Die vorliegende Anmeldung nimmt die Priorität der deutschen Patentanmeldung DE 10 2022 116 693.7 vom 05.07.2022 in Anspruch, deren Inhalt hierin durch Bezugnahme vollumfänglich aufgenommen wird.

Die Erfindung betrifft ein optisches Element, eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie sowie ein Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers eines optischen Elementes.

Projektionsbelichtungsanlagen für die Halbleiterlithographie unterliegen extrem hohen Anforderungen an die Abbildungsqualität, um die gewünschten mikroskopisch kleinen Strukturen möglichst fehlerfrei herstellen zu können. In einem Lithogra- fieprozess oder einem Mikrolithografieprozess beleuchtet ein Beleuchtungssystem eine fotolithografische Maske, die auch als Retikel bezeichnet wird. Das durch die Maske hindurchtretende Licht oder das von der Maske reflektierte Licht wird von einer Projektionsoptik, auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Fotoresist) beschichtetes, in der Bildebene der Projektionsoptik angebrachtes Substrat (beispielsweise einen Wafer) projiziert, um die Strukturelemente der Maske auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen. Die Anforderungen an die Positionierung der Abbildung auf dem Wafer und die Intensität des durch das Beleuchtungssystem bereitgestellten Lichts werden mit jeder neuen Generation erhöht, was zu einer höheren Wärmelast auf den optischen Elementen führt.

Üblicherweise werden die als Spiegel ausgebildeten optischen Elemente, die in EUV-Projektionsbelichtungsanlagen, also in Anlagen, die mit einem Licht mit einer Wellenlänge zwischen 1 nm und 120 nm, insbesondere bei 13,5nm betrieben werden, durch eine in ihrem Grundkörper integrierte Wasserkühlung temperiert. Unter dem Grundkörper versteht man dasjenige Element, auf welchem die optisch aktive Fläche, also die von dem zur Abbildung der Strukturelemente genutzten Licht beaufschlagte Spiegeloberfläche, ausgebildet ist. Die Grundkörper umfassen dabei Fluidkanäle, die von temperiertem Wasser durchströmt werden und dadurch die Wärme von der optisch aktiven Fläche wegführen. Ein zum Herstellen der Aussparungen häufig verwendetes Verfahren ist das Bohren, welches den Nachteil hat, dass die Bohrungen nur gerade durch den Grundkörper getrieben werden können, so dass der Abstand von den überwiegend gekrümmten optisch aktiven Flächen über die Ausdehnung des optischen Elementes hinweg unterschiedlich groß ist. Dies wiederum führt zur Ausbildung von unterschiedlichen Temperaturgradienten im Grundkörper und zu einer lokal stark voneinander abweichenden Wärmeabfuhr von der Spiegeloberfläche. Dies führt zu Deformationen auf der optisch aktiven Fläche, die wiederum nachteilige Auswirkungen auf die Abbildungsqualität des Spiegels haben. Weiterhin erlaubt das Bohren lediglich eine eingeschränkte Wahl von möglichen Geometrien der Fluidkanäle, so dass die Einstellung einer gewünschten lokalen Kühlleistung durch eine geeignete Wahl der Geometrie eines Fluidkanals nur schwer möglich ist.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein optisches Element sowie eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie anzugeben, welche im Hinblick auf fluidinduzierte Vibrationen optimiert sind. Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers eines derartigen optischen Elementes anzugeben.

Diese Aufgaben werden gelöst durch eine Vorrichtung und ein Verfahren mit den Merkmalen der unabhängigen Ansprüche. Die Unteransprüche betreffen vorteilhafte Weiterbildungen und Varianten der Erfindung.

Ein erfindungsgemäßes optisches Element umfasst einen Grundkörper und mindestens eine im Grundkörper ausgebildete Fluidleitung zur Führung eines Temperierungsfluids. Erfindungsgemäß ist die Fluidleitung mindestens abschnittsweise derart ausgebildet, dass diese die Anregung mechanischer Schwingungen durch das Temperierungsfluid minimiert und/oder mechanische Schwingungen im Temperierungsfluid dämpft. Die Dämpfungswirkung der Fluidleitung kann dabei auf unterschiedlichste Weise erreicht werden. Es ist beispielsweise denkbar, eine biomechanische Ausgestaltung der Fluidleitung vorzusehen, beispielsweise in der Art von Haifischhaut.

