfahrens zum Herstellen des Bauteils 100, beispielsweise wie in den Fig.2 bis 5 beschrieben. In einem Schritt K1 wird das optische Element 102 mit dem Material G ₁₀₂ gefer- tigt. In einem Schritt K2 wird das Tragelement 104 mit dem Material G ₁₀₄ gefer- tigt. Beispielsweise kann der Schritt K2 vor, nach oder gleichzeitig mit dem Schritt K1 stattfinden. In einem Schritt K3 werden das optische Element 102 und das Tragelement 104 derart miteinander verbunden (beispielsweise geklebt, aneinander gesprengt, gelasert oder auf andere Weise verschmolzen), dass das Tragelement 104 das optische Element 102 trägt. Dies schließt die Möglichkeit ein, dass das optische Element 102 und das Tragelement 104 einteilig urgeformt (etwa durch Gießen oder in einem Slumping-Verfahren, vgl. auch die nachstehen- den Erläuterungen in Bezug auf Fig.13 und 14) werden und damit schon in ei- nem gemeinsamen Herstellungsprozess miteinander verbunden werden. Weiter- hin kann zunächst das Tragelement 104 hergestellt und hierauf das optische Ele- ment 102 urgeformt und dadurch gleichzeitig mit dem Tragelement 104 verbun- den werden. Ferner besteht die Möglichkeit, dass das Tragelement 104 auf dem optischen Element 102 durch Urformen erzeugt und dadurch mit diesem verbun- den wird. Insbesondere werden das optische Element 102 und/oder Tragelement 104 mate- rialabtragend bearbeitet, um das optische Bauteil 100 für seinen Einsatzzweck, insbesondere in einer Projektionsbelichtungsanlage 1, geeignet herzustellen. Ein Abtragverfahren kann insbesondere ein Fräsen oder Polieren umfassen. Je nach zu erreichender Bearbeitungsqualität wird die Abtragrate, d.h., das pro Zeitein- heit abgetragene Materialvolumen, beispielsweise in mm ³ /h, mehr oder weniger variiert. Für das hochqualitative optische Element 102 variiert die Abtragrate, mit der das erste Material G ₁₀₂ abgetragen wird, über den gesamten materialab- tragenden Bearbeitungsprozess vorzugsweise um mehr als 20%, weiter bevorzugt um mehr als 30%, noch weiter bevorzugt um mehr als 50%. Dadurch kann der Bearbeitungsprozess hochgenau an die jeweilige, insbesondere kristalline Struk- tur des ersten Materials G ₁₀₂ angepasst werden. Demgegenüber variiert die Ab- tragrate in Bezug auf das zweite Material G ₁₀₄ (wiederum über den gesamten materialabtragenden Bearbeitungsprozess) um weniger als 50%, bevorzugt um weniger als 30% und noch weiter bevorzugt um weniger als 20%. Eine hochge- naue Bearbeitung des zweiten Materials G ₁₀₄ ist vorzugsweise nicht vorgesehen, um den Aufwand zu reduzieren. Fig.6 zeigt in einer Schnittansicht ein optisches Bauteil 100 gemäß einer weite- ren Ausführungsform. Bei dieser ist das optische Element 102 in das Tragele- ment 104 derart eingebettet, dass es sowohl mit seiner Rückseite 134 als auch mit einer Umfangsfläche 142 an einer korrespondierenden Oberfläche 136 bezie- hungsweise korrespondierende Seitenflächen 144 des Tragelements 104 anliegt und/oder dort befestigt ist. Insbesondere können die Oberfläche 136 und die Sei- tenflächen 144 eine topfartige Vertiefung 145 definieren, in welche das optische Element 102 eingepasst ist. Die Umfangsfläche 142 kann unter einem Winkel α von 90° zur Rückseite 134 stehen. Es sind jedoch auch andere, von 90° abwei- chende Winkel denkbar. Beispielsweise kann der Winkel α zwischen 