Optische Vorrichtung und Verfahren zur Steuerung einer optischen Vorrichtung

Die vorliegende Anmeldung nimmt die Priorität der deutschen Patentanmeldung Nr. 10 2021 200 113.0 in Anspruch, deren Inhalt durch Verweis hierin vollständig mit aufgenommen wird.

Die Erfindung betrifft eine optische Vorrichtung aufweisend eine Mehrzahl an optisch aktiven Oberflächen, wobei die Oberflächen jeweils mittels einer eigenen, der Oberfläche zugeordneten und autonom steuerbaren Manipulationseinrichtung verkippbar sind.

Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Steuerung einer optischen Vorrichtung, welche eine Mehrzahl von optisch aktiven Oberflächen aufweist, wobei jede Oberfläche autonom ansteuerbar ist, um die Oberfläche zu verkippen.

In bekannter Weise beeinflussen optische Elemente die Eigenschaften mit ihnen wechselwirkender Lichtwellen. Insbesondere Oberflächen von optischen Elementen tragen einen wesentlichen Teil zu dieser Beeinflussung bei, da an den Oberflächen beispielsweise eine Reflexion und/oder eine Brechung stattfinden kann. Als optische Elemente sind beispielsweise planare Spiegel, Hohlspiegel, Wölbspiegel, Facettenspiegel, konvexe Linsen, konkave Linsen, konvexkonkave Linsen, plankonvexe Linsen und plankonkave Linsen zu nennen. Oberflächen von Hohlspiegeln und Wölbspiegeln weisen hierbei Krümmungsradien auf, wodurch beispielsweise ein Brennpunkt bzw. Fokus ausgebildet werden kann.

Bei einem Facettenspiegel sind eine Vielzahl von segmentartigen, planaren und/oder gekrümmten Einzelspiegeln zusammengefasst. Hierbei sind die segmentartigen Einzelspiegel verkippbar, so dass jeder segmentartige Einzelspiegel auf den Facettenspiegel einfallendes Licht in eine andere Richtung reflektieren kann.

Projektionsbelichtungsanlagen weisen eine Vielzahl optischer Elemente auf. Insbesondere bei der Verwendung der optischen Elemente in einer mikrolithografischen DUV (Deep Ultra Violettj-Projektionsbelich- tungsanlage und ganz besonders bei der Verwendung in einer mikrolithografischen EUV (Extrem Ultra Violettj-Projektionsbelichtungsanlage ist eine dynamische Anpassbarkeit der optischen Elemente, beispielsweise zur Realisierung verschiedener Beleuchtungsmodi, von besonderer Bedeutung.

Im Beleuchtungssystem von EUV-Lithografieanlagen werden Feldfacetten eines Feldfacettenspiegels unterschiedlich positionierten Pupillenfacetten zugeordnet. Aufgrund der unterschiedlichen Winkelanordnung und der unterschiedlichen Abstände kann dabei keine optimale Spotgröße eingestellt werden. Die bekannten technischen Lösungen weichen alle mehr oder weniger von einem Idealbild ab, wobei auch äußere Störeinflüsse, wie zum Beispiel thermische Effekte, die Einsteilbarkeit limitieren. Dies führt zu Verlusten in der Transmission und schlechteren Abbildungseigenschaften der bekannten Systeme. Aus der DE 10 2015 204 874 A1 ist eine Verlagerungseinrichtung zur Verschwenkung eines Spiegelelements mit zwei Schwenkfreiheitsgraden bekannt, welche eine Elektrodenstruktur mit Aktuatorelektroden umfasst, wobei die Aktuatorelektroden als Kammelektroden ausgebildet sind. Hierbei sind sämtliche Aktuatorelektroden in einer einzigen Ebene angeordnet und die Aktuatorelektroden bilden einen Direktantrieb zur Verschwenkung des Spiegelelements.

Aus der GB 2468557 A ist ein optisches Element mit einer Abbildungsfehler- und Positionskorrektureinrichtung bekannt.

Nachteilig bei aus dem Stand der Technik bekannten makroskopischen Facettenspiegeln, insbesondere Feldfacettenspiegeln, mit festen Krümmungsradien der Facetten ist die Tatsache, dass bei einer dynamischen Verkippung der segmentartigen Einzelspiegel beispielsweise eine Lage eines Fokus nicht mit einem neuen Zielsegment zusammenfällt, da eine Krümmung des Einzelspiegels auf ein anderes Zielsegment optimiert ist.

Ferner ist durch eine Verkippung der Einzelspiegel die Bildung eines Brennpunktes, welcher durch das Zusammenwirken mehrerer Einzelspiegel ausgebildet wird, nicht möglich.

Nachteilig bei aus dem Stand der Technik bekannten optischen Elementen für Projektionsbelichtungsanlagen ist, dass deren Brennpunkteigenschaften nicht während eines Betriebs der Projektionsbelichtungsanlage dynamisch anpassbar sind.

Aus der vorgenannten DE 102015204874 A1 , ist eine Verlagerungseinrichtung zur Verschwenkung eines Spiegelelements bekannt, welche wenigstens teilweise mittels sogenannter MEMS-Technologie (mikroelektromechanische System-Technologie) ausgebildet ist.

Ferner nachteilig bei aus dem Stand der Technik bekannten optischen Elementen ist deren Bauweise aus einer Mehrzahl an Bauteilen, was zu einem erhöhten Fehlfunktionsrisiko und/oder Ausfallrisiko führen kann.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine optische Vorrichtung zu schaffen, welche die Nachteile des Standes der Technik vermeidet, insbesondere eine verbesserte Einsteilbarkeit ermöglicht.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch eine Vorrichtung mit den in Anspruch 1 genannten Merkmalen gelöst.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe auch durch eine Vorrichtung mit den in Anspruch 2 genannten Merkmalen gelöst. Der vorliegenden Erfindung liegt ferner die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Steuerung einer optischen Vorrichtung zu schaffen, welches die Nachteile des Standes der Technik vermeidet, insbesondere eine verbesserte Einstellung ermöglicht.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch ein Verfahren mit den in Anspruch 13 genannten Merkmalen gelöst.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Computerprogrammprodukt zu schaffen, welches die Nachteile des Standes der Technik vermeidet, insbesondere eine verbesserte Einstellung ermöglicht.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Lithografiesystem zu schaffen, welches die Nachteile des Standes der Technik vermeidet, insbesondere optische Elemente, insbesondere wenigstens einen Feldfacettenspiegel, aufweist, der eine verbesserte Abbildung ermöglicht.

Die erfindungsgemäße optische Vorrichtung nach Anspruch 1 weist eine Mehrzahl an optisch aktiven Oberflächen auf, wobei die Oberflächen jeweils mittels einer eigenen, der Oberfläche zugeordneten und autonom steuerbaren Manipulationseinrichtung verkippbar sind. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die Manipulationseinrichtung eingerichtet ist, um die Oberfläche zu positionieren und zu verkrümmen, wobei eine Gesamtsteuereinrichtung vorgesehen ist, welche die Manipulationseinrichtungen derart steuert, dass wenigstens zwei der Oberflächen im planvollen und koordinierten Zusammenwirken eine Gesamtoberfläche ergeben.

Die erfindungsgemäße optische Vorrichtung nach Anspruch 2 weist eine Mehrzahl an optisch aktiven Oberflächen auf, wobei die Oberflächen jeweils mittels einer eigenen, der Oberfläche zugeordneten und autonom steuerbaren Manipulationseinrichtung verkippbar sind. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die Manipulationseinrichtung eingerichtet ist, um die Oberfläche zu positionieren und/oder zu verkrümmen, wobei eine Gesamtsteuereinrichtung vorgesehen ist, welche die Manipulationseinrichtungen derart steuert, dass wenigstens zwei der Oberflächen im planvollen und koordinierten Zusammenwirken eine Gesamtoberfläche ergeben, wobei jede Oberfläche über eine eigene Steuereinrichtung verfügt, welche eingerichtet ist, um die Verkippung und die Verkrümmung und/oder die Positionierung der jeweiligen Oberfläche zu steuern und wobei die Gesamtsteuereinrichtung alle Oberflächen derart steuert, dass unter Beibehaltung einer definierten Verkippung der einzelnen Oberflächen die Oberflächen insgesamt derart positioniert und/oder verkrümmt werden, dass Spalten zwischen benachbarten, zueinander verkippten Oberflächen der Gesamtoberfläche reduziert, vorzugsweise minimiert, sind.

Nachfolgend werden vorteilhafte Merkmale und Ausgestaltungen der beiden erfindungsgemäßen Vorrichtungen beschrieben.

Durch eine Kombination des Freiheitsgrades der Verkippung mit wenigstens einem der beiden Freiheitsgrade Verkrümmung und/oder Positionierung, kann die durch die einzelnen Oberflächen ausgebildete Gesamtoberfläche annähern frei geformt werden. Die hat den Vorteil, dass mittels einer einzelnen optischen Vorrichtung eine große Anzahl verschiedener formender und leitender Einwirkungen auf eine auf die optische Vorrichtung einfallende Wellenfront ausgeübt werden kann.

Unter einem planvollen und koordinierten Zusammenwirken kann insbesondere ein aufeinander abgestimmtes Zusammenwirken der Oberflächen verstanden werden.

Ferner kann vorgesehen sein, dass die Gesamtoberfläche von wenigstens einer Gruppe, vorzugsweise einer Mehrheit, insbesondere über 90 Prozent der Oberflächen ausgebildet ist.

Durch die zusätzlichen Freiheitsgrade, wie die Bewegung der Oberfläche in eine zu der Oberfläche orthogonalen Richtung und/oder die Änderung des Krümmungsradius der Oberfläche, wird die Einsteilbarkeit des optischen Elements erheblich verbessert.

Dadurch ist es auch möglich, Störeffekte, wie zum Beispiel die Krümmung der Oberfläche durch thermische Effekte, zu kompensieren. Die aus dem Stand der Technik bekannten optischen Vorrichtungen sind zwar geeignet, die Oberflächen in einer gewünschten Weise zu verkippen, wobei auch teilweise eine Höhenverstellung, d. h. eine Verstellung orthogonal zur Oberfläche der Spiegel, möglich ist oder Deformationen der Oberfläche ausgeglichen werden können, allerdings offenbaren die bekannten optischen Vorrichtungen keine planvolle und koordinierte Steuerung der Oberflächen derart, dass eine Gesamtoberfläche, d. h. eine innerhalb der Systemgrenzen beliebig geformte Gesamtoberfläche, eingestellt werden kann.

Von besonderem Vorteil ist es, wenn die einzelnen Oberflächen derart ansteuerbar sind, dass, vorzugsweise gleichzeitig, eine Verkippung der jeweiligen Oberfläche, eine Höhenverstellung der Oberfläche und eine Verkrümmung bzw. eine Deformation der Oberfläche durchführbar bzw. einstellbar ist.

Bei den Oberflächen kann es sich im Rahmen der Erfindung insbesondere um Oberflächensegmente handeln.

Durch die erfindungsgemäße Vorrichtung wird demnach ein im Vergleich zu dem Stand der Technik noch präziseres Nachbilden einer beliebigen optischen Fläche ermöglicht.

In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen optischen Vorrichtung kann vorgesehen sein, dass die Gesamtsteuereinrichtung eingerichtet ist, um die Manipulationseinrichtungen derart zu steuern, dass Spalten zwischen benachbarten, zueinander verkippten Oberflächen durch eine Positionierung und/oder eine Verkrümmung der Oberflächen reduziert sind.

Die erfindungsgemäße Vorrichtung ermöglicht demnach durch eine Verkippung von einzelnen Oberflächen in Kombination mit deren translatorischer Positionierung und/oder deren Verkrümmung eine Ausbildung einer durch die Oberflächen ausgebildeten Fläche, welche ein reduziertes Auftreten von Spalten zwischen den einzelnen Oberflächen aufweist.