Es ist ebenso denkbar, dass eine Fluidleitung eine astgabelförmige Verzweigung umfasst. Unter einer astgabelförmigen Verzweigung ist dabei eine Verzweigung zu verstehen, die hinsichtlich ihrer Geometrie an Astverzweigungen von Bäumen, aber auch an Verzweigungen von Blutgefäßen in Körpern von Lebewesen angelehnt ist. Aufgrund der evolutionären Entwicklung der Lebewesen sind derartige Verzweigungen hinsichtlich deren Strömungseigenschaften optimiert. Die astgabelförmigen Verzweigungen können dabei mit der in der Richtlinie VDI 6224 beschriebenen Methode der Zugdreiecke ausgelegt werden. Im Fall eines rechtwinkligen Übergangs kann in der rechtwinkligen Ecke ein gleichschenkliges, rechtwinkliges Dreieck, ein sogenanntes Zugdreieck, angeordnet werden. In der Mitte der Hypotenuse dieses ersten Dreiecks wird ein weiteres gleichschenkliges, stumpfwinkliges Zugdreieck angelegt. Diese Methode wird weitergeführt, wobei üblicherweise drei Zugdreiecke ausreichend sind, um aus einer rechtwinkligen Kerbe eine astgabelförmige Geometrie zu gestalten. Dabei können die verbleibenden stumpfen Ecken durch Radien oder Tangenskurven abgerundet werden. Entsprechendes gilt für nicht rechtwinklige Übergänge.

Dadurch, dass die Fluidleitung mehrere in Fluidströmungsrichtung nacheinander angeordnete astgabelförmige Verzweigungen umfasst, kann eine angepasste Geometrie zu Verbesserung der Temperierwirkung verwirklicht werden. So kann sich die Fluidleitung beispielsweise in einen Flächenkühler verzweigen.

Dabei ist es vorteilhaft, wenn die Summe der Leitungsquerschnitte vor und nach einer Verzweigung konstant ist. Der konstante Gesamtleitungsquerschnitt führt zu einer konstanten Strömungsgeschwindigkeit, wodurch Turbulenzen und durch diese induzierte mechanische Schwingungen an den Abzweigungen vorteilhaft vermieden werden können.

In einer vorteilhaften Variante der Erfindung umfasst die Fluidleitung einen als Spiralrestriktor ausgebildeten Abschnitt. Unter einem Spiralrestriktor ist in diesem Zusammenhang ein Abschnitt der Fluidleitung zu verstehen, der in Form einer räumlichen Spirale ähnlich einer Spiralfeder verläuft. In einem ersten Teil des Spiralrestriktors kann der Querschnitt der Fluidleitung verringert werden, wodurch sich die Strömungsgeschwindigkeit in der Fluidleitung erhöht. Durch die Reibung zwischen dem Fluid und der Innenfläche der Fluidleitung wird in einem zweiten Bereich des Spiralrestriktors mit konstantem Querschnitt ein Druckverlust bewirkt, welcher durch die erhöhte Strömungsgeschwindigkeit zusätzlich verstärkt ist. In einem dritten Teil des Spiralrestriktors wird der Querschnitt wieder auf den ursprünglichen Querschnitt verkleinert, wodurch die Strömungsgeschwindigkeit wieder sinkt. Diese Lösung hat den Vorteil, dass der bewirkte Druckverlust keine Turbulenzen im Fluid verursacht.

Eine weitere vorteilhafte Ausführungsform der erfindungsgemäßen Lösung zeichnet sich dadurch aus, dass die Fluidleitung einen Rohrabschnitt umfasst, welcher frei in einer Ausnehmung im Grundkörper verläuft. Dadurch kann erreicht werden, dass die Fluidleitung selbst in Schwingungen versetzt werden kann, wodurch die Schwingungsenergie im Temperierfluid in einem gewissen Ausmaß dissipiert werden kann.

Der Effekt kann insbesondere auch dadurch verstärkt werden, dass der Rohrabschnitt an seiner Außenseite mit Fortsätzen versehen ist, die beispielsweise als Schaufeln ausgebildet sein können.

Wenn die Ausnehmung mit einem Fluid gefüllt ist, kann die Schwingungsenergie dadurch, dass auch die in dem Fluid auftretende innere Reibung zur Dissipation beiträgt, noch etwas effektiver in Wärme umgewandelt werden; insbesondere in denjenigen Fällen, in welchen sich die Fortsätze bzw. Schaufeln gegen den Widerstand des Fluids bewegen.

Dadurch, dass der Rohrabschnitt im Bereich der Ausnehmung mit einer Bohrung zum Befüllen der Ausnehmung mit Temperierungsfluid versehen sein kann, kann das Temperierungsfluid in einer vorteilhaften Weise einer weiteren Verwendung zugeführt werden, nämlich zur Dissipation der Schwingungsenergie mittels der in ihm auftretenden inneren Reibung. Es kann in einer weiteren Variante der Erfindung sinnvoll sein, zur Dissipation der Schwingungsenergie des Rohrabschnittes ein von dem Temperierungsfluid verschiedenes Fluid zu verwenden, welches beispielsweise hinsichtlich seiner viskosen Eigenschaften an eine verbesserte Dämpfungswirkung angepasst ist. Hierzu kann die Ausnehmung mit einer Zuleitung im Grundkörper zum Befüllen der Ausnehmung mit Fluid versehen sein.