90° und 110° betragen. Dies kann ein Einpassen des optischen Elements 102 in das Tragele- ment 104 beziehungsweise in die entsprechende topfartige Öffnung erleichtern. Fig.7 zeigt ein weiteres Beispiel eines optischen Elements 100. Bei dieser im Schnitt gezeigten Ausführungsform beträgt der zwischen der Rückseite 134 und der Umfangsfläche 142 aufgespannte Winkel α kleiner 90°, beispielsweise zwi- schen 70° und 90°, insbesondere zwischen 70° und 85°. Bei dieser Ausführungs- form ist das optische Element 102 in das Tragelement 106 beziehungsweise in die von diesem gebildete topfförmige Öffnung eingegossen. In der in Fig.8 gezeigten Schnittansicht eines optischen Elements 100 gemäß ei- ner weiteren Ausführungsform ist das optische Element 102 an dem Tragelement 104 mit Hilfe eines Klebstoffs 146 angeklebt. Insbesondere ist dort die Rückseite 134 des optischen Elements 102 mit der Oberfläche 136 des Tragelements 104 verklebt. Entsprechend zeigt Fig.8 ein Beispiel einer mittelbaren Befestigung des opti- schen Elements 102 an dem Tragelement 104. Dies im Unterschied zu den Aus- führungsbeispielen nach den Fig.2 bis 7, bei denen das optische Element 102 vorzugsweise unmittelbar am Tragelement 104, insbesondere stoffschlüssig, be- festigt ist. Auch Fig.9 zeigt eine Ausführungsform einer mittelbaren Befestigung. Bei die- ser ist das optische Element 102 mit Hilfe einer Zwischenfassung 148 an dem Tragelement 104 befestigt. Die Zwischenfassung 148 kann aus Metall, beispiels- weise Invar, hergestellt sein. Die Zwischenfassung 148 hält das optische Element 102 beabstandet von dem Tragelement 104. Die Zwischenfassung 148 kann bei- spielsweise mit Hilfe von Schrauben 150 oder anderen Befestigungsmitteln an dem Tragelement 104 befestigt sein. Das optische Element 102 kann beispielsweise auf Halteelemente, insbesondere Füßchen 152, der Zwischenfas- sung 148 geklebt sein, wobei auch andere Befestigungsmöglichkeiten denkbar sind. Fig.10 zeigt eine Ausführungsform eines optischen Bauteils 200, bei dem als op- tisches Element 202 eine Linse vorgesehen ist. Fig.10 zeigt dabei das optische Bauteil 200 in einer Seitenansicht. Das optische Element 202 ist in ein Tragelement 204 integriert. Das Tragelement 204 ist an einem Tragrahmen 214 einer nicht näher dargestellten DUV-Lithogra- phieanlage befestigt. Dazu kann beispielsweise eine Fassung 260 vorgesehen sein, welche das Tragelement 204 mit dem Tragrahmen 214 verbindet. Arbeits- beziehungsweise Nutzlicht 262 fällt auf eine optisch wirksame Fläche 206 des optischen Elements 202 und durchdringt dieses auf seinem Weg etwa zu einem nicht dargestellten Wafer. Das optische Element 202 ist an seiner Umfangsfläche 242 einteilig mit dem Tra- gelement 204 gebildet. Die Umfangsfläche 242 beschreibt beispielsweise, wie in Fig.11 zu erkennen, eine ringförmig geschlossene Kontur. Die Kontur kann bei- spielsweise kreisrund, oval, rechteckförmig mit abgerundeten Ecken, trapezför- mig oder sonst geeignet gebildet sein. Entscheidend für die Geometrie der Um- fangsfläche 242 ist lediglich, dass eine Abbildung mit Hilfe des optischen Ele- ments 202 mit ausreichender Qualität gelingt. An seiner Umfangsfläche 242 ist das optische Element 202 mit dem Tragelement 204 insbesondere stoffschlüssig verbunden. Dies kann insbesondere durch Verschmelzen des