Im Rahmen der Erfindung können auch Versätze zwischen den einzelnen Oberflächen als Spalten verstanden werden, welche in Richtung der Flächennormalen und nicht in der Ebene der Oberflächen ausgebildet sind.

Eine derart ausgebildete Fläche bietet den Vorteil, dass Störungen der Strahlungsformungsfunktion der Fläche durch Spalten zwischen Oberflächen reduziert sind.

Im Rahmen der Erfindung hat sich herausgestellt, dass eine Kombination einer Verkippung der Oberflächen mit deren Positionierung und/oder deren Krümmung eine hinreichend gute Vermeidung von Spalten ermöglicht.

Benachbarte Oberflächen können als zueinander verkippt verstanden werden, wenn wenigstens eine der Oberflächen gegenüber ihrer Ausgangsausrichtung verkippt ist.

In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen optischen Vorrichtung kann vorgesehen sein, dass die Gesamtsteuereinrichtung die Manipulationseinrichtungen derart steuert, dass Spalten zwischen benachbarten, zueinander verkippten Oberflächen durch eine Positionierung und/oder eine Verkrümmung der Oberflächen minimiert sind.

Eine über eine bloße Reduktion der Spalten hinausgehende Minimierung derselben ermöglicht in ihrer Folge eine Minimierung der Störungen der Strahlungsformungsfunktion der Oberfläche.

In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen optischen Vorrichtung kann vorgesehen sein, dass die Manipulationseinrichtung eine Kippeinrichtung aufweist, um die Oberfläche gegenüber einer Ausgangsausrichtung einer mittleren Flächennormalen der Oberfläche zu verkippen, und die Manipulationseinrichtung eine Krümmungseinrichtung aufweist, um die Oberfläche zur krümmen, und/oder eine Positionierungseinrichtung aufweist um die Oberfläche planparallel gegenüber einer Ausgangsposition anzuheben oder abzusenken

Vorteilhaft kann auch eine Weiterbildung sein, bei der vorgesehen ist, dass die Kippeinrichtung und die Krümmungseinrichtung und/oder die Positionierungseinrichtung als eigenständige Einrichtungen ausgebildet sind.

Insbesondere vorteilhaft kann eine Kombination der beiden vorgenannten Weiterbildungen sein, wobei vorgesehen sein kann, dass die Manipulationseinrichtung eine Kippeinrichtung aufweist, um die Oberfläche gegenüber einer Ausgangsausrichtung einer mittleren Flächennormalen der Oberfläche zu verkippen, und die Manipulationseinrichtung eine Krümmungseinrichtung aufweist, um die Oberfläche zur krümmen, und/oder eine Positionierungseinrichtung aufweist um die Oberfläche planparallel gegenüber einer Ausgangsposition anzuheben oder abzusenken, wobei die Kippeinrichtung und die Krümmungseinrichtung und/oder die Positionierungseinrichtung als eigenständige Einrichtungen ausgebildet sind.

Weist die Manipulationseinrichtung in einer wenigstens zweiteiligen Ausführung eine Kippeinrichtung sowie eine Krümmungseinrichtung und/oder eine Positionierungseinrichtung auf, ergibt sich der Vorteil einer klaren Trennung der Funktionselemente, was beispielsweise zu einer verringerten Fehleranfälligkeit der Manipulationseinrichtung führt, da ein Ausfall eines einzelnen Funktionselements, beispielsweise der Kippeinrichtung, nicht zu einem Ausfall des oder der jeweils verbleibenden Funktionselemente führt.

Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Manipulationseinrichtung eine Kippeinrichtung, eine Krümmungseinrichtung und eine Positionierungseinrichtung aufweist, welche jeweils als eigenständige Einrichtung ausgebildet sind.

Hierbei wird durch die Kippeinrichtung die Oberfläche individuell um vorzugsweise jeweils zwei Achsen gekippt, wodurch sich zwei Freiheitsgrade f _c und f _n ergeben.

Ferner ergibt sich durch die Wirkung der Positionierungseinrichtung, welche die Oberfläche planparallel gegenüber einer Ausgangsposition anhebt oder absenkt, ein weiterer Freiheitsgrad in z-Richtung.

Die Krümmungseinrichtung bewirkt einen weiteren Freiheitsgrad für die Formung der Oberfläche, vorzugsweise indem wenigstens zwei Krümmungsradien R _x und R _y ausgebildet werden.

Die vorgenannten Freiheitsgrade f _c und f _n , z, R _x , R _y stehen hierbei zur Formung einer jeden Oberfläche zur Verfügung und ermöglichen eine besonders effiziente Formung einer durch die Oberflächen zusammengesetzten Gesamtoberfläche, welche eine besonders effizient minimierte Ausprägung von Spalten aufweist.

Vorteilhaft ist es, wenn die Manipulationseinrichtung eine Kippsteuereinrichtung zur Steuerung der Kippeinrichtung und eine Positioniersteuereinrichtung zur Steuerung der Positionierungseinrichtung und/oder eine Krümmungssteuereinrichtung zur Steuerung der Krümmungseinrichtung aufweist.

Insofern die Kippeinrichtung, die Positionierungseinrichtung und die Krümmungseinrichtung durch jeweilige geeignete Steuerungseinrichtungen ansteuerbar sind, so kann vorzugsweise jeder einzelne der vorgenannten Freiheitsgrade zur Formung der Oberfläche eingestellt, gesteuert und insbesondere geregelt werden.

Insbesondere zur Ermöglichung einer Regelung kann vorgesehen sein, dass die Kippsteuereinrichtung und/oder Positioniersteuereinrichtung und/oder die Krümmungssteuereinrichtung Sensoren aufweisen, welche zur Bestimmung der Verkippung und/oder der Verkrümmung und/oder der Positionierung eingerichtet sind.

Insbesondere kann vorgesehen sein, dass die Krümmungssteuereinrichtung und/oder die Gesamtsteuereinrichtung piezoresistive Sensoren aufweist, um eine aktuelle Spiegelkrümmung zu messen und damit ein geregeltes System auszubilden.

Hierdurch kann beispielsweise eine Kompensation thermischer Effekte ermöglicht werden.

Von Vorteil ist es, wenn die Kippsteuereinrichtungen und die Positioniersteuereinrichtungen und die Krümmungssteuereinrichtungen eigenständig und/oder als Teil der Gesamtsteuereinrichtung ausgebildet sind.

Ferner kann beispielsweise vorgesehen sein, dass nur einzelne der Oberflächen einzeln ansteuerbar sind, während der jeweilige Rest dadurch ansteuerbar ist, dass die betreffenden Kippsteuereinrichtungen und Positioniersteuereinrichtungen und Krümmungssteuereinrichtungen Teil der Gesamtsteuereinrichtung sind.

Von besonderem Vorteil ist ferner, wenn die Gesamtsteuereinrichtung und/oder die jeweiligen Kippsteuereinrichtungen und Positioniersteuereinrichtungen und Krümmungssteuereinrichtungen jeweils wenigstens eine Regeleinrichtung aufweisen, welche die Ausprägung der vorgenannten Freiheitsgrade f _c , f _n , z, R _x und R _y regeln.

Von Vorteil ist es, wenn die Gesamtsteuereinrichtung eingerichtet ist, eine angestrebte Form der Gesamtoberfläche mittels der Oberflächen durch Ansteuerung der Kippeinrichtungen und/oder der Krümmungseinrichtungen und/oder der Positionierungseinrichtungen zu approximieren.

Von besonderem Vorteil ist es, wenn die Gesamtsteuereinrichtung die Kippeinrichtung und/oder die Krümmungseinrichtungen und/oder die Positionierungseinrichtungen derartig ansteuert, dass die aus den einzelnen Oberflächen zusammengesetzte Gesamtoberfläche wenigstens annähernd einer angestrebten Gesamtform entspricht.

Hierzu ist es insbesondere von Vorteil, wenn die Gesamtsteuereinrichtung eingerichtet ist, um ein Computerprogrammprodukt auszuführen, welches eine derartige Approximation simuliert und/oder durch mathematische Modellbildung realisiert.

Ferner kann es von Vorteil sein, wenn eine Sensoreinrichtung vorgesehen ist, um eine von der Gesamtoberfläche ausgehende Wellenfront zu vermessen und damit das Zusammenwirken der Oberflächen zu überprüfen, zu evaluieren und gegebenenfalls durch die Gesamtsteuereinrichtung die Ausrichtung der Oberflächen, vorzugsweise iterativ, zu regeln bzw. nachzuregeln. Von Vorteil ist es, wenn eine Feedbackeinrichtung, beispielsweise als Teil der Gesamtsteuereinrichtung, vorgesehen ist, welche einen von der Sensoreinrichtung ermittelten Ist-Zustand der von der Gesamtoberfläche ausgehenden Wellenfronten einem Soll-Zustand annähert, indem die Gesamtsteuereinrichtung veranlasst bzw. regelt, dass die Oberflächen gekippt und/oder positioniert und/oder gekrümmt werden.

Von Vorteil ist es, wenn die Oberflächen wenigstens annähernd nahtlos aneinandergrenzen.

Fügen sich die Oberflächen wenigstens annähernd nahtlos aneinander, so ist das Auftreten von Spalten wenigstens annähernd vollständig eliminiert.

Hierdurch kann die Gesamtoberfläche die angestrebte Strahlformungsfunktion wenigstens annähernd ohne Einschränkungen erfüllen.

Von Vorteil ist es ferner, wenn die Gesamtoberfläche derart ausgebildet ist, dass die Gesamtoberfläche einen einzelnen Fokuspunkt oder eine Vielzahl von diskreten Fokuspunkten aufweist.

In einem vorteilhaften Zusammenspiel können die einzelnen Oberflächen beispielsweise einen Hohlspiegel ausbilden, welcher einen einzelnen Fokuspunkt aufweist.

Von besonderem Vorteil kann es sein, wenn die Gesamtoberfläche eine Vielzahl von diskreten Fokuspunkten aufweist, um beispielsweise verschiedene und räumlich separierte Zielstrukturen zu beleuchten.

Eine derartige angestrebte Form der Gesamtoberfläche kann mit der erfindungsgemäßen optischen Vorrichtung vorteilhaft, präzise und zuverlässig approximiert werden.

Von Vorteil ist es, wenn die Oberflächen Licht, insbesondere EUV-Licht, reflektierend ausgebildet ist.

Sind die Oberflächen lichtreflektierend ausgebildet und insbesondere EUV-lichtreflektierend ausgebildet, so kann die optische Vorrichtung beispielsweise als formbarer Spiegel und insbesondere als beispielsweise Feldfacettenspiegel einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage eingesetzt werden.

Von Vorteil ist es, wenn wenigstens ein Teil der Oberflächen ein wenigstens auf einem Teil der jeweiligen Oberfläche ausgebildetes Reflexionsschichtsystem aufweist.

Zur Erhöhung einer Reflektivität der jeweiligen Oberfläche kann, insbesondere im Wellenlängenbereich eines EUV-Lichts, ein Reflexionsschichtsystem von Vorteil sein, welches auf die Oberfläche wenigstens teilweise ausgebildet ist, da Reflexionsschichtsysteme zuverlässig hohe Reflektivitätsgrade in einem EUV- Wellenlängenbereich aufweisen. Von Vorteil ist es, wenn die Krümmungseinrichtung eingerichtet ist, an der Oberfläche eine Krümmung von weniger als 20 1/m, vorzugsweise zwischen 0,2 1/m und 20 1/m, bevorzugt zwischen 0,5 1/m und 4 1/m, insbesondere zwischen 1 1/m und 2 1/m auszubilden.