In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung kann die Fluidleitung mindestens ein passives fluidisches Ventil, insbesondere ein Teslaventil, zur Dämpfung einer im Fluid vorhandenen Druckschwankung umfassen. Unter einem Teslaventil ist in diesem Zusammenhang eine Verzweigung der Fluidleitung in der Art zu verstehen, dass ein Teil des in der Fluidleitung strömenden Mediums vom Hauptstrom abgezweigt wird, nachfolgend die Strömungsrichtung des abgezweigten Teils entgegen der Hauptströmungsrichtung ausgerichtet wird und stromabwärts der abgezweigte Teil dem Hauptstrom wieder zugeführt wird.

Die Effektivität der Dämpfung kann weiterhin dadurch gesteigert werden, dass mindestens zwei Teslaventile hintereinander angeordnet sind.

Ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers für ein optisches Element mit einem additiven Verfahren umfasst folgende Verfahrensschritte:

- Herstellung mindestens eines Teilkörpers des Grundkörpers mit einem Polyjetverfahren, wobei das zur Herstellung des Grundkörpers verwendete Materialgemisch ein Trägermaterial mit mindestens einem Monomer und/oder Oligomer und ein Strukturmaterial mit einem Glaspulver aufweist

- Erwärmung des Teilkörpers zum thermischen Verbinden der Glaspulverbestandteile und zur Verbrennung des Trägermaterials

- Sintern des Teilkörpers

Unter einem Polyjetverfahren versteht man ein 3D-Druckverfahren, bei welchem während des Drucks ein Druckkopf winzig kleine Tröpfchen eines Photopolymers auf eine Plattform aufträgt, welches sofort mittels UV-Licht polymerisiert und damit ausgehärtet wird. Das Verfahren ermöglicht es, nahezu beliebige Geometrien herzustellen, wobei typischerweise im Endprodukt keine Übergänge zwischen den beim Drucken der Struktur erzeugten Schichten mehr nachweisbar sind.

Insbesondere können zwei unterschiedliche Materialgemische bei der Herstellung der Struktur des Grundkörpers Anwendung finden. Dadurch können beispielweise Teile der Struktur, wie beispielsweise der weiter oben beschriebene Rohrabschnitt in der Ausnehmung oder die Noppen einer Haifischhaut mit einem Material mit hoher Elastizität hergestellt werden.

Insbesondere kann der der Grundkörper unter Verwendung eines zweiten Teilkörpers hergestellt werden, wobei dieser mit einem von dem des ersten Teilkörpers abweichenden Fertigungsverfahren hergestellt ist. Die einzelnen Teilkörper können formschlüssig oder stoffschlüssig miteinander zu dem Grundkörper verbunden werden. Diese Variante der Erfindung erlaubt es, beispielsweise zunächst einen Teilkörper mit Strukturen wie oben beschrieben mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens herzustellen und diesen Teilkörper nachfolgend mit einem weiteren Teilkörper zu verbinden, der mit einem einfacheren, kostengünstigeren und gegebenenfalls konventionellen Verfahren hergestellt wurde.

Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele und Varianten der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen

Figur 1 schematisch im Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithografie,

Figur 2 schematisch im Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage für die DUV-Projektionslithografie,

Figur 3 eine schematische Darstellung eines erfindungsgemäßen Spiegels mit im Grundkörper ausgebildeten Fluidleitungen,

Figur 4a, b eine erste Ausführungsform der Erfindung, Figur 5a, b je eine weitere Ausführungsform der Erfindung,

Figur 6 eine weitere Ausführungsform der Erfindung,

Figur 7a, b je eine weitere Ausführungsform der Erfindung, und

Figur 8 ein Flussdiagramm zu einem erfindungsgemäßen Verfahren.

Im Folgenden werden zunächst unter Bezugnahme auf die Figur 1 exemplarisch die wesentlichen Bestandteile einer Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithografie beschrieben. Die Beschreibung des grundsätzlichen Aufbaus der Projektionsbelichtungsanlage 1 sowie deren Bestandteile sind hierbei nicht einschränkend verstanden.

Eine Ausführung eines Beleuchtungssystems 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Bei einer alternativen Ausführung kann die Lichtquelle 3 auch als ein zum sonstigen Beleuchtungssystem separates Modul bereitgestellt sein. In diesem Fall umfasst das Beleuchtungssystem die Lichtquelle 3 nicht.

Beleuchtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverlage- rungsantrieb 9 insbesondere in einer Scanrichtung verlagerbar.

In der Figur 1 ist zur Erläuterung ein kartesisches xyz-Koordinatensystem eingezeichnet. Die x-Richtung verläuft senkrecht zur Zeichenebene hinein. Die y-Richtung verläuft horizontal und die z-Richtung verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in der Fig. 1 längs der y-Richtung. Die z-Richtung verläuft senkrecht zur Objektebene 6.

Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine Projektionsoptik 10. Die Projektionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Die Bildebene 12 verläuft parallel zur Objektebene 6. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12 möglich.

Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y-Richtung verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Retikelverlagerungsantrieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Waferverlagerungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen.

Bei der Strahlungsquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Strahlungsquelle 3 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Strahlungsquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (Laser Produced Plasma, mithilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Strahlungsquelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (Free-Electron-Laser, FEL) handeln.

Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Strahlungsquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt. Bei dem Kollektor 17 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 17 kann im streifenden Einfall (Grazing Incidence, Gl), also mit Einfallswinkeln größer als 45° gegenüber der Normalenrichtung der Spiegeloberfläche, oder im normalen Einfall (Normal Incidence, NI), also mit Einfallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt werden. Der Kollektor 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein. Nach dem Kollektor 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Strahlungsquelle 3 und den Kollektor 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen.

Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strahlengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 19 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 20 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, die zur Ob-jektebene 6 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacet- ten-spiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 20 umfasst eine Vielzahl von einzel-nen ersten Facetten 21 , welche im Folgenden auch als Feldfacetten bezeichnet werden. Von diesen Facetten 21 sind in der Fig. 1 nur beispielhaft einige dargestellt.

Die ersten Facetten 21 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 21 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein.

Wie beispielsweise aus der DE 10 2008 009 600 A1 bekannt ist, können die ersten Facetten 21 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbesondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Facettenspiegel 20 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.

Zwischen dem Kollektor 17 und dem Umlenkspiegel 19 verläuft die Beleuchtungsstrahlung 16 horizontal, also längs der y-Richtung. Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Sofern der zweite Facettenspiegel 22 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 22 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 20 und dem zweiten Facettenspiegel 22 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der US 2006/0132747 A1 , der EP 1 614 008 B1 und der US 6,573,978.

Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23. Die zweiten Facetten 23 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet.

Bei den zweiten Facetten 23 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facetten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.

Die zweiten Facetten 23 können plane oder alternativ konvex oder konkav gekrümmte Reflexionsflächen aufweisen.

Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Wabenkondensor (Fly's Eye Integrator) bezeichnet.

Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist, anzuordnen. Insbesondere kann der Pupillenfacettenspiegel 22 gegenüber einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 verkippt angeordnet sein, wie es zum Beispiel in der DE 10 2017 220 586 A1 beschrieben ist.

Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündel- formende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5.

Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Objektfeld 5 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbildung der ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufweisen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (Nl- Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (Gl-Spiegel, Gracing Incidence Spiegel) umfassen.

Die Beleuchtungsoptik 4 hat bei der Ausführung, die in der Fig. 1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 17 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 19, den Feldfacettenspiegel 20 und den Pupillenfacettenspiegel 22.

Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann der Umlenkspiegel 19 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 4 nach dem Kollektor 17 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.

Die Abbildung der ersten Facetten 21 mittels der zweiten Facetten 23 beziehungsweise mit den zweiten Facetten 23 und einer Übertragungsoptik in die Objektebene 6 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.

Die Projektionsoptik 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durchnummeriert sind.

Bei dem in der Figur 1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 10 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 16. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Die Projektionsoptik 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann.

Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, hoch reflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung 16 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer-Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium, gestaltet sein.

Die Projektionsoptik 10 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 5 und einer y- Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 11 . Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y- Richtung kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12.

Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe ßx, ßy in x- und y- Richtung auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe ßx, ßy der Projektionsoptik 10 liegen bevorzugt bei (ßx, ßy) = (+/- 0,25, +/- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab ß bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab ß bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr.

Die Projektionsoptik 10 führt somit in x-Richtung, das heißt in Richtung senkrecht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 4:1.

Die Projektionsoptik 10 führt in y-Richtung, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung von 8:1. Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich.

Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 11 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 10, unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwischenbilder in x- und y- Richtung sind bekannt aus der US 2018/0074303 A1.

Jeweils eine der Pupillenfacetten 23 ist genau einer der Feldfacetten 21 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der Feldfacetten 21 in eine Vielzahl an Objektfeldern 5 zerlegt. Die Feldfacetten 21 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten Pupillenfacetten 23.