optischen Elements 202 mit dem Tragelement 204 bewerkstelligt sein. Das optische Bauteil 200 beziehungsweise das optische Element 202 und das Tragelement 204 können gemeinsam eine scheibenförmige Geometrie definieren. Diese ist gemäß dem Ausführungsbeispiel an zumindest einer Seite gekrümmt, im Ausführungsbeispiel die Seite 264, welche auch die optisch wirksame Fläche 206 enthält. Die gegenüberliegende Seite 266 kann gerade ausgeführt sein. Grundsätzlich kann das optische Bauteil 200 beziehungsweise können dessen Seiten(-flächen) 264, 266 eine bikonvexe, plankonvexe, konkav-konvexe, konvex- konkave, plankonkave oder bikonkave Gestalt definieren. Vorzugsweise ist die Seite 264 beziehungsweise die entsprechende Oberfläche kontinuierlich, das heißt insbesondere ohne Stufe, mit dem Bereich der optisch wirksamen Fläche 206 gebildet. Auch die Lichtaustrittsseite 268 des optischen Elements 202 ist vor- zugsweise kontinuierlich, das heißt insbesondere ohne Stufe, mit dem umgeben- den Bereich der Seite 266 gebildet. In Fig.10 sind die Haupterstreckungsebenen H ₂₀₂ , H ₂₀₄ des optischen Elements 202 bzw. des Tragelements 204 dargestellt (siehe Fig.10). Eine Diagonale A ₂₀₂ in Fig.11 entspricht der maximalen Ausdehnung des optischen Elements 202 in sei- ner Haupterstreckungsebene H ₂₀₂ . Die maximale Ausdehnung des Tragelements 204 in seiner Haupterstreckungsebene H ₂₀₄ entspricht seinem Durchmesser D ₂₀₄ (siehe Fig.11). Die maximale Ausdehnung A ₂₀₂ beträgt weniger als 90 % der ma- ximalen Ausdehnung D ₂₀₄ , bevorzugt weniger als 80 % und noch weiter bevorzugt weniger als 75 %. Im Ausführungsbeispiel nach den Fig.10 und 11 beträgt dieser Wert 85 %. Im Besonderen können so auch Linsensysteme hergestellt werden, die Bereiche (Linse 202) mit hoher Brechzahlhomogenitätsanforderung, mit niedriger Span- nungsdoppelbrechung, mit einem oberhalb einer vorbestimmten Grenze liegen- den Transmissionsvermögen für die Betriebswellenlänge und/oder mit einer ho- hen Robustheit gegenüber Bestrahlung bei der Betriebswellenlänge (zum Bei- spiel in Hinsicht auf Kompaktierung oder Solarisierung) aufweisen und/oder durch eine besondere, etwa niedrige oder vorgegebene orientierte intrinsische Doppelbrechung im optisch durchtretenen Volumen und entspannte Anforderun- gen außerhalb (im Bereich des Tragelements 204) davon charakterisiert sind. Speziell katadioptrische Designs mit geometrischer Strahlteilung nutzen feld- nahe Linsensysteme mit einem außeraxialen Fußabdruck, während zwecks me- chatronischer Kompatibilität und symmetrischer Fassungstechnik oftmals ein ro- tationssymmetrischer Linsenkörper (Linse 202) verbaut wird. Das Zusammen- oder Einfügen (siehe Fig.1 bis 5, 8, 9 beziehungsweise Fig.6, 7, 10 und 11) des optischen Elements 102, 202 mit beziehungsweise in das Tragele- ment 104, 204 kann zu Deformationen führen, so dass nachfolgende Bearbei- tungsschritte zum Einstellen der Endpasse nötig werden. Alternativ ist es mög- lich, alle Bearbeitungsschritte einschließlich der Beschichtung vor dem Einfügen des optischen Elements 102, 202 in das Tragelement 104, 204 beziehungsweise vor dem Zusammenfügen durchzuführen und die Deformation infolge des Füge- prozesses durch nachfolgende lokal variable Materialkompaktierung mittels Elektronen- oder Ionenbestrahlung in einem Verfahren, wie