Eine Begrenzung der Ausprägung der Freiheitsgrade der Krümmungsradien R _x und R _y hat den Vorteil, dass eine mechanische Belastung der Oberfläche, insbesondere eines möglicherweise auf der Oberfläche ausgebildeten Reflexionsschichtsystems, begrenzt wird, wodurch Beschädigungen des Reflexionsschichtsystems vermieden werden können.

Hierdurch können vorteilhaft lange Standdauern der jeweiligen Oberflächen und damit der gesamten optischen Vorrichtung erzielt werden.

Im Rahmen der Erfindung hat sich eine Beschränkung der Krümmung auf weniger als 20 1/m, vorzugsweise weniger als 10 1/m, insbesondere auf weniger als 2 1/m, als vorteilhaft herausgestellt.

Ferner hat es sich als vorteilhaft herausgestellt, wenn die Krümmungseinrichtung eingerichtet ist, an der Oberfläche eine Krümmung von wenigstens 0,2 1/m auszubilden. Die Krümmungseinrichtung sollte vorteilhafterweise eingerichtet sein, um ein derartiges Maß einer Verkrümmung der Oberfläche erreichen zu können, um eine vorteilhafte Reduktion der Spalten zwischen den einzelnen Oberflächen zu bewirken.

Von Vorteil ist es, wenn die Krümmungseinrichtung eingerichtet ist, um an der Oberfläche wenigstens zwei Krümmungen auszubilden.

Die Ausbildung zweier Krümmungen, insbesondere zweier Krümmungen deren Krümmungskurven rechtwinklig zueinander verlaufen, ist von besonderem Vorteil, da zwei Hauptkrümmungen grundsätzlich ausreichen, um eine beliebige Krümmungsform einer Oberfläche zu erreichen.

Es kann jedoch von Vorteil sein, wenn die Krümmungseinrichtung eingerichtet ist, um an der Oberfläche mehr als zwei Krümmungen auszubilden, da hierdurch beispielsweise eine angestrebte Krümmung bzw. Form der Oberfläche noch genauer und präziser eingestellt werden kann.

Ein Weiterbildung der Erfindung kann darin bestehen, dass an der Oberfläche wenigstens ein Versteifungselement angeordnet ist, welches eine Verkrümmung der Oberfläche vorzugsweise dadurch verbessert, dass bestimmte Bereiche der Oberfläche versteift werden und somit beispielsweise als Fixpunkt einer verkrümmten Oberfläche wirken.

Ferner kann vorgesehen sein, dass die Manipulationseinrichtung mehrere, vorzugsweise jeweils eigenständige, Krümmungseinrichtungen und/oder Kippeinrichtungen und/oder Positioniereinrichtungen aufweist. Es kann beispielsweise vorgesehen sein, dass zwei Krümmungseinrichtungen übereinander angeordnet sind, um die Oberfläche in verschiedene Richtungen zu krümmen.

Von Vorteil ist es, wenn die Oberflächen und/oder die Manipulationseinrichtungen auf einem gemeinsamen Grundkörper angeordnet sind.

Werden die Oberflächen auf einem gemeinsamen Grundkörper angeordnet, so ergibt sich eine stabile gemeinsame Basis der jeweiligen Oberflächen und der zugehörigen Manipulationseinrichtungen. Durch einen gemeinsamen Grundkörper kann demnach beispielsweise eine thermisch und/oder mechanisch bedingte Drift der einzelnen Oberflächen und der zu den Oberflächen gehörigen Manipulationseinrichtungen gegeneinander vorteilhaft minimiert werden.

Ferner ist es von Vorteil, wenn die Kippeinrichtung und/oder die Krümmungseinrichtung und/oder die Positionierungseinrichtung zwischen dem Grundkörper und der jeweiligen Oberfläche angeordnet sind.

Sind die Elemente der Manipulationseinrichtung, namentlich die Kippeinrichtung und/oder die Krümmungseinrichtung und/oder die Positionierungseinrichtung, zwischen dem Grundkörper und der jeweiligen Oberfläche angeordnet, so ergibt sich der Vorteil, dass die mechanischen Einwirkungen der jeweiligen Einrichtungen den jeweiligen Grundkörper als Widerlager und stabile Basis aufweisen und insbesondere, dass die optischen Eigenschaften der Oberfläche nicht durch neben oder auf der Oberfläche angeordnete Einrichtungen beeinträchtigt oder verschlechtert werden.

Es ist von Vorteil, wenn die einer der Oberflächen zugeordnete Kippeinrichtung und/oder die Krümmungseinrichtung und/oder die Positionierungseinrichtung mit dem Grundkörper und der jeweiligen Oberfläche, sowie vorzugsweise untereinander, funktional und/oder körperlich verbunden sind.

Sind die einzelnen Einrichtungen der Manipulationseinrichtung, namentlich die Kippeinrichtung, die Krümmungseinrichtung und die Positionierungseinrichtung, mit dem Grundkörper und der jeweiligen Oberfläche funktional und/oder räumlich verbunden, ergibt sich der Vorteil einer zuverlässigen Kraftübertragung, welche zur Verformung der Oberfläche durch die einzelnen Einrichtungen notwendig sein kann.

Es kann vorgesehen sein, dass eine einzelne der Einrichtung auf die jeweilig anderen einwirkt, um die Oberfläche zu verkippen und/oder zu verformen und/oder zu positionieren. Beispielsweise kann vorgesehen sein, dass die Positionierungseinrichtung sowohl die Kippeinrichtung als auch die Krümmungseinrichtung und zusätzlich die Oberfläche bewegt. Hierzu ist es von besonderem Vorteil, wenn die einzelnen Einrichtungen körperlich derart miteinander verbunden sind, dass eine derartige Positionierung zuverlässig erfolgen kann. Sind ferner die Einrichtungen untereinander funktional und/oder körperlich verbunden, kann eine derartige Einwirkung der Einrichtungen aufeinander ebenfalls zuverlässig erfolgen.

Von besonderem Vorteil ist eine monolithische Bauweise der Manipulationseinrichtung derart, dass die Kippeinrichtung und/oder die Krümmungseinrichtung und/oder die Positionierungseinrichtung monolithisch miteinander sowie mit dem Grundkörper und der jeweiligen Oberfläche verbunden sind.

Durch eine monolithische Bauweise kann eine angestrebte funktionale und/oder körperliche Verbindung besonders zuverlässig und insbesondere auch in Miniaturform erreicht werden.

Es ist von Vorteil, wenn die Kippeinrichtung und/oder die Krümmungseinrichtung und/oder die Positionierungseinrichtung vermittels MEMS-Technologie (mikroelektromechanische System-Technologie) ausgebildet sind.

Eine Ausbildung der Kippeinrichtung und/oder der Krümmungseinrichtung und/oder der Positionierungseinrichtung durch mikroelektromechanische System-Technologie bzw. MEMS-Technologie bietet den Vorteil, die vorgenannten Einrichtungen auf sehr kleinen Skalenbereichen auszubilden, wobei die Einrichtungen mittels elektrischer Signale angesteuert werden können und wobei durch die Signale mechanische Veränderungen in den Einrichtungen, insbesondere mechanische Wirkungen, ausgelöst bzw. erzielt werden können.

Durch die Verwendung elektrischer Signale kann eine Ansteuerung vorteilhaft, effizient und insbesondere miniaturisiert erfolgen.

Eine Ausbildung der Kippeinrichtung und/oder der Krümmungseinrichtung und/oder der Positionierungseinrichtung durch Beschichtungsmethoden ist hierbei von besonderem Vorteil.

Von Vorteil kann es sein, wenn die Positionierungseinrichtung durch eine auslenkbare, vorzugsweise elektrostatisch aktuierbare, Membran über einem Hohlraum ausgebildet ist.

Durch die Ausbildung der Positionierungseinrichtung durch eine auslenkbare Membran über einem Hohlraum, welche vorzugsweise elektrostatisch aktuierbar ist, kann eine Verschiebung von an der Membran angeordneten Einrichtungen entlang der Flächennormalen der auszulenkenden Membran vorteilhaft einfach erfolgen. Insbesondere von Vorteil ist es, dass eine derartige Positionierungseinrichtung eine gewisse technische Nähe zu sogenannten MEMS-Mikrofonen besitzt, wodurch eine derartige Umsetzung besonders vorteilhaft einfach und zuverlässig erfolgen kann.

Vorteilhaft kann es hierbei sein, wenn die Membran monolithisch mit die Membran haltenden und/oder mit der Membran verbundenen Elementen der Positionierungseinrichtung verbunden ist. Ferner kann es vorteilhaft sein, wenn die Krümmungseinrichtung durch wenigstens ein streckbares und/oder kontrahierbares Aktorelement, vorzugsweise ein Piezoelement, ausgebildet ist.

Eine Realisierung der Krümmungseinrichtung dadurch, dass wenigstens ein streckbares und/oder kontrahierbares Aktorelement, vorzugsweise ein Piezoelement, in einer Wirkverbindung mit der Oberfläche angeordnet wird, hat den Vorteil, dass durch eine Streckung und/oder Kontraktion des wenigstens einen Aktorelements eine Krümmung der Oberfläche induziert werden kann.

Eine Verwendung von Piezoelementen als Aktorelemente hat den Vorteil, dass diese in miniaturisierter Form ausgebildet sein können und insbesondere durch elektrische Signale angesteuert werden können.

Die Vorteile einer elektrischen Ansteuerung der Krümmungseinrichtung wurden bereits im Zusammenhang mit der MEMS-Technologie erläutert.

Es ist von Vorteil, wenn die Krümmungseinrichtung durch wenigstens zwei, vorzugsweise wenigstens vier, entlang wenigstens zweier Achsen angeordneten Aktorelementen ausgebildet ist.

Durch wenigstens zwei, vorzugsweise wenigstens vier Aktorelementen können wenigstens zwei Hauptkrümmungen auf der Oberfläche induziert werden. Hierdurch kann wenigstens annähernd jede Krümmung der Oberfläche realisiert werden, da sich nach dem Satz von Euler jegliche Krümmung als Linearkombination der jeweiligen Hauptkrümmungen, welche durch die entlang wenigstens zweier Achsen angeordneten Aktorelemente induziert werden, ausgebildet werden.

Vorteilhaft kann es sein, wenn die Krümmungseinrichtung zwischen der Oberfläche und der Kippeinrichtung angeordnet ist.

Eine Anordnung der Krümmungseinrichtung zwischen der Oberfläche und der Kippeinrichtung hat den Vorteil, dass die Oberfläche durch die Krümmungseinrichtung gekrümmt bzw. beeinflusst werden kann, ohne dass die Krümmungseinrichtung die

Kippeinrichtung ebenfalls zu krümmen hat.

Hierdurch kann die Krümmungseinrichtung vorteilhaft einfach ausgebildet sein und insbesondere auf ein geringeres potenzielles Kraftaufkommen ausgelegt sein.

Es ist von Vorteil, wenn die Positionierungseinrichtung zwischen der Kippeinrichtung und dem Grundkörper angeordnet ist.

Ist die Positionierungseinrichtung ausgehend von der Oberfläche unter der Kippeinrichtung angeordnet, so muss die Kippeinrichtung nicht zusätzlich zu der eventuell unter der Oberfläche angeordneten Krümmungseinrichtung auch die Positionierungseinrichtung verkippen. Da die Positionierungseinrichtung lediglich einen Freiheitsgrad bedient, kann sie am wenigsten komplex und daher für ein größeres potenzielles Kraftaufkommen konzipiert werden.

Es ist also besonders vorteilhaft, wenn auf einem Grundkörper, vorzugsweise dem gemeinsamen Grundkörper der Oberfläche die Positionierungseinrichtung und auf dieser die Kippeinrichtung und auf dieser die Krümmungseinrichtung und auf dieser die Oberfläche angeordnet ist.