Die Feldfacetten 21 werden jeweils von einer zugeordneten Pupillenfacette 23 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 auf das Retikel 7 abgebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist insbesondere möglichst homogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden.

Durch eine Anordnung der Pupillenfacetten kann geometrisch die Ausleuchtung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 definiert werden. Durch Auswahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der Pupillenfacetten, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting bezeichnet.

Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchteter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden. Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objektfeldes 5 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 beschrieben.

Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein.

Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 lässt sich regelmäßig mit dem Pupillenfacettenspiegel 22 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projektionsoptik 10, welche das Zentrum des Pupillenfacettenspiegels 22 telezentrisch auf den Wafer 13 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.

Es kann sein, dass die Projektionsoptik 10 unterschiedliche Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bauelement der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Retikel 7 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.

Bei der in der Figur 1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuchtungsoptik 4 ist der Pupillenfacettenspiegel 22 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 konjugierten Fläche angeordnet. Der Feldfacettenspiegel 20 ist verkippt zur Objektebene 6 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 19 definiert ist.

Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 22 definiert ist. Figur 2 zeigt schematisch im Meridionalschnitt eine weitere Projektionsbelichtungsanlage 101 für die DUV-Projektionslithografie, in welcher die Erfindung eben-falls zur Anwendung kommen kann.

Der Aufbau der Projektionsbelichtungsanlage 101 und das Prinzip der Abbildung ist vergleichbar mit dem in Figur 1 beschriebenen Aufbau und Vorgehen. Gleiche Bauteile sind mit einem um 100 gegenüber Figur 1 erhöhten Bezugszeichen bezeichnet, die Bezugszeichen in Figur 2 beginnen also mit 101.

Im Unterschied zu einer wie in Figur 1 beschriebenen EUV-Projektionsbelichtungs- anlage 1 können auf Grund der größeren Wellenlänge der als Nutzlicht verwendeten DUV-Strahlung 116 im Bereich von 100 nm bis 300 nm, insbesondere von 193 nm, in der DUV-Projektionsbelichtungsanlage 101 zur Abbildung beziehungsweise zur Beleuchtung refraktive, diffraktive und/oder reflexive optische Elementen 117, wie beispielsweise Linsen, Spiegeln, Prismen, Abschlussplatten und dergleichen verwendet werden. Die Projektionsbelichtungsanlage 101 umfasst dabei im Wesentlichen ein Beleuchtungssystem 102, einen Retikelhalter 108 zur Aufnahme und exakten Positionierung eines mit einer Struktur versehenen Retikels 107, durch welches die späteren Strukturen auf einem Wafer 113 bestimmt werden, einen Waferhalter 114 zur Halterung, Bewegung und exakten Positionierung eben dieses Wafers 113 und einem Projektionsobjektiv 110, mit mehreren optischen Elementen 117, die über Fassungen 118 in einem Objektivgehäuse 119 des Projektionsobjektives 110 gehalten sind.

Das Beleuchtungssystem 102 stellt eine für die Abbildung des Retikels 107 auf dem Wafer 113 benötigte DUV-Strahlung 116 bereit. Als Quelle für diese Strahlung 116 kann ein Laser, eine Plasmaquelle oder dergleichen Verwendung finden. Die Strahlung 116 wird in dem Beleuchtungssystem 102 über optische Elemente derart geformt, dass die DUV-Strahlung 116 beim Auftreffen auf das Retikel 107 die gewünschten Eigenschaften hinsichtlich Durchmesser, Polarisation, Form der Wellenfront und dergleichen aufweist. Der Aufbau der nachfolgenden Projektionsoptik 110 mit dem Objektivgehäuse 119 unterscheidet sich außer durch den zusätzlichen Einsatz von refraktiven optischen Elementen 117 wie Linsen, Prismen, Abschlussplatten prinzipiell nicht von dem in Figur 1 beschriebenen Aufbau und wird daher nicht weiter beschrieben.