etwa ICE-T, auszu- gleichen. Derartige Verfahren sind beispielsweise in den Druckschriften DE 10 2011084 117 A1, DE 102015201141 A1, DE 102012223669 A1, DE 102014 225197 A1, WO 2017/148577 A1 und DE 102015223795 A1 beschrieben. Anhand der Fig.12 wird nachfolgend eine Ausführungsform eines Verfahrens zum Herstellen eines optischen Bauteils 100, 200 näher erläutert. In einem ersten Schritt S1 wird ein Simulationsmodell definiert, welches das op- tische Bauteil 100, 200 umfasst. Dabei erfolgt zunächst eine Auswahl relevanter Nutzungsszenarien. Diese bestehen aus einer oder mehreren Beleuchtungsvertei- lungen und zugehörigen (dominierenden) Maskenstrukturen, die jeweils eine Beugungsverteilung nach Retikel 7 (siehe Fig.1) definieren. Anhand einer vorge- gebenen Quellleistung und dem Transmissionsvermögen aller optischer Ele- mente – insbesondere derjenigen der optischen Elemente 102, 202 – im Lichtweg 16 (siehe Fig.1) wird für das betreffende optische Element 102, 202 die lokal va- riable Bestrahl-Intensität ermittelt. Ausgehend vom gegebenenfalls einfallswin- kelabhängigen Absorptionsverhalten des optischen Elements 102, 202 wird er- mittelt, welche Leistung jeweils lokal absorbiert wird. In einem zweiten Schritt S2 können nun verschiedene Auslegungen des opti- schen Bauteils 100, 200, wie etwa anhand der Fig.5 bis 11 illustriert, mecha- nisch und/oder thermal modelliert werden. Dabei wird beispielsweise unter Be- rücksichtigung der Bestrahl-Historie eine Temperaturverteilung in jeder Vari- ante ermittelt, wozu beispielsweise eine Finite-Elemente-Simulation dienen kann. Gemeinsam mit Annahmen zu Wärmeausdehnungskoeffizienten der betei- ligten Materialien G ₁₀₂ , G ₁₀₄ wird anschließend eine resultierende Brechzahlän- derung und/oder Oberflächendeformation berechnet. Mit Hilfe einer optischen Durchrechnung wird dafür das entstehende Aberrationsmuster oder Aberrations- niveau bestimmt. Das Aberrationsniveau kann beispielsweise als ein RMS ("root mean square")-Wert der Wellenfront oder als ein Maximum aller Zerlegungskoef- fizienten der Wellenfront nach Zernikefunktionen bis zur Ordnung 100 definiert sein. In der Simulation gemäß Schritt S2 kann auch ein Herstellaufwand für das opti- sche Bauteil 100, 200 ermittelt werden. Dieser kann beispielsweise Maschinen- stunden (z.B. auf einer Fräse), Materialkosten etc, umfassen. In einem Schritt S3 wird beispielsweise das simulierte Ist-Aberrationsniveau (vorliegend auch "Ist-Eigenschaft" bzw. handelt es sich hierbei um eine der „Ei- genschaften des optischen Bauteils“) mit einem Soll-Aberrationsniveau (vorlie- gend auch "Soll-Eigenschaft") verglichen. Insbesondere kann ein simulierter Ist- RMS-Wert der Wellenfront mit einem Soll-RMS-Wert der Wellenfront verglichen werden. Ferner kann ein simulierter Ist-Herstellaufwand mit einem Soll-Her- stellaufwand verglichen werden. Entspricht entweder die simulierte Ist-Eigenschaft nicht der gewünschten Soll- Eigenschaft (liegt etwa der simulierte Ist-RMS-Wert oberhalb eines Soll-RMS- Werts) oder liegt der Ist-Herstellaufwand über dem Soll-Herstellaufwand, so er- folgen Schritte S4 und S5. Die Schritte S4 und S5 können jeweils oder wahlweise durchgeführt werden. Gemäß dem Schritt S4 wird das Simulationsmodell angepasst. Insbesondere wird dabei eine Dimension der optischen Elemente 