In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Vorrichtung kann vorgesehen sein, dass die Krümmungseinrichtung eingerichtet ist, um allfällige unterwünschte Deformationen der ihr zugeordneten Oberfläche zu korrigieren.

Eine derartige Korrektur kann von besonderem Vorteil sein, wenn für eine Verwendung der Oberfläche lediglich ein kleiner der Teil der Oberfläche gekrümmt werden muss, um die unerwünschte Deformation zu korrigieren. In diesem Fall kann vorgesehen sein, dass lediglich ein Teil der Krümmungseinrichtung in einen Betriebszustand versetzt wird.

Dies hat beispielweise den Vorteil, dass hierzu weniger Wärme in die optische Vorrichtung eingetragen wird, da nur ein Teil der Krümmungseinrichtung betrieben wird.

Hierzu kann es von Vorteil sein, wenn eine Mehrzahl, vorzugsweise mehr als 10, von Aktorelementen an dem Oberflächengrundkörper angeordnet ist.

Hierdurch können auch kleinräumige unerwünschte Deformationen der Oberfläche korrigiert werden.

Von Vorteil ist es, wenn die Oberfläche auf einem Oberflächengrundkörper ausgebildet ist, wobei der Oberflächengrundkörper eine Dicke von 1 bis 500 pm aufweist.

Die Oberfläche als potenziell sehr dünn ausgebildeter an der mathematischen und damit abstrakten Oberfläche angeordneter Bereich kann vorteilhafterweise auf einem der Oberfläche Stabilität verleihenden Oberflächengrundkörper angeordnet sein. Der Oberflächengrundkörper kann hierzu vorteilhafterweise eine Dicke von 1 bis 500 pm aufweisen, was sich im Rahmen der Erfindung als ein geeigneter Kompromiss zwischen mechanischer Stabilität und beispielsweise geringem Gewicht des Oberflächengrundkörpers herausgestellt hat.

Es ist von Vorteil, wenn die Aktorelemente in direktem Kontakt an dem Oberflächengrundkörper angeordnet sind.

Sind die Aktorelemente in direktem Kontakt mit dem Oberflächengrundkörper, so können sie den Oberflächengrundkörper und mit diesem die auf dem Oberflächengrundkörper angeordnete Oberfläche auf besonders einfache Weise formen. Beispielsweise kann durch eine Kontraktion zweier entlang einer Achse angeordneter Aktorelemente, welche voneinander beabstandet sind, jeweils ein Bereich des Oberflächengrundkörpers kontrahiert werden, wodurch sich dieser verformt, was zu einer Verkrümmung des Oberflächengrundkörpers entlang der Achse führt, auf welcher die Aktorelemente angeordnet sind.

Vorteilhaft ist es, wenn die Aktorelemente an der von der Oberfläche abgewandten Seite des Oberflächengrundkörpers jeweils von dem Oberflächengrundkörper beabstandeten angeordnet sind.

Werden die Aktorelemente derart angeordnet, dass sie vom Oberflächengrundkörper beabstandet sind, so kann hierdurch beispielsweise eine Verkrümmung der Oberfläche vereinfacht werden, da der Oberflächengrundkörper bei seiner Verkrümmung die Möglichkeit hat, in einen zwischen den Aktorelementen und dem Oberflächengrundkörper angeordneten Hohlraum auszugreifen.

Insbesondere wird durch eine derartige Ausführungsform eine mögliche Hebewirkung der Aktorelemente in ihrer Wirkung auf den Oberflächengrundkörper und damit die Oberfläche verstärkt.

Vorzugsweise ist wenigstens ein Anbindeelement vorgesehen, welches vorzugsweise am äußeren Rand des Oberflächengrundkörpers angeordnet ist und welches eingerichtet ist, um eine von dem Aktorelement oder den Aktorelementen aufgebrachte Kraft auf den Oberflächengrundkörper zu übertragen.

Wird die Krümmungseinrichtung durch die Ausbildung von Schichten realisiert, so kann es von Vorteil sein, wenn die Aktorelemente in einer Schicht angeordnet und/oder ausgebildet sind, welche vom Oberflächengrundkörper beabstandet sind.

Es ist von Vorteil, wenn die Oberfläche eine hexagonale oder dreieckige oder rechteckige, vorzugsweise quadratische Form aufweist.

Zur Erzielung einer Gesamtoberfläche mit möglichst geringen Spalten hat es sich als vorteilhaft herausgestellt, wenn die Oberfläche hexagonal oder dreieckig oder rechteckig, vorzugsweise jedoch quadratisch, ist.

Bei einer hexagonalen Oberfläche kann es vorteilhaft sein, wenn beispielsweise sechs Aktorelemente symmetrisch unter der Oberfläche angeordnet sind.

Derartige geometrische Formen ermöglichen eine flächendeckende Ausbildung bzw. Parkettierung der Gesamtoberfläche ohne Auftreten von Fehlstellen. Fehlstellen würden beispielsweise auftreten bei runden Oberflächen, welche sich nicht wenigstens annähernd nahtlos zu einer Gesamtoberfläche zusammenfügen lassen.

Vorteilhaft ist es, wenn die Oberfläche einen Flächeninhalt zwischen 0,5 mm ² und 10 mm ² , vorzugsweise zwischen 0,9 mm ² und 2 mm ² , besonders bevorzugt 1 mm ² , aufweist. Zur Ausbildung einer typischen Gesamtoberfläche, beispielsweise eines Facettenspiegels in einer EUV- Projektionsbelichtungsanlage, haben sich die vorgenannten Flächeninhalte der Oberfläche als besonders geeignet erwiesen.

In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Vorrichtung kann vorgesehen sein, dass jede Oberfläche über eine eigene Steuereinrichtung verfügt, welche eingerichtet ist, um die Verkippung und die Verkrümmung und/oder die Positionierung der jeweiligen Oberfläche zu steuern und wobei eine Gesamtsteuereinrichtung vorgesehen ist, welche alle Oberflächen derart steuert, dass unter Beibehaltung einer definierten Verkippung der einzelnen Oberflächen die Oberflächen insgesamt derart positioniert und/oder verkrümmt werden, dass Spalten zwischen benachbarten, zueinander verkippten Oberflächen der Gesamtoberfläche reduziert, vorzugsweise minimiert, sind.

Insbesondere kann vorgesehen sein, dass die Verkippung und/oder Krümmung und/oder Positionierung iterativ nacheinander und gegebenenfalls mehrfach gesteuert von der Gesamtsteuereinrichtung so durchgeführt werden, dass die Gesamtoberfläche schrittweise eine von der Gesamtsteuereinrichtung angestrebte Form annimmt.

Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Steuerung einer optischen Vorrichtung, welche eine Mehrzahl von optisch aktiven Oberflächen aufweist.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Steuerung einer optischen Vorrichtung, welche eine Mehrzahl von optisch aktiven Oberflächen aufweist, wobei jede Oberfläche autonom ansteuerbar ist, um die Oberfläche zu verkippen, ist vorgesehen, dass die Oberflächen derart verkippt und/oder positioniert und/oder verkrümmt werden, dass wenigstens zwei der Oberflächen im planvollen und koordinierten Zusammenwirken eine Gesamtoberfläche ergeben.

Durch eine derart erzielte Gesamtoberfläche kann eine einfallende Wellenfront großflächig, planvoll und koordiniert beeinflusst werden.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren ist vorgesehen, dass zur Ausbildung der Gesamtoberfläche der Freiheitsgrad der Verkippung der Oberfläche genutzt werden kann. Zusätzlich zu dem Freiheitgrad der Verkippung kann ferner der Freiheitsgrad der Verkrümmung der Oberfläche und/oder der Freiheitsgrad der Positionierung der Oberfläche genutzt werden.

Hierbei ist zu beachten, dass die jeweiligen Freiheitsgrade nicht genutzt werden müssen. Für das erfindungsgemäße Verfahren müssen sie jedoch in wenigstens einer der drei Kombinationen Verkippung plus Verkrümmung und/oder Verkippung plus Positionierung und/oder Verkippung plus Verkrümmung plus Positionierung potentiell nutzbar sein. Insbesondere können bei dem erfindungsgemäßen Verfahren bei einzelnen Oberflächen, welche zur Ausbildung der Gesamtoberfläche herangezogen werden, einer oder mehrere oder auch alle der nutzbaren Freiheitsgrade nicht genutzt werden. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren stehen die nicht genutzten Freiheitsgrade jedoch potentiell zur Verfügung.

Ferner kann vorgesehen sein, dass die Gesamtoberfläche von wenigstens einer Gruppe, vorzugsweise einer Mehrheit, insbesondere über 90 Prozent der Oberflächen ausgebildet ist.

In einer vorteilhaften Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann vorgesehen sein, dass die zueinander verkippten Oberflächen derart zueinander positioniert und/oder gekrümmt werden, dass Spalten zwischen benachbarten, zueinander verkippten Oberflächen reduziert, vorzugsweise minimiert, werden.

Hierdurch ergeben sich auf einer Gesamtoberfläche der optischen Vorrichtung durch die Reduktion der Spalten Bereiche, an welchen einfallendes Licht nur geringe Störungen durch Spalten erfährt. Diese Bereiche können durch einzelne, eine Vielzahl oder alle der Mehrzahl von optisch aktiven Oberflächen ausgebildet werden.

Durch die Reduktion von Spalten wird hierbei eine optische Performance der hierdurch kumulativ und orchestriert gebildeten Gesamtoberfläche erhöht.

Es ist von Vorteil, wenn die zueinander verkippten Oberflächen derart zueinander positioniert und/oder gekrümmt werden, dass Spalten zwischen benachbarten, zueinander verkippten Oberflächen minimiert werden.

Werden durch das Verfahren die Spalten zwischen benachbarten, zueinander verkippten Oberflächen minimiert, so führt dies zu weiter verbesserten optischen Eigenschaften der jeweiligen kumulierten Gesamtoberfläche.

Ferner kann vorgesehen sein, dass wenigstens ein Teil der Oberflächen, welche die Gesamtoberfläche bilden, nicht verkippt sind.

Es ist von Vorteil, wenn die Verkippung der Oberflächen derart erfolgt, dass die jeweilige Oberfläche gegenüber einer Ausgangsausrichtung einer mittleren Flächennormalen der Oberfläche verkippt wird, und die Krümmung der Oberflächen derart erfolgt, dass die jeweilige Oberfläche verkrümmt wird, und/oder eine Positionierung der Oberflächen derart erfolgt, dass die jeweilige Oberfläche planparallel gegenüber einer Ausgangsposition angehoben oder abgesenkt wird.

Unter einer planparallelen Absenkung oder Anhebung der jeweiligen Oberfläche wird jede translatorische Bewegung der Oberfläche, welche entlang der Ausgangsausrichtung geschieht, verstanden. Es ist von Vorteil, wenn die Verkippung und/oder die Verkrümmung und/oder die Positionierung einer Oberfläche jeweils durch unabhängig voneinander ansteuerbare, eigenständige Einrichtungen erfolgt.

Durch eine unabhängige Steuerung der Verkippung, der Verkrümmung und der Positionierung können die daraus resultierenden Freiheitsgrade unabhängig voneinander eingestellt werden. Insbesondere kann das Verfahren bei einer derartigen Ausführungsform auf die durch die Verkippung und/oder Verkrümmung und/oder Positionierung eröffneten Freiheitsgrade in unabhängiger weise zurückgreifen.

Vorteilhaft kann es sein, wenn unter Beibehaltung einer definierten Verkippung der einzelnen Oberflächen die Oberflächen insgesamt derart positioniert und/oder verkrümmt werden, dass Spalten zwischen benachbarten, zueinander verkippten Oberflächen der Gesamtoberfläche reduziert, vorzugsweise minimiert, werden.