Figur 3 zeigt ein als Spiegel Mx, 117 ausgebildetes optisches Element, wie es beispielsweise in den in der Figur 1 und in der Figur 2 erläutertet Projektionsbelichtungsanlagen eingesetzt wird. Der Spiegel Mx, 117 umfasst einen Grundkörper 30 mit einer auf der Oberseite des Grundkörpers 30 ausgebildeten optischen Wirkfläche 31. Der in der Figur 1 teiltransparent dargestellte Grundkörper 30 umfasst Fluidleitungen 32, welche unterhalb der optischen Wirkfläche 31 ausgebildet sind, einen konstanten Abstand zur optischen Wirkfläche 31 aufweisen und parallel zueinander verlaufen. Die Fluidleitungen 32 umfassen jeweils einen Zulauf 33 und einen Ablauf 34, welche zu der der optischen Wirkfläche 31 abgewandten Rückseite des Grundkörpers 30 hin ausgerichtet sind. Dies ermöglicht eine einfache Zugänglichkeit zum Anschluss von nicht dargestellten Versorgungsleitungen, welche ein durch die Fluidleitungen 32 strömendes Temperierungsfluid 38 zum Zulauf 33 hin und vom Ablauf 34 weg transportieren. In einem vergrößerten Ausschnitt des Grundkörpers 30 ist ein 90-Grad-Bogen 35, welcher die Fluidleitung 32 mit dem Zulauf 33 und Ablauf 34 verbindet, dargestellt. Der Bogen 35 ist derart ausgebildet, dass die Umlenkung des in der Fluidleitung 32 strömenden Fluids keine Anregung des Spiegels Mx, 117 durch sogenannte fluidinduzierte Vibrationen erzeugt.

Der Grundkörper 30 mit den im Grundkörper 30 integrierten Fluidleitungen 32 ist mit einem erfindungsgemäßen 3D-Druckverfahren hergestellt worden, bei welchem zunächst die Struktur des Grundkörpers 30 mit einem Materialgemisch mit einem mindestens Monomere und/oder Oligomere umfassenden Trägermaterial und einem Glaspulver umfassenden Strukturmaterial gedruckt wird. Der 3D-Drucker kann mindestens zwei unterschiedliche Materialgemische drucken und umfasst eine UV- Lichtquelle, welche die aus den mindestens zwei Materialgemischen gedruckte Struktur unmittelbar nach dem Aufbringen des Materialgemischs polymerisiert. Die so hergestellte Struktur aus Kunststoff mit Glaspulverbestandteilen wird danach durch einen thermischen Prozess und einen Sinterprozess zu einem Grundkörper für ein optisches Element weiterverarbeitet. Der Prozess unterliegt prinzipbedingt einem isotropen Schrumpf, welcher aber vorgehalten werden kann.

Figur 4a zeigt eine Detaildarstellung einer vorteilhaften Variante der Erfindung mit einer Fluidleitung 32, welche eine Verzweigung 40 aufweist. Die Verzeigung 40 ist derart ausgebildet, dass eine Anregung durch das Durchströmen des Fluids durch die Verzweigung 40 auf Grund einer Reduzierung von Totzonen und Verwirbelungen minimiert oder vollständig vermieden wird. Die Verzweigung ist in Anlehnung an Verzweigungen, wie sie an Bäumen, aber auch in Blutgefäßen zu beobachten sind, astgabelförmig ausgebildet; sie kann hierzu insbesondere nach der Methode der Zugdreiecke ausgelegt werden. Die Strömungsrichtung des Fluids ist durch Pfeile in der Figur 4a angedeutet. Der Leitungsquerschnitt 41 .1 der Fluidleitung 36 vor der Verzweigung 40 ist dabei genauso groß wie die Summe der beiden Leitungsquerschnitte 41 .2, 41 .3 der Fluidleitungen 37.1 , 37.2 nach der Verzweigung 40. Unter der vereinfachenden Annahme einer über den Leitungsquerschnitt 41 .1 konstanten Strömungsgeschwindigkeit kann in diesem Fall davon ausgegangen werden, dass die mittlere Strömungsgeschwindigkeit in den beiden Fluidleitungen 37.1 und 37.2 der mittleren Strömungsgeschwindigkeit in der Fluidleitung 36 entspricht. Dadurch kann erreicht werden, dass insbesondere im Bereich der Verzweigung 40 in dem strömenden Fluid keine oder nahezu keine Turbulenzen auftreten, welche Anlass zu Vibrationen geben könnten.

Die astgabelförmige Auslegung der Verzweigung 40 soll nachfolgend anhand der Figur 4b kurz erläutert werden. Figur 4b zeigt die aus Figur 4a bereits bekannte Fluidleitung 32. Im Bereich des stumpfen Außenwinkels der Verzweigung 40 ist ein erstes Dreieck D10 eingezeichnet. Es entsteht dadurch, dass die Winkelhalbierende in der Verzweigung 40 als Höhe des gleichschenkligen Dreiecks D10 verwendet wird. Dabei ist die Höhe des Dreiecks D10 von der erwarteten Strömungsgeschwindigkeit im Bereich der Verzweigung 40 abhängig. Entsprechend entstehen die ebenfalls gleichschenkligen Dreiecke D11 und danach die weiteren Dreiecke D12, wobei jeweils eine Ecke der Dreiecke D11 auf dem Mittelpunkt der Basisseite des Dreiecks D10 liegt. Ebenso liegt jeweils eine Ecke der Dreiecke D12 dem Mittelpunkt der Basisseiten der Dreiecke D11 . Entlang der Basisseiten der entstandenen Dreiecke D10, D11 und D12 wird die Kurve K1 angenähert. Entsprechend wird auf der gegenüberliegenden Seite der Verzweigung 40 verfahren, sodass sich die Dreiecke D20, D21 und D22 und die Kurve K2 ergeben.