102, 202 und/oder der Tragele- mente 104, 204 abgeändert. Zusätzlich oder alternativ kann beispielsweise auch das erste und/oder zweite Material G ₁₀₂ , G ₁₀₄ verändert werden. Insbesondere kann, wenn eine gewünschte Soll-Aberration noch nicht erreicht wird, das erste Material G ₁₀₂ verbessert werden. Beispielsweise kann ein Material mit einer ver- besserten Brechzahlhomogenität, mit einem geringeren Anteil und/oder einer ge- ringeren Größe von Einschlüssen, einer geringeren Spannungsdoppelbrechung beziehungsweise einem geringeren Kontrastverlust, einer spezifischen intrinsi- schen Spannungsdoppelbrechung, einem höheren Transmissionsvermögen, einer höheren Dichte beziehungsweise Härte oder geringeren Änderung derselben in zumindest einer Raumrichtung, einer verbesserten Slumping-Eigenschaft, einer geringeren Kompaktierung oder Solarisierung verwendet werden. Anders herum kann auch, wenn die Ist-Aberration besser als die Soll-Aberration ist, die opti- sche Qualität des zweiten Materials reduziert werden, um den Herstellaufwand zu mindern und somit ein Herstellbudget zu erfüllen. Als Beispiel können so eine Reihe veredelnder Fertigungsschritte, wie etwa die Vorpolitur hin zu einer erforderlichen Oberflächenqualität, zum Beispiel bezüg- lich der Rauheit, nur für das optische Element 102, 202 beziehungsweise das erste Material G ₁₀₂ durchgeführt werden, nicht jedoch für das Tragelement 104, 204. Dadurch können kleinere Werkzeuge bei der Herstellung eingesetzt werden, die Bearbeitungszeit verringert sich und bei Transport- und Spannvorgängen sind kleinere Massen zu handhaben. Dies verringert den technischen Aufwand sowie oftmals die Ausschussrate. Statt das Simulationsmodell gemäß Schritt S4 anzupassen, kann es genügen, ge- eignete Korrekturmittel vorzusehen, um die Ist-Eigenschaft an die Soll-Eigen- schaft anzupassen. Das Hinzufügen entsprechender Korrekturmittel kann derart beschaffen sein, dass es den Herstellaufwand nur unwesentlich erhöht. Zu den Korrekturmitteln können beispielsweise weitere etwa in Starrkörperfreiheitsgra- den manipulierbare optische Elemente im Strahlengang vor oder nach dem opti- schen Element 102, 202 gehören. Weiter können thermisch beeinflussbare Optik- teile, deformierbare Spiegel, Alvarez-Elemente etc. im Strahlengang vor und/oder nach dem optischen Element 102, 202 vorgesehen werden. Dies dient insbeson- dere der Korrektur von optischen Restfehlern der simulierten Projektionsbelich- tungsanlage 1 (oder auch eines sonstigen optischen Systems). Ein Beispiel für ein solches Korrekturmittel ist der Aktor 112 (siehe Fig.2), welcher dazu eingerich- tet ist, die Lage des optischen Elements 102 im Raum zu manipulieren (siehe Fig.2). Entspricht das Ist-Aberrationsniveau dem Soll-Aberrationsniveau (oder liegt es darunter) und liegt der Ist-Herstellaufwand unterhalb des Soll-Herstellauf- wands, das heißt im Budget, so wird in einem Schritt S6 (siehe Fig.12) das opti- sche Bauteil 100, 102 gemäß den simulierten Merkmalen hergestellt. In Fig.13 ist ein Verfahrensschritt bei der Herstellung des optischen Elements 102 in einem Slumping-Verfahren dargestellt. Fig.13 zeigt im Schnitt ein Form- werkzeug 300, Fig.14 eine Draufsicht XIV aus Fig.13. Die Herstellung des optischen Elements 102 im Slumping-Verfahren entspricht beispielsweise dem