Hierdurch kann beispielsweise eine Lage eines Fokuspunkts im Raum ohne eine Veränderung einer Verkippung des angesteuerten Ensembles von Oberflächen realisiert werden.

Insbesondere kann vorgesehen sein, dass die Verfahrensschritte Verkippung und/oder Krümmung und/oder Positionierung iterativ nacheinander und gegebenenfalls mehrfach so durchgeführt werden, dass die Gesamtoberfläche schrittweise eine von der Gesamtsteuereinrichtung angestrebte Form annimmt.

Es ist von Vorteil, wenn die Oberflächen jeweils entlang wenigstens zweier Achsen derart gekrümmt werden, dass sich wenigstens zwei Krümmungsradien der jeweiligen Oberfläche ergeben.

Eine Krümmung der Oberfläche entlang wenigstens zweier Achsen derart, dass sich wenigstens zwei Krümmungsgrade an der Oberfläche ergeben, hat den Vorteil, dass durch zwei Hauptkrümmungen jegliche Krümmung an der Oberfläche wenigstens annähernd als Linearkombination der Hauptkrümmungen dargestellt werden kann.

Insbesondere ist es hierbei von Vorteil, wenn die wenigstens zwei Achsen nicht zusammenfallen. Vorzugsweise verlaufen die beiden Achsen rechtwinklig zueinander.

Sind mehr als zwei Achsen vorgesehen, so ist es vorteilhaft, wenn diese symmetrisch angeordnet sind und vorzugsweise alle durch die Flächennormale, welche an einem Flächenschwerpunkt die Oberfläche durchbricht, verlaufen.

Ferner kann es vorteilhaft sein, wenn die Oberflächen dadurch gekrümmt werden, dass jeweils wenigstens ein unter der Oberfläche angeordnetes Aktorelement gestreckt und/oder kontrahiert wird. Eine Krümmung durch ein Aktorelement hat den Vorteil, dass das Aktorelement platzsparend, einfach ansteuerbar und insbesondere beispielsweise durch ein Piezoelement realisiert werden kann.

Die MEMS-Technologie als Teilbereich der Mikrosystemtechnik bietet die Möglichkeit elektrisch gesteuerte mechanische Systeme auf sehr kleinen Größenskalen, an der unteren Grenze der Größenskala bis zu einer Größe von 1 pm zu realisieren. Die Verwirklichung derartiger kleiner Strukturen kann beispielsweise mittels Beschichtungstechnologie erfolgen. Hierzu werden die kleinteiligen Strukturen als Schichten aufeinander aufgebracht und/oder abgeätzt.

Vorteilhaft an dem erfindungsgemäßen Verfahren ist demnach, dass die Gesamtoberfläche aus mehreren Oberflächen ausgebildet wird, welche koordiniert gekippt und/oder gekrümmt und/oder verschoben werden.

Durch eine koordinierte und/oder orchestrierte Zusammenfassung einzelner Oberflächen derart, dass sie die Gesamtoberfläche ausbilden, und wobei die Oberflächen insbesondere zueinander positioniert werden, wobei sie koordiniert verkippt und/oder verkrümmt und/oder verschoben werden, kann erreicht werden, dass die Gesamtoberfläche wie eine einzige optisch aktive Oberfläche wirkt. Hierdurch kann durch eine Vielzahl von Einzeloberflächen, welche beispielsweise einzelnen optischen Elementen zugeordnet sein können, durch die Ausbildung einer gemeinsamen Oberfläche dieser Einzeloberflächen die Gesamtoberfläche gebildet werden, welche wie ein einziges optisches Element wirkt.

Beispielsweise können die Oberflächen derart Zusammenwirken, dass die Gesamtoberfläche wie ein Parabolspiegel mit einem einzigen Brennpunkt wirken. Eine derartige Wirkung der Gesamtoberfläche eines Facettenspiegels gemäß dem Stand der Technik ist durch ein einfaches, wenn auch koordiniertes Verkippen der Oberflächen nicht möglich.

Von Vorteil ist es, wenn die Oberflächen derart koordiniert gekippt und/oder gekrümmt und/oder verschoben werden, dass eine wenigstens annähernd glatte Gesamtoberfläche ausgebildet wird.

Wrd eine wenigstens annähernd glatte Gesamtoberfläche ausgebildet, so können Aberrationen, welche an scharfen Spalten und/oder Kanten und/oder Versätzen auftreten, vermindert werden.

Es ist ferner von Vorteil, wenn die Gesamtoberfläche derart geformt wird, dass einer oder mehrere Fokuspunkte ausgebildet werden.

Wrd die Gesamtoberfläche derart geformt, dass einer oder mehrere Fokuspunkte ausgebildet werden, so können beispielsweise eine Vielzahl von Punkten auf einem Pupillenfacettenspiegel mit einer besonders hohen, da fokussierten Intensität bestrahlt werden. Es ist von Vorteil, wenn die Gesamtoberfläche derart geformt wird, dass die Lage und/oder die Anzahl des einen oder der mehreren Fokuspunkte während einer Verwendung der Vorrichtung verändert wird.

Die Veränderung kann vorzugsweise kontinuierlich und/oder diskontinuierlich erfolgen.

Eine dynamische Veränderung der Gesamtoberfläche hat den Vorteil, dass hierdurch auf sich verändernde Anforderungen an die Beleuchtungsstärke in verschiedenen Bereichen einer nachgeordneten Optik reagiert werden kann. Insbesondere ist es auch von Vorteil, wenn durch eine dynamische Umformung der Gesamtoberfläche auf eventuelle Fluktuationen des auf die Gesamtoberfläche einstrahlenden Lichts und dessen Intensitätsverteilung reagiert werden kann.

Ferner kann durch eine dynamische Veränderung der Gesamtoberfläche auch eine Vermischung des Lichts zwischen dem Feldfacettenspiegel und dem Pupillenfacettenspiegel während der Verwendung geändert werden.

Eine vorteilhafte Weiterentwicklung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann darin bestehen, dass ein Wechsel der Form der Gesamtoberfläche während diese zur Formung von Wellenfronten verwendet wird.

Insbesondere kann beispielsweise vorgesehen sein, dass mehr als 100 Oberflächen, vorzugsweise mehr als 1000 Oberflächen, welche eine Gesamtoberfläche ausbilden, in weniger als 5 Sekunden, vorzugsweise in weniger als 2 Sekunden alle jeweils verkippt und/oder verkrümmt und/oder positioniert werden. Hierbei können auch weitere Oberflächen zur Ausbildung der Gesamtoberfläche beitragen, welche weder verkippt noch verkrümmt noch positioniert werden.

Die Erfindung betrifft auch ein Computerprogrammprodukt mit Programmcodemitteln, um ein erfindungsgemäßes Verfahren gemäß den vorstehenden und nachfolgenden Ausführungen durchzuführen, wenn das Programm auf einer Einrichtung, insbesondere einer Gesamtsteuereinrichtung einer erfindungsgemäßen optischen Vorrichtung gemäß den vorstehenden und nachfolgenden Ausführungen ausgeführt wird.

Die Einrichtung kann als Mikroprozessor ausgebildet sein. Anstelle eines Mikroprozessors kann auch eine beliebige weitere Einrichtung zur Implementierung der Einrichtung vorgesehen sein, beispielsweise eine oder mehrere Anordnungen diskreter elektrischer Bauteile auf einer Leiterplatte, eine speicherprogrammierbare Steuerung (SPS), eine anwendungsspezifische integrierte Schaltung (ASIC) oder eine sonstige programmierbare Schaltung, beispielsweise auch ein Field Programmable Gate Array (FPGA), eine programmierbare logische Anordnung (PLA) und/oder ein handelsüblicher Computer.

Insbesondere vorteilhaft ist eine Ausführung des Computerprogrammprodukts auf einer Einrichtung, welche zu einem Betrieb und einer Kontrolle der Funktionalität in einem Lithografiesystem, insbesondere einer Projektionsbelichtungsanlage, vorgesehen und in dieser gemäß dem Stand der Technik bereits implementiert ist. Die Erfindung betrifft ferner ein Lithografiesystem, insbesondere eine Projektionsbelichtungsanlage.

Das erfindungsgemäße Lithografiesystem, insbesondere eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie, weist wenigstens ein optisches Element auf. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass wenigstens eines der optischen Elemente, insbesondere ein Feldfacettenspiegel und/oder ein Pupillenfacettenspiegel durch eine erfindungsgemäße optische Vorrichtung ausgebildet ist und/oder durch ein erfindungsgemäßes Verfahren gesteuert wird und/oder es ist erfindungsgemäß ein Computerprogrammprodukt mit Programmcodemitteln vorgesehen um ein erfindungsgemäßes Verfahren durchzuführen, wenn das Programm auf einer Einrichtung, insbesondere einer Gesamtsteuereinrichtung einer erfindungsgemäßen optischen Vorrichtung ausgeführt wird.

Merkmale, die im Zusammenhang mit einem der Gegenstände der Erfindung, namentlich gegeben durch die erfindungsgemäße optische Vorrichtung das erfindungsgemäße Verfahren, das Computerprogrammprodukt und das Lithografiesystem beschrieben wurden, sind auch für die anderen Gegenstände der Erfindung vorteilhaft umsetzbar. Ebenso können Vorteile, die im Zusammenhang mit einem der Gegenstände der Erfindung genannt wurden, auch auf die anderen Gegenstände der Erfindung bezogen verstanden werden.

Ergänzend sei darauf hingewiesen, dass Begriffe wie "umfassend", "aufweisend" oder "mit" keine anderen Merkmale oder Schritte ausschließen. Ferner schließen Begriffe wie "ein" oder "das", die auf eine Einzahl von Schritten oder Merkmalen hinweisen, keine Mehrzahl von Merkmalen oder Schritten aus - und umgekehrt.

In einer puristischen Ausführungsform der Erfindung kann allerdings auch vorgesehen sein, dass die in der Erfindung mit den Begriffen "umfassend", "aufweisend" oder "mit" eingeführten Merkmale abschließend aufgezählt sind. Dementsprechend kann eine oder können mehrere Aufzählungen von Merkmalen im Rahmen der Erfindung als abgeschlossen betrachtet werden, beispielsweise jeweils für jeden Anspruch betrachtet. Die Erfindung kann beispielsweise ausschließlich aus den in Anspruch 1 genannten Merkmalen bestehen.

Es sei erwähnt, dass Bezeichnungen wie "erstes" oder "zweites" etc. vornehmlich aus Gründen der Unterscheidbarkeit von jeweiligen Vorrichtungs- oder Verfahrensmerkmalen verwendet werden und nicht unbedingt andeuten sollen, dass sich Merkmale gegenseitig bedingen oder miteinander in Beziehung stehen.

Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnung näher beschrieben.

Die Figuren zeigen jeweils bevorzugte Ausführungsbeispiele, in denen einzelne Merkmale der vorliegenden Erfindung in Kombination miteinander dargestellt sind. Merkmale eines Ausführungsbeispiels sind auch losgelöst von den anderen Merkmalen des gleichen Ausführungsbeispiels umsetzbar und können dementsprechend von einem Fachmann ohne Weiteres zu weiteren sinnvollen Kombinationen und Unterkombinationen mit Merkmalen anderer Ausführungsbeispiele verbunden werden.

In den Figuren sind funktionsgleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen.