Figur 5a zeigt eine weitere Ausführungsform der Erfindung in Form eines Flächenkühlers 42, welcher mehrere astgabelförmige Verzweigungen 40, wie in der Figur 4 erläutert, umfasst. In der in der Figur 5a dargestellten beispielhaften Ausführungsform wird eine Fluidleitung 32 zunächst über eine Verzweigung 43.1 in drei Fluidleitungen 44 verzweigt und diese durch eine weitere Verzweigung 43.2 jeweils in zwei Fluidleitungen 45 verzweigt. Dadurch ergibt sich eine mit der Anordnung in der Figur 3 erläuterten Fluidleitungen 32 vergleichbare Anordnung von mehreren parallel verlaufenden Fluidleitungen 45. ein derartiger Flächenkühler 42 kann insbesondere unterhalb einer optischen Wirkfläche angeordnet sein und diese temperieren. Die Fluidleitungen 45 werden im weiteren Verlauf durch Sammler 46.1 , 46.2 zunächst zu drei Fluidleitungen 44 und dann zu einer Fluidleitung 32 zusammengeführt.

Figur 5b zeigt eine weitere Ausführungsform der Erfindung in Form eines in einem nur ausschnittsweise dargestellten Grundkörper 30 ausgebildeten Mengenverteilers 47, welcher mehrere Verzweigungen 48.1 , 48.2, 48.3 aufweist. Die Verzweigungen 48.1 , 48.2, 48.3 weisen unterschiedliche Querschnitte 49.1 , 49.2, 49.3 auf. Dies führt dazu, dass in allen drei abgehenden Fluidleitungen 50.1 , 50.2, 50.3, der gleiche Volumenstrom an Fluid abgeht. Dies beruht auf der Annahme, dass der Druckabfall über die erste Verzweigung 48.1 bei der zweiten Verzweigung 48.2 durch einen größeren Querschnitt 49.2 der Fluidleitung 50.2 ausgeglichen wird. Der Fluidstrom ist wiederum durch Pfeile in der Figur 5b dargestellt. Die Gestaltung des Querschnittes der Abzweigungen kann dabei auch von der war in der Figur gezeigten Lösung abweichen. Ob der Querschnitt der Verzweigungen 48.1 , 48.2, 48.3 entlang der Strömungsrichtung des Fluids zu- oder abnimmt, hängt von den Verhältnissen im strömenden Fluid ab, insbesondere davon, ob die Strömung durch Reibungseffekte oder die kinetische Energie der strömenden Volumenelemente des Fluids dominiert wird. Figur 6 zeigt eine weitere Ausführungsform der Erfindung in Form eines Spiralrest- riktors 51. Dieser wird mit Hilfe eines 3D-Druckverfahrens direkt in den Grundkörper 30 (in der Figur 6 nicht dargestellt) integriert und hat gegenüber einer normalen Drossel den Vorteil, dass er weniger Anregung in den Grundkörper 30 einbringt.

Figur 7a zeigt eine weitere als Dämpfer 60 ausgebildete Ausführungsform der Erfindung. Der Dämpfer 60 umfasst eine Ausnehmung 61 im Grundkörper 30, welche an eine ebenfalls im Grundkörper 30 ausgebildete Fluidleitung 32 angrenzt. In der Ausnehmung 61 ist ein freier Rohrabschnitt 63 ausgebildet, welcher die im Grund-körper 30 ausgebildeten Fluidleitungen 32 zu beiden Seiten der Ausnehmung 61 miteinander verbindet. Das Temperierungsfluid 38 wird also durch den Rohrabschnitt 63 des Dämpfers 60 geführt. An der Außenseite 64 des Rohrabschnitts 63 sind Schaufeln 65 in unterschiedlichen Orientierungen angeordnet. Die Ausnehmung 61 wird mit einem Fluid 62 gefüllt, wobei diese in der in der Figur 7a gezeigten Ausführungsform dem Temperierungsfluid 38 entspricht. Im gezeigten Beispiel strömt das Temperierungsfluid 38 durch eine im Rohrabschnitt 63 ausgebildete Bohrung 66 in die Ausnehmung 61 . Alternativ kann das Fluid 62 von dem Temperierungsfluid 38 unterschiedlich sein und durch eine Zuleitung 67 im Grundkörper 30 in die Ausnehmung 61 eingefüllt werden. In diesem Fall ist im Rohrabschnitt 63 keine Bohrung 66 ausgebildet. Die im Fluid 38 ausgebildeten Druckschwankungen, also die flussinduzierten Schwingungen regen den Rohrabschnitt 63 an, wodurch diean der Außenseite 64 angeordneten Schaufeln 65 in Schwingungen versetzt werden. Die Schaufeln 65 bewegen sich gegen den Widerstand des Fluids 62 und werden durch die dadurch entstehende innere Reibung in dem Fluid 62 abgebremst. Die Schwingungsenergie wird somit in eine Erwärmung des Fluids 62 überführt und dadurch dissipiert. Die flussinduzierten Schwingungen werden im Ergebnis gedämpft.