in Fig.15 gezeigten Verfahrensschritt K1. Dazu werden auf dem Formwerkzeug 300 mehrere Schichten 302 bis 306 mit Schichtdicken S ₃₀₂ bis S ₃₀₆ beispielsweise aus einem Glassubstrat aufgebaut. Die noch weichen Schichten 302 bis 306 nehmen die Form einer äußeren (convexen) Kontur 308 des Formwerkzeugs 300 an, so dass die optisch wirksame Fläche 106 mit der ge- wünschten Kontur erzeugt wird. Die gezeigten drei Schichten 302 bis 306 sind rein beispielhaft. In der Realität wird ein Vielfaches solcher Schichten erzeugt. Das Tragelement 104 kann ebenfalls in einem (aufwendigen) Slumping-Verfah- ren hergestellt werden. Alternativ kann das Tragelement 104 ohne Anwendung eines Slumping-Verfahrens hergestellt werden, etwa durch ein materialabtragen- des Verfahren, wie beispielsweise Fräsen und/oder Polieren, aus einem Vollmate- rial. Werden jedoch das optische Element 102 und das Tragelement 104 in einem Slumping-Verfahren hergestellt, geschieht dies vorzugsweise derart, dass die je- weils erreichte Ist-Schichtdicke (beispielsweise die Schichtdicken S ₃₀₂ bis S ₃₀₆ ) im ersten Material G ₁₀₂ (des optischen Elements 102) maximal oder im Mittel weni- ger stark von der angestrebten Soll-Schichtdicke (festgelegt etwa in einem CAD- Model des optischen Elements 102) abweicht als das bei den nicht-dargestellten Schichtdicken des zweiten Materials G ₁₀₄ (des Tragelements 104) der Fall ist. Insbesondere kann eine Ist-Schichtdicke des ersten Materials G ₁₀₂ weniger 10%, bevorzugt weniger 20% oder weiter bevorzugt weniger 50% näher an der jeweili- gen Soll-Schichtdicke liegen als bei dem zweiten Material G ₁₀₄ . Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen beschrie- ben wurde, ist sie vielfältig modifizierbar. BEZUGSZEICHENLISTE 1 Projektionsbelichtungsanlage 2 Beleuchtungssystem 3 Lichtquelle 4 Beleuchtungsoptik 5 Objektfeld 6 Objektebene 7 Retikel 8 Retikelhalter 9 Retikelverlagerungsantrieb 10 Projektionsoptik 11 Bildfeld 12 Bildebene 13 Wafer 14 Waferhalter 15 Waferverlagerungsantrieb 16 Beleuchtungsstrahlung 17 Kollektor 18 Zwischenfokusebene 19 Umlenkspiegel 20 erster Facettenspiegel 21 erste Facette 22 zweiter Facettenspiegel 23 zweite Facette 100 optisches Bauteil 102 optisches Element 104 Tragelement 106 optisch wirksame Fläche 108 Blase 110 Blase 112 Aktuator 114 Tragrahmen 116 Schnittstelle 118 Festkörpergelenk 120 Pin 122 Längsachse 124 Messobjekt 126 Messstrahl 128 Interferometer 130 Sensorrahmen 132 Messanordnung 134 Rückseite 136 Oberfläche 138 Laser 140 Laserquelle 142 Umfangsfläche 144 Seitenfläche 145 Vertiefung 146 Klebstoff 148 Zwischenfassung 150 Schraube 152 Füßchen 200 optisches Bauteil 202 optisches Element 204 Tragelement 206 optisch wirksame Fläche 214 Tragrahmen 242 Umfangsfläche 245 Durchgangsöffnung 260 Fassung 262 Arbeitslicht 264 Seite 266 Seite 268 Austrittsfläche 300 Formwerkzeug 302 Schicht 304 Schicht 306 Schicht 308 Kontur α Winkel A ₁₀₄ Diagonale A ₂₀₂ Diagonale D ₁₀₂ Dimension D ₂₀₄ Dimension H ₁₀₂ Haupterstreckungsebene H ₁₀₄ Haupterstreckungsebene H ₂₀₂ Haupterstreckungsebene H ₂₀₄ Haupterstreckungsebene K1 bis K3 Verfahrensschritte M1 Spiegel M2 Spiegel M3 Spiegel M4 Spiegel M5 Spiegel M6 Spiegel S1 bis S6 Verfahrensschritte S ₃₀₂ Schichtdicke S ₃₀₄ Schichtdicke S ₃₀₆ Schichtdicke T ₁₀₂ Dicke T ₁₀₄ Dicke x, y, z Raumrichtungen