Es zeigen:

Figur 1 eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage im Meridionalschnitt;

Figur 2 eine DUV-Projektionsbelichtungsanlage;

Figur 3 eine schematische Darstellung einer erfindungsgemäßen Vorrichtung im Zusammenspiel mit anderen optischen Elementen;

Figur 4 eine schematische Darstellung einer optischen Vorrichtung mit zueinander verkippten Oberflächen in einer Vorstufe zur Ausbildung der Erfindung;

Figur 5 eine schematische Darstellung einer optischen Vorrichtung mit koordiniert verkippten und/oder positionierten Oberflächen zur Formung einer erfindungsgemäßen Gesamtoberfläche;

Figur 6 eine schematische Darstellung einer optischen Vorrichtung mit koordiniert verkippten und/oder positionierten und/oder gekrümmten Oberflächen zur Formung einer erfindungsgemäßen Gesamtoberfläche;

Figur 7 eine schematische Schnittdarstellung einer Manipulationseinrichtung unter einer der Oberflächen;

Figur 8 eine schematische Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels einer Krümmungseinrichtung unter einer der Oberflächen;

Figur 9 eine schematische Schnittdarstellung eines weiteren Ausführungsbeispiels einer Krümmungseinrichtung unter einer der Oberflächen;

Figur 10 eine schematische Draufsicht auf ein Ausführungsbeispiel einer Krümmungseinrichtung unter einer der Oberflächen;

Figur 11 eine schematische Schnittdarstellung einer Ausführungsform der Positionierungseinrichtung; und Figur 12 eine blockdiagrammmäßige Darstellung einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen

Verfahrens.

Im Folgenden werden zunächst unter Bezugnahme auf Figur 1 exemplarisch die wesentlichen Bestandteile einer EU V-Projektionsbelichtungsanlage 100 für die Mikrolithographie als Beispiel für ein Lithografiesystem beschrieben. Die Beschreibung des grundsätzlichen Aufbaus der EUV-Projektionsbelichtungsanlage 100 sowie deren Bestandteile sei hierbei nicht einschränkend verstanden.

Ein Beleuchtungssystem 101 der EUV-Projektionsbelichtungsanlage 100 weist neben einer Strahlungsquelle 102 eine Beleuchtungsoptik 103 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 104 in einer Objektebene 105 auf. Belichtet wird hierbei ein im Objektfeld 104 angeordnetes Retikel 106. Das Retikel 106 ist von einem Retikelhalter 107 gehalten. Der Retikelhalter 107 ist über einen Retikelverlagerungsantrieb 108 insbesondere in einer Scanrichtung verlagerbar.

In Figur 1 ist zur Erläuterung ein kartesisches xyz-Koordinatensystem eingezeichnet. Die x-Richtung verläuft senkrecht in die Zeichenebene hinein. Die y-Richtung verläuft horizontal und die z-Richtung verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in Figur 1 längs der y-Richtung. Die z-Richtung verläuft senkrecht zur Objektebene 105.

Die EUV-Projektionsbelichtungsanlage 100 umfasst eine Projektionsoptik 109. Die Projektionsoptik 109 dient zur Abbildung des Objektfeldes 104 in ein Bildfeld 110 in einer Bildebene 111. Die Bildebene 111 verläuft parallel zur Objektebene 105. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 105 und der Bildebene 111 möglich.

Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 106 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 110 in der Bildebene 111 angeordneten Wafers 112. Der Wafer 112 wird von einem Waferhalter 113 gehalten. Der Waferhalter 113 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 114 insbesondere längs der y-Richtung verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 106 über den Retikelverlagerungsantrieb 108 und andererseits des Wafers 112 über den Waferverlagerungsantrieb 114 kann synchronisiert zueinander erfolgen.

Bei der Strahlungsquelle 102 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Strahlungsquelle 102 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 115, welche im Folgen-den auch als Nutzstrahlung oder Beleuchtungsstrahlung bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung 115 hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Strahlungsquelle 102 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle ("Laser Produced Plasma", mithilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle ("Gas Discharged Produced Plasma", mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Strahlungsquelle 102 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser ("Free-Electron-Laser", FEL) handeln. Die Beleuchtungsstrahlung 115, die von der Strahlungsquelle 102 ausgeht, wird von einem Kollektor 116 gebündelt. Bei dem Kollektor 116 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 116 kann im streifenden Einfall ("Grazing Incidence", Gl), also mit Einfallswinkeln größer als 45°, oder im normalen Einfall ("Normal Incidence", NI), also mit Einfallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 115 beaufschlagt werden. Der Kollektor 116 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung 115 und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein.

Nach dem Kollektor 116 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 115 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 117. Die Zwischenfokusebene 117 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Strahlungsquelle 102 und den Kollektor 116, und der Beleuchtungsoptik 103 darstellen.

Die Beleuchtungsoptik 103 umfasst einen Umlenkspiegel 118 und diesem im Strahlengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 119. Bei dem Umlenkspiegel 118 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 118 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 115 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 119 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 103 angeordnet ist, die zur Objektebene 105 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 119 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 120, welche im Folgenden auch als Feldfacetten bezeichnet werden. Von diesen Facetten 120 sind in der Figur 1 nur beispielhaft einige dargestellt.

Die ersten Facetten 120 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 120 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein.

We beispielsweise aus der DE 10 2008 009 600 A1 bekannt ist, können die ersten Facetten 120 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbesondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Facettenspiegel 119 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.

Zwischen dem Kollektor 116 und dem Umlenkspiegel 118 verläuft die Beleuchtungsstrahlung 115 horizontal, also längs der y-Richtung.

Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 103 ist dem ersten Facettenspiegel 119 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 121 . Sofern der zweite Facettenspiegel 121 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 103 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 121 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 103 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 119 und dem zweiten Facettenspiegel 121 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der US 2006/0132747 A1 , der EP 1 614 008 B1 und der US 6,573,978.

Der zweite Facettenspiegel 121 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 122. Die zweiten Facetten 122 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet.

Bei den zweiten Facetten 122 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facetten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.

Die zweiten Facetten 122 können plane oder alternativ konvex oder konkav gekrümmte Reflexionsflächen aufweisen.

Die Beleuchtungsoptik 103 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Fliegenaugeintegrator ("Fly's Eye Integrator") bezeichnet.

Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 121 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 109 optisch konjugiert ist, anzuordnen.

Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 121 werden die einzelnen ersten Facetten 120 in das Objektfeld 104 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 121 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 115 im Strahlengang vor dem Objektfeld 104.

Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 103 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 121 und dem Objektfeld 104 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbildung der ersten Facetten 120 in das Objektfeld 104 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufweisen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 103 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (Nl-Spiegel, "Normal Incidence"-Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (Gl-Spiegel, "Gracing Incidence"-Spiegel) umfassen.

Die Beleuchtungsoptik 103 hat bei der Ausführung, die in der Figur 1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 116 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 118, den Feldfacettenspiegel 119 und den Pupillenfacettenspiegel 121 . Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 103 kann der Umlenkspiegel 118 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 103 nach dem Kollektor 116 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 119 und den zweiten Facettenspiegel 121.

Die Abbildung der ersten Facetten 120 mittels der zweiten Facetten 122 beziehungsweise mit den zweiten Facetten 122 und einer Übertragungsoptik in die Objektebene 105 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.

Die Projektionsoptik 109 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der EUV-Projektionsbelichtungsanlage 100 durchnummeriert sind.

Bei dem in der Figur 1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 109 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 115. Bei der Projektionsoptik 109 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Die Projektionsoptik 109 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann.

Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 103, hoch reflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung 115 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer-Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium, gestaltet sein.

Die Projektionsoptik 109 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung zwischen einer y-Koordi- nate eines Zentrums des Objektfeldes 104 und einer y-Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 110. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y-Richtung kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebene 105 und der Bildebene 111.

Die Projektionsoptik 109 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe ßx, ßy in x- und y-Richtung auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe ßx, ßy der Projektionsoptik 109 liegen bevorzugt bei (ßx, ßy) = (+/- 0,25, +/- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab ß bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab ß bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr.

Die Projektionsoptik 109 führt somit in x-Richtung, das heißt in Richtung senkrecht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 4:1 .

Die Projektionsoptik 109 führt in y-Richtung, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung von 8:1. Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich.

Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 104 und dem Bildfeld 110 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 109, unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwischenbilder in x- und y-Richtung sind bekannt aus der US 2018/0074303 A1 .

Jeweils eine der Pupillenfacetten 122 ist genau einer der Feldfacetten 120 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 104 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der Feldfacetten 120 in eine Vielzahl an Objektfeldern 104 zerlegt. Die Feldfacetten 120 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten Pupillenfacetten 122.

Die Feldfacetten 120 werden jeweils von einer zugeordneten Pupillenfacette 122 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 104 auf das Retikel 106 abgebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 104 ist insbesondere möglichst homogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2% auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden.

Durch eine Anordnung der Pupillenfacetten kann geometrisch die Ausleuchtung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 109 definiert werden. Durch Auswahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der Pupillenfacetten, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 109 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting bezeichnet.

Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchteter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 103 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden.

Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objektfeldes 104 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 109 beschrieben.

Die Projektionsoptik 109 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein.

Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 109 lässt sich regelmäßig mit dem Pupillenfacettenspiegel 121 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projektionsoptik 109, welche das Zentrum des Pupillenfacettenspiegels 121 telezentrisch auf den Wafer 112 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille odereine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.

Es kann sein, dass die Projektionsoptik 109 unterschiedliche Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bauelement der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 121 und dem Retikel 106 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Bauelements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.

Bei der in der Figur 1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuchtungsoptik 103 ist der Pupillenfacettenspiegel 121 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 109 konjugierten Fläche angeordnet. Der erste Feldfacettenspiegel 119 ist verkippt zur Objektebene 105 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 119 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 118 definiert ist.

Der erste Facettenspiegel 119 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 121 definiert ist.

In Figur 2 ist eine beispielhafte DUV-Projektionsbelichtungsanlage 200 dargestellt. Die DUV- Projektionsbelichtungsanlage 200 weist ein Beleuchtungssystem 201 , eine Retikelstage 202 genannten Einrichtung zur Aufnahme und exakten Positionierung eines Retikels 203, durch welches die späteren Strukturen auf einem Wafer 204 bestimmt werden, einen Waferhalter 205 zur Halterung, Bewegung und exakten Positionierung des Wafers 204 und eine Abbildungseinrichtung, nämlich eine Projektionsoptik 206, mit mehreren optischen Elementen, insbesondere Linsen 207, die über Fassungen 208 in einem Objektivgehäuse 209 der Projektionsoptik 206 gehalten sind, auf.

Alternativ oder ergänzend zu den dargestellten Linsen 207 können diverse refraktive, diffraktive und/oder reflexive optische Elemente, unter anderem auch Spiegel, Prismen, Abschlussplatten und dergleichen, vorgesehen sein.

Das grundsätzliche Funktionsprinzip der DUV-Projektionsbelichtungsanlage 200 sieht vor, dass die in das Retikel 203 eingebrachten Strukturen auf den Wafer 204 abgebildet werden.

Das Beleuchtungssystem 201 stellt einen für die Abbildung des Retikels 203 auf den Wafer 204 benötigten Projektionsstrahl 210 in Form elektromagnetischer Strahlung bereit. Als Quelle für diese Strahlung kann ein Laser, eine Plasmaquelle oder dergleichen Verwendung finden. Die Strahlung wird in dem Beleuchtungssystem 201 über optische Elemente so geformt, dass der Projektionsstrahl 210 beim Auftreffen auf das Retikel 203 die gewünschten Eigenschaften hinsichtlich Durchmesser, Polarisation, Form der Wellenfront und dergleichen aufweist. Mittels des Projektionsstrahls 210 wird ein Bild des Retikels 203 erzeugt und von der Projektionsoptik 206 entsprechend verkleinert auf den Wafer 204 übertragen. Dabei können das Retikel 203 und der Wafer 204 synchron verfahren werden, so dass praktisch kontinuierlich während eines sogenannten Scanvorganges Bereiche des Retikels 203 auf entsprechende Bereiche des Wafers 204 abgebildet werden.