Figur 7b zeigt eine weitere Ausführungsform der Erfindung in Form einer Mehrzahl von in einen Grundkörper 30 integrierten Teslaventile 70 als passive fluidische Ventile. Das Teslaventil 70 wirkt je nach Durchflussrichtung des Fluids 38 als Drossel (durchgezogener Pfeil) oder hat nahezu keine Auswirkung auf das durchströmende Fluid 38 (gestrichelter Pfeil). Das Fluid 38 wird durch eine Verzweigung 73 zunächst in einen primären Strom 71 und einen sekundären Strom 72 aufgeteilt, wobei der sekundäre Strom 72 derart geführt wird, dass er mit nahezu um 180° gedrehter Strömungsrichtung auf den primären Strom 71 trifft. An dieser Stelle kommt es zu Verwirbelungen, welche den primären Strom 71 abbremsen und zu einer Drosselwirkung führen. Das Teslaventil 70 wirkt insbesondere in einer Anordnung von mehreren in einem Kreislauf hintereinander angeordneten Teslaventilen 70 auch als Gleichrichter, wodurch eine durch eine Pumpe angeregte pulsierende Strömung in eine gleichmäßige Strömung umgewandelt wird.

Es versteht sich von selbst, dass die beschriebenen komplexen Geometrien durch konventionelle Verfahren nur schwer oder gar nicht herstellbar sind. Entsprechend vorteilhaft ist es, diese Geometrien mittels eines vorteilhaften additiven Verfahrens wie nachfolgend beschrieben herzustellen.

Figur 8 beschreibt ein Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers 30 für ein optisches Element Mx, 117.

In einem ersten Verfahrensschritt 81 wird mindestens ein Teilkörper des Grundkörpers 30 mit einem Polyjetverfahren hergestellt, wobei das verwendete Materialgemisch ein Trägermaterial mit mindestens einem Monomer und/oder Oligomer und ein Strukturmaterial mit mindestens einem Glaspulver aufweist.

In einem dritten Verfahrensschritt 83 wird der Teilkörper zum thermischen Verbinden der Glaspulverbestandteile und zur Verbrennung des Trägermaterials erwärmt.

In einem vierten Verfahrensschritt 84 wird der Teilkörper gesintert. Bezugszeichenliste

1 Projektionsbelichtungsanlage

2 Beleuchtungssystem

3 Strahlungsquelle

4 Beleuchtungsoptik

5 Objektfeld

6 Objektebene

7 Retikel

8 Retikelhalter

9 Retikelverlagerungsantrieb

10 Projektionsoptik

11 Bildfeld

12 Bildebene

13 Wafer

14 Waferhalter

15 Waferverlagerungsantrieb

16 EUV-Strahlung

17 Kollektor

18 Zwischenfokusebene

19 Umlenkspiegel

20 Facettenspiegel

21 Facetten

22 Facettenspiegel

23 Facetten

30 Grundkörper

31 optische Wirkfläche

32 Fluidleitung

33 Zulauf

34 Ablauf

35 Bogen Fluidleitung Fluidleitung

T emperierungsfluid Verzweigung Querschnitt Flächenkühler Verzweigung Fluidleitung Fluidleitung Sammler Mengenverteiler Verzweigung Querschnitt Fluidleitung Spiralrestriktor Dämpfer Ausnehmung Fluid

Rohrabschnitt Außenseite Schaufel Bohrung Zuleitung Teslaventil Primärer Strom Sekundärer Strom Verzweigung Verfahrensschritt 1 Verfahrensschritt 2 Verfahrensschritt 3 Verfahrensschritt 4 101 Projektionsbelichtungsanlage

102 Beleuchtungssystem

107 Retikel

108 Retikelhalter

110 Projektionsoptik

113 Wafer

114 Waferhalter

116 DUV-Strahlung

117 optisches Element

118 Fassungen

119 Objektivgehäuse

M1-M6 Spiegel