Optional kann ein Luftspalt zwischen der letzten Linse 207 und dem Wafer 204 durch ein flüssiges Medium ersetzt sein, welches einen Brechungsindex größer 1 ,0 aufweist. Das flüssige Medium kann beispielsweise hochreines Wasser sein. Ein solcher Aufbau wird auch als Immersionslithographie bezeichnet und weist eine erhöhte photolithographische Auflösung auf.

Die Verwendung der Erfindung ist nicht auf den Einsatz in Lithografiesystemen und auch nicht auf den Einsatz in Projektionsbelichtungsanlagen 100, 200, insbesondere auch nicht mit dem beschriebenen Aufbau, beschränkt. Die Erfindung eignet sich gleichwohl in besonderem Maße für Lithografiesysteme, insbesondere Projektionsbelichtungsanlagen, insbesondere mit dem beschriebenen Aufbau. Die Erfindung sowie die nachfolgenden Ausführungsbeispiele sind ferner nicht auf eine spezifische Bauform beschränkt zu verstehen. Die nachfolgenden Figuren stellen die Erfindung lediglich beispielhaft und stark schematisiert dar.

Figur 3 zeigt eine schematische Darstellung einer erfindungsgemäßen Vorrichtung 1 , welche eine Mehrzahl an optisch aktiven Oberflächen 2 aufweist, wobei die Oberflächen 2 jeweils mittels einer eigenen, der Oberfläche 2 zugeordneten und autonom steuerbaren Manipulationseinrichtung 3 verkippbar sind. Hierbei ist die Manipulationseinrichtung 3 eingerichtet, um die Oberfläche 2 auch zu positionieren und/oder zu verkrümmen, wobei eine Gesamtsteuereinrichtung 4 vorgesehen ist, welche die Manipulationseinrichtungen 3 derart steuert, dass wenigstens zwei der Oberflächen 2 im planvollen und koordinierten Zusammenwirken eine Gesamtoberfläche 5 ergeben.

Die optische Vorrichtung 1 ist in dem in Figur 3 dargestellten Ausführungsbeispiel als Facettenspiegel, vorzugsweise als Feldfacettenspiegel 119, ausgebildet, welcher Licht, welches von einer Lichtquelle 6 ausgeht, auf wenigstens einen Zielort 7 auf einer Zielstruktur 8, beispielsweise eine Pupillenfacette 122 eine Pupillenfacettenspiegels 121 , reflektiert. Insbesondere kann vorgesehen sein, dass ein Fokuspunkt einer beispielsweise als Hohlspiegel ausgebildeten Oberfläche 2 an dem Zielort positioniert sein soll.

Ferner ist bei dem in Figur 3 dargestellten Ausführungsbeispiel der optischen Vorrichtung 1 die Gesamtsteuereinrichtung 4 eingerichtet, um die Manipulationseinrichtung 3 vorzugsweise derart zu steuern, dass Spalten 9 zwischen benachbarten Oberflächen 2 durch eine Verkippung und/oder Positionierung und/oder eine Verkrümmung der Oberflächen 2 reduziert sind.

Ferner steuert bei dem in Figur 3 dargestellten Ausführungsbeispiel der optischen Vorrichtung 1 die Gesamtsteuereinrichtung 4 die Manipulationseinrichtungen 3 vorzugsweise derart, dass die Spalten 9 zwischen benachbarten Oberflächen 2 minimiert sind. In dem in Figur 3 dargestellten Ausführungsbeispiel weist wenigstens ein Teil der Oberflächen 2 ein wenigstens auf einem Teil der jeweiligen Oberfläche 2 ausgebildetes Reflexionsschichtsystem auf.

Die Oberflächen 2 weisen ferner eine hexagonale oder dreieckige oder rechteckige, vorzugsweise quadratische Form auf.

Weiterhin weisen die Oberflächen 2 einen Flächeninhalt zwischen 0,5 mm ² und 10 mm ² , vorzugsweise zwischen 0,9 mm ² und 2 mm ² , besonders bevorzugt 1 mm ² , auf.

Figur 4 zeigt eine schematische Darstellung einer optischen Vorrichtung 1 , bei welcher die Oberflächen 2 durch die Manipulationseinrichtungen 3 lediglich verkippt sind.

Figur 5 zeigt eine schematische Darstellung einer optischen Vorrichtung 1 , bei welcher die Oberflächen 2 durch die Manipulationseinrichtungen 3 planvoll und koordiniert verkippt und positioniert sind und damit eine Gesamtoberfläche 5 ergeben.

In dem Ausführungsbeispiel nach Figur 5 sind die Spalte 9 zwischen benachbarten Oberflächen reduziert.

Figur 6 zeigt eine schematische Darstellung einer optischen Vorrichtung 1 , bei welcher die Oberflächen 2 durch die Manipulationseinrichtungen 3 planvoll und koordiniert verkippt und positioniert und gekrümmt sind und damit eine Gesamtoberfläche 5 ergeben.

Die Oberflächen 2 der optischen Vorrichtung 1 können durch die Manipulationseinrichtungen 3 auch planvoll und koordiniert verkippt und verkrümmt sein (nicht separat dargestellt) um eine Gesamtoberfläche auszubilden.

Bei den in den Figuren 4,5 und 6 dargestellten Ausführungsbeispielen sind die Oberflächen 2 und die Manipulationseinrichtungen 3 auf einem gemeinsamen Grundkörper 17 angeordnet.

In dem Ausführungsbeispiel nach Figur 6 sind die Spalte 9 zwischen benachbarten Oberflächen minimiert, so dass die Oberflächen 2 wenigstens annähernd nahtlos aneinander angrenzen.

Figur 7 zeigt ein Ausführungsbeispiel der Oberfläche 2 und der der Oberfläche 2 zugeordneten Manipulationseinrichtung 3.

Die Manipulationseinrichtung 3 weist in dem in Figur 7 dargestellten Ausführungsbeispiel eine Kippeinrichtung 10 auf, um die Oberfläche 2 gegenüber einer Ausgangsausrichtung einer mittleren Flächennormalen

11 der Oberfläche 2 zu verkippen. Ferner weist die Manipulationseinrichtung 3 eine Krümmungseinrichtung

12 auf, um die Oberfläche 2 zur krümmen. Ferner weist die Manipulationseinrichtung 3 eine Positionierungseinrichtung 13 auf, um die Oberfläche 2 planparallel gegenüber einer Ausgangsposition anzuheben oder abzusenken, wobei die Kippeinrichtung 10 und die Krümmungseinrichtung 12 und/oder die Positionierungseinrichtung 13 als eigenständige Einrichtungen ausgebildet sind.

In dem in Figur 7 dargestellten Ausführungsbeispiel weist die Manipulationseinrichtung 3 eine Kippsteuereinrichtung 14 zur Steuerung der Kippeinrichtung 10 und eine Positioniersteuereinrichtung 15 zur Steuerung der Positionierungseinrichtung 13 und/oder eine Krümmungssteuereinrichtung 16 zur Steuerung der Krümmungseinrichtung 12 auf.

In dem in Figur 7 dargestellten Ausführungsbeispiel sind die Kippsteuereinrichtungen 14 und die Positioniersteuereinrichtungen 15 und die Krümmungssteuereinrichtungen 16 eigenständig ausgebildet. In einem nicht dargestellten Ausführungsbeispiel kann vorgesehen sein, dass die Kippsteuereinrichtungen 14 und die Positioniersteuereinrichtungen 15 und die Krümmungssteuereinrichtungen 16 als Teil der Gesamtsteuereinrichtung 4 ausgebildet sind.

Ferner ist in dem in Figur 7 dargestellten Ausführungsbeispiel die Oberfläche 2 Licht, insbesondere EUV- Licht, reflektierend ausgebildet.

Die Oberfläche 2 ist auf dem Grundkörper 17 angeordnet, der als gemeinsamer Grundkörper 17 für alle Oberflächen 2 der optischen Vorrichtung 1 dient. Der Grundkörper 17 kann alternativ auch nur für einen Teil der Oberflächen als Basis dienen, um diese anzuordnen.

In dem in Figur 3 dargestellten Ausführungsbeispiel der optischen Vorrichtung 1 ist die Gesamtsteuereinrichtung 4 ferner eingerichtet, eine angestrebte Form der Gesamtoberfläche 5 mittels der Oberflächen 2 durch Ansteuerung der Kippeinrichtungen 10 und der Krümmungseinrichtungen 12 und der Positionierungseinrichtungen 13 zu approximieren.

In vorliegendem Ausführungsbeispiel sind die Kippeinrichtungen 10 und die Krümmungseinrichtungen 12 und die Positionierungseinrichtungen 13 vorzugsweise gemäß dem in Figur 7 dargestellten Ausführungsbeispiel der Manipulationseinrichtung 3 ausgebildet.

In dem in Figur 7 dargestellten Ausführungsbeispiel sind die Kippeinrichtung 10 und die Krümmungseinrichtung 12 und die Positionierungseinrichtung 13 zwischen dem Grundkörper 17 und der jeweiligen Oberfläche 2 angeordnet.

Die Krümmungseinrichtung 12 ist zwischen der Oberfläche 2 und der Kippeinrichtung 10 angeordnet.

Weiterhin ist die Positionierungseinrichtung 13 zwischen der Kippeinrichtung 10 und dem Grundkörper 17 angeordnet. In dem in Figur 7 dargestellten Ausführungsbeispiel sind die einer der Oberflächen 2 zugeordnete Kippeinrichtung 10 und die Krümmungseinrichtung 12 und die Positionierungseinrichtung 13 vorzugsweise mit dem Grundkörper 17 und der jeweiligen Oberfläche 2, sowie vorzugsweise untereinander, funktional und/oder körperlich verbunden.

Weiterhin sind bei dem in Figur 7 dargestellten Ausführungsbeispiel die Kippeinrichtung 10 und die Krümmungseinrichtung 12 und die Positionierungseinrichtung 13 mittels MEMS-Technologie (mikroelektromechanische System-Technologie) ausgebildet.

Die Oberfläche 2 ist im Ausführungsbeispiel auf einem Oberflächengrundkörper 18 ausgebildet, wobei der Oberflächengrundkörper 18 vorzugsweise eine Dicke von 1 bis 500 pm aufweist.

Die Figuren 8 und 9 zeigen Ausführungsbeispiele der Krümmungseinrichtung 12.

Die Krümmungseinrichtung 12 ist hierbei durch wenigstens ein streckbares und/oder Kontrahierbares Aktorelement 19, vorzugsweise als ein Piezoelement, ausgebildet.

Vorzugsweise ist die Krümmungseinrichtung 12 durch wenigstens zwei, vorzugsweise wenigstens vier, entlang wenigstens zweier Achsen angeordnete Aktorelemente 19 ausgebildet.

Figur 8 zeigt eine Ausführungsbeispiel der Krümmungseinrichtung 12, wobei die Aktorelemente 19 an der von der Oberfläche 2 abgewandten Seite des Oberflächengrundkörpers 18 jeweils von dem Oberflächengrundkörper 18 beabstandet angeordnet sind.

Zwischen den Aktorelementen 19 ist hierbei ein Versteifungselement 19a angeordnet, welches eine Verkrümmung der Oberfläche 2 um einen zentralen Bereich der Oberfläche 2 verbessert. Hierdurch kann beispielsweise die Oberfläche 2 eine Form eines Hohlspiegels annehmen.

Insbesondere dient im Ausführungsbeispiel das Versteifungselement 19a der Anordnung der Krümmungseinrichtung 12 auf der Kippeinrichtung 10.

In dem in Figur 8 dargestellten Ausführungsbeispiel sind zwei Aktorelemente 19 in einer zu der Oberfläche 2 parallelen Ebene entlang einer Achse angeordnet. Die Aktorelementen 19 und der Oberflächengrundkörper 18 sind voneinander getrennt und derart beabstandet, dass beispielsweise eine Kontraktion der Aktorelemente 19 zu einer Krümmung des Oberflächengrundkörpers 18 und damit der Oberfläche 2 führen kann. Dies kann, bedingt durch den Abstand, unter einer weitgehenden Vermeidung einer Krümmung der Aktorelemente 19 geschehen, wodurch diese beispielsweise einem geringeren Verschleiß ausgesetzt sind. Figur 9 zeigt eine Ausführungsbeispiel der Krümmungseinrichtung 12, wobei die Aktorelemente 19 an der von der Oberfläche 2 abgewandten Seite des Oberflächengrundkörpers 18 in direktem Kontakt an dem Oberflächengrundkörper 18 angeordnet sind.

In den in den Figuren 8 und 9 dargestellten Ausführungsbeispielen der Krümmungseinrichtung 12 ist diese eingerichtet, um an der Oberfläche 2 eine Krümmung von weniger als 20 1/m, vorzugsweise zwischen 0,2 1/m und 20 1/m, bevorzugt zwischen 0,5 1/m und 4 1/m, insbesondere zwischen 1 1/m und 2 1/m auszubilden.

In den in den Figuren 8 und 9 dargestellten Ausführungsbeispielen der Krümmungseinrichtung 12 ist diese ferner eingerichtet, um an der Oberfläche 2 wenigstens zwei Krümmungen auszubilden.

Figur 10 zeigt eine Draufsicht auf die der Oberfläche 2 abgewandten Seite des Oberflächengrundkörpers 18.

Die vier Aktorelemente 19 sind an der von der Oberfläche 2 abgewandten Seite des Oberflächengrundkörpers 18 in direktem Kontakt an dem Oberflächengrundkörper 18 angeordnet.

Der Oberflächengrundkörper 18 und die zugeordnete Oberfläche 2 haben im Ausführungsbeispiel eine quadratische Form.

Im Ausführungsbeispiel wird die Oberflächen 2 jeweils entlang zweier Achsen derart gekrümmt, dass sich wenigstens zwei Krümmungsradien der Oberfläche 2 ergeben, wobei die zwei Achsen nicht zusammenfallen. Im Ausführungsbeispiel verlaufen die beiden Achsen vorzugsweise rechtwinklig zueinander.

In den Figuren 8, 9 und 10 sind Streckungs- bzw. Kontraktionsrichtungen der Aktorelemente 19 durch Doppelpfeile dargestellt.

Figur 11 zeigt eine schematische Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels der Positionierungseinrichtung 13. Exemplarisch ist hierbei die Kippeinrichtung 10 auf der Positionierungseinrichtung 13 angeordnet, wobei auf der Kippeinrichtung 10 der Oberflächengrundkörper 18 sowie die Oberfläche 2 angeordnet sind.

In dem in Figur 11 dargestellten Ausführungsbeispiel ist die Positionierungseinrichtung 13 durch eine auslenkbare, vorzugsweise elektrostatisch aktuierbare, Membran 20 über einem Hohlraum 21 ausgebildet.

Eine Auslenkungsrichtung der Membran 20 ist in Figur 11 durch einen Doppelpfeil dargestellt.

Die in den Figuren 3 bis 11 dargestellte optische Vorrichtung 1 eignet sich in besonderer Weise zur Durchführung eines Verfahrens zur Steuerung der optischen Vorrichtung 1 , welche eine Mehrzahl von optisch aktiven Oberflächen 2 aufweist, wobei jede Oberfläche 2 autonom ansteuerbar ist, um die Oberfläche 2 zu verkippen. Bei dem Verfahren werden die Oberflächen 2 derart verkippt und/oder positioniert und/oder verkrümmt, dass wenigstens zwei der Oberflächen 2 im planvollen und koordinierten Zusammenwirken die Gesamtoberfläche 5 ergeben.

Die zueinander verkippten Oberflächen 2 werden derart zueinander positioniert und/oder gekrümmt, dass Spalten 9 zwischen benachbarten, zueinander verkippten Oberflächen 2 reduziert, vorzugsweise minimiert, werden.

Insbesondere werden die zueinander verkippten Oberflächen 2 demnach derart zueinander positioniert und/oder gekrümmt, dass Spalten 9 zwischen benachbarten, zueinander verkippten Oberflächen 2 minimiert werden, so wie dies in Figur 6 dargestellt ist.

Mögliche Gestaltungsformen der Kippvorrichtung 10, welches auch in der optischen Vorrichtung 1 Verwendung finden können, sind aus dem allgemeinen Stand der Technik bekannt. Hierzu wird insbesondere auf die DE 102015204 874 A1 verwiesen. Dieses Dokument offenbart beispielsweise in Figur 2 einen mittels MEMS-Technologie ausgebildete Verlagerungseinrichtung zur Verschwenkung eines Spiegelelements, welches als Kippvorrichtung 10 Verwendung finden kann. Weitere mögliche Ausführungsformen von Kippvorrichtungen 10 sind in den Druckschriften US 9,013,676 B2 und US 7,538,471 B2 beschrieben.

Figur 12 zeigt eine blockdiagrammartige Darstellung eines Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Verfahrens.

In einem Koordinationsblock 30 werden die Verkippung und/oder die Verkrümmung und/oder die Positionierung derjenigen Oberflächen 2 geplant und koordiniert, welche die Gesamtoberfläche 5 ergeben sollen. In einem Kippblock 31 , einem Verkrümmungsblock 32 und einem Positionierungsblock 33 werden die jeweiligen Oberflächen 2 in einem in dem Koordinationsblock 30 festgelegten Ausmaße verkippt und/oder gekrümmt und/oder positioniert, dass die Oberflächen 2 in einem Ergebnisblock 34 eine Gesamtoberfläche 5 ergeben.

In dem beschriebenen Ausführungsbeispiel erfolgt die Verkippung und/oder die Verkrümmung und/oder die Positionierung einer Oberfläche 2 jeweils durch unabhängig voneinander ansteuerbare, eigenständige Einrichtungen.

Ferner verfügt jede Oberfläche über eine eigene Steuereinrichtung, um die Verkippung und die Verkrümmung und/oder die Positionierung der jeweiligen Oberfläche 2 zu steuern. Die Gesamtsteuereinrichtung 4 ist vorgesehen, um alle die Gesamtoberfläche 5 bildenden Oberflächen 2 derart zu steuern, dass unter Beibehaltung einer definierten Verkippung der einzelnen Oberflächen 2 die Oberflächen 2 insgesamt derart positioniert und/oder verkrümmt werden, dass die Spalten 9 zwischen benachbarten, zueinander verkippten Oberflächen 2 der Gesamtoberfläche 5 reduziert, vorzugsweise minimiert werden. Die Krümmung der Oberflächen erfolgt in dem beschriebenen Ausführungsbeispiel des Verfahrens dergestalt, dass die Oberflächen 2 jeweils entlang wenigstens zweier Achsen derart gekrümmt werden, dass sich wenigstens zwei Krümmungsradien der jeweiligen Oberfläche 2 ergeben.

Es ist in dem Verfahren vorgesehen, dass die Gesamtoberfläche 5 aus mehreren Oberflächen 2 ausgebildet wird, welche planvoll und koordiniert gekippt und/oder gekrümmt und/oder verschoben werden.

Die Oberflächen 2 werden vorzugsweise ferner derart koordiniert gekippt und/oder gekrümmt und/oder verschoben, dass eine wenigstens annähernd glatte Gesamtoberfläche 5 ausgebildet wird. Hierbei weist eine wenigstens annähernd glatte Gesamtoberfläche keine Spalten oder spitze Kanten und minimierte Spalte 9 zwischen den Oberflächen 2 auf.

In dem Koordinationsblock 30 werden die Verkippungen und die Verkrümmungen und/oder die Positionierungen der Oberflächen 2 derart bestimmt, dass im Ergebnisblock 34 die Gesamtoberfläche 5 derart geformt wird, dass einer oder mehrere Fokuspunkte ausgebildet werden.

Ferner ist vorgesehen, dass die Gesamtoberfläche 5 derart geformt wird, dass die Lage und/oder die Anzahl des einen oder der mehreren Fokuspunkte während einer Verwendung der Vorrichtung 1 verändert wird.

Zur Stabilisierung der optischen Eigenschaften der Gesamtoberfläche 5 ist ferner in dem dargestellten Ausführungsbeispiel ein Sensorblock 35 vorgesehen, in welchem beispielsweise eine von der Gesamtoberfläche 5 ausgehend Wellenfront und/oder die Verkippung und/oder die Verkrümmung und/oder die Position vermessen wird. Die in dem Sensorblock 35 erfassten Informationen werden hernach an einen Feedbackblock 36 weitergeleitet, in welchem auf Grundlage der Informationen Korrektursignale und/oder Einstellungssignale für den Koordinationsblock 30 übermittelt werden und an diesen übermittelt werden. Im Koordinationsblock werden danach aktualisierte Befehle zur Ansteuerung der Blöcke 31 , 32 und 33 ermittelt und weitergegeben.

Der Koordinationsblock 30, der Kippblock 31 , der Verkrümmungsblock 32, der Positionierungsblock 33 sowie der Feedbackblock 36 können mithin als Teil eines Gesamtsteuerblocks 37 betrachtet werden, in welchem die einzelnen Blöcke koordiniert umgesetzt werden.

Der Gesamtsteuerblock 37 oder einzelne Blöcke 30, 31 , 32, 33, 36 des Gesamtsteuerblocks können in der Gesamtsteuereinrichtung 4 realisiert werden. Bezugszeichenliste

1 Optische Vorrichtung

2 Oberfläche

3 Manipulationseinrichtung

4 Gesamtsteuereinrichtung

5 Gesamtoberfläche

6 Lichtquelle

7 Zielort

8 Zielstruktur

9 Spalt

10 Kippeinrichtung

11 Flächennormale

12 Krümmungseinrichtung

13 Positionierungseinrichtung

14 Kippsteuereinrichtung

15 Positioniersteuereinrichtung

16 Krümmungssteuereinrichtung

17 Grundkörper

18 Oberflächengrundkörper

19 Aktorelement

19a Versteifungselement

20 Membran

21 Hohlraum

30 Koordinationsblock

31 Kippblock

32 Krümmungsblock

33 Positionierungsblock

34 Ergebnisblock

35 Sensorblock

36 Feedbackblock

37 Gesamtsteuerblock

100 EUV-Projektionsbelichtungsanlage

101 Beleuchtungssystem

102 Strahlungsquelle

103 Beleuchtungsoptik

104 Objektfeld

105 Objektebene

106 Retikel

107 Retikelhalter 108 Retikelverlagerungsantrieb

109 Projektionsoptik

110 Bildfeld

111 Bildebene

112 Wafer

113 Waferhalter

114 Waferverlagerungsantrieb

115 EUV- / Nutz- / Beleuchtungsstrahlung

116 Kollektor

117 Zwischenfokusebene

118 Umlenkspiegel

119 erster Facettenspiegel / Feldfacettenspiegel

120 erste Facetten / Feldfacetten

121 zweiter Facettenspiegel / Pupillenfacettenspiegel

122 zweite Facetten / Pupillenfacetten

200 DUV-Projektionsbelichtungsanlage

201 Beleuchtungssystem

202 Retikelstage

203 Retikel

204 Wafer

205 Waferhalter

206 Projektionsoptik

207 Linse

208 Fassung

209 Objektivgehäuse

210 Projektionsstrahl

Mi Spiegel