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Patent Searching and Data


Title:
PIPELINE BUBBLE REMOVING METHOD AND PIPELINE BUBBLE REMOVING DEVICE FOR SUBSTRATE COATER AND CORRESPONDING COATER
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2014/107907
Kind Code:
A1
Abstract:
A pipeline bubble removing method and a pipeline bubble removing device (10) for a substrate coater and a corresponding coater (1). The pipeline bubble removing method at least comprises the following steps: starting an injection pump (100) for a first period of time, and the injection pump (100) injecting a photoresist from a storage container (2) into a coater pipeline (11) of the coater (1);driving the photoresist to flow in the coater pipeline (11) of the coater (1), and performing a bubble removing process once;after the bubble removing process is finished, closing the injection pump (100) for a second period of time;after small bubbles in the coater pipeline (11) have accumulated during the second period of time, starting the injection pump (100) again, and repeating the bubble removing process until all small bubbles in the coater pipeline (11) are completely removed.By means of the above-mentioned bubble removing method, pipeline bubble removing efficiency can be improved, and a saving can be made on photoresists.

Inventors:
LI LIANG (CN)
KO CHIH-SHENG (CN)
XU BIN (CN)
Application Number:
PCT/CN2013/070478
Publication Date:
July 17, 2014
Filing Date:
January 15, 2013
Export Citation:
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Assignee:
SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECT (CN)
International Classes:
G03F7/16; B05C11/10
Foreign References:
JPH09136052A1997-05-27
CN1498855A2004-05-26
CN201188171Y2009-01-28
CN102295259A2011-12-28
CN1508845A2004-06-30
JP2011238820A2011-11-24
Attorney, Agent or Firm:
SHENZHEN RONDA PATENT AND TRADEMARK LAW OFFICE (CN)
深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) (CN)
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Claims:
权 利 要 求

1、 一种基板涂布机的管路排泡装置, 其中, 所述管路排泡装置包括: 注射泵, 用于将光阻从储存容器注射到涂布机的涂布机管道中; 控制单元, 用于启动注射泵持续一第一时间, 驱动所述光阻在所述涂布 机的涂布机管道中流动, 进行一次排泡处理过程; 以及在一次排泡处理过程 结束后, 关闭所述注射泵持续一第二时间; 并在所述涂布机管道中的小气泡 在该第二时间内积聚后, 再次启动注射泵, 重复排泡过程, 直至所述涂布机 管道中的所有小气泡排泡完成。

2、 如权利要求 1 所述的管路排泡装置, 其中, 所述控制单元进一步包 括:

注射泵启动控制子单元, 用于启动注射泵持续一第一时间, 驱动所述光 阻在所述涂布机的涂布机管道中流动;

注射泵关闭控制子单元, 用于在一次排泡处理过程结束后, 关闭所述注 射泵并持续一第二时间;

判断处理子单元, 用于判断排泡是否完成, 如果判断结果为排泡尚未完 成, 则在所述注射泵关闭控制子单元关闭所述注射泵并持续第二时间后, 控 制所述注射泵启动控制子单元重新启动所述注射泵。

3、 如权利要求 2所述的管路排泡装置, 其中, 进一步包括:

振动装置, 用于在所述第二时间内, 为所述涂布机管道提供震动波。

4、 如所述权利要求 3所述的管路排泡装置, 其中, 所述控制单元进一 步包括:

振动装置控制子单元,用于在所述判断处理子单元判断到所述排泡尚未 完成时, 驱动所述振动装置向所述涂布机管道提供震动波。

5、 如权利要求 4所述的管路排泡装置, 其中, 所述控制单元进一步包 括:

设置子单元, 用于设置所述第一时间和所述第二时间值。

6、 一种基板涂布机, 可以实现对管道的排泡, 其至少包括涂布机管道、 连接在所述涂布机管道上的喷头以及管路排泡装置, 其中, 所述管路排泡 装置包括: 注射泵, 用于将光阻从储存容器注射到涂布机的涂布机管道中; 控制单元, 用于启动注射泵持续一第一时间, 驱动所述光阻在所述涂布 机的涂布机管道中流动, 进行一次排泡处理过程; 以及在一次排泡处理过程 结束后, 关闭所述注射泵持续一第二时间; 并在所述涂布机管道中的小气泡 在该第二时间内积聚后, 再次启动注射泵, 重复排泡过程, 直至所述涂布机 管道中的所有小气泡排泡完成。

7、 如权利要求 6所述的基板涂布机, 其中, 所述控制单元进一步包括: 注射泵启动控制子单元, 用于启动注射泵持续一第一时间, 驱动所述光 阻在所述涂布机的涂布机管道中流动;

注射泵关闭控制子单元, 用于在一次排泡处理过程结束后, 关闭所述注 射泵并持续一第二时间;

判断处理子单元, 用于判断排泡是否完成, 如果判断结果为排泡尚未完 成, 则在所述注射泵关闭控制子单元关闭所述注射泵并持续第二时间后, 控 制所述注射泵启动控制子单元重新启动所述注射泵。

8、 如权利要求 7所述的基板涂布机, 其中, 所述控制单元进一步包括: 设置子单元, 用于设置所述第一时间和所述第二时间值。

9、 如权利要求 8所述的基板涂布机, 其中, 进一步包括:

振动装置, 用于在所述第二时间内, 为所述涂布机管道提供震动波。

10、 如所述权利要求 9所述的基板涂布机, 其中, 所述控制单元进一步 包括:

振动装置控制子单元,用于在所述判断处理子单元判断到所述排泡尚未 完成时, 驱动所述振动装置向所述涂布机管道提供震动波。

11、 一种基板涂布机的管路排泡方法, 其中, 至少包括如下步骤: 启动注射泵持续一第一时间, 所述注射泵将光阻从储存容器注射到涂布 机的涂布机管道中;

驱动所述光阻在所述涂布机的涂布机管道中流动, 进行一次排泡处理过 程;

在该次排泡处理过程结束后, 关闭所述注射泵并持续一第二时间; 待所述涂布机管道中的小气泡在所述第二时间内积聚后,再次启动注射 泵, 重复排泡过程, 直至所述涂布机管道中的所有小气泡排泡完成。

12、 如权利要求 11所述的管路排泡方法, 其中, 进一步包括: 预先设置所述第一时间与所述第二时间。

13、 如权利要求 12所述的管路排泡方法, 其中, 所述排泡过程包括分 段排泡过程。

14、 如权利要求 11 所述的管路排泡方法, 其中, 所述涂布机管道中的 小气泡在该第二时间积聚的步骤具体为:

在所述第二时间内, 静置所述涂布机管道, 使所述小气泡积聚; 或者 在所述第二时间内 ,向所述涂布机管道提供震动波,使所述小气泡积聚。

15、 如权利要求 12所述的管路排泡方法, 其中, 所述涂布机管道中的 小气泡在该第二时间积聚的步骤具体为:

在所述第二时间内, 静置所述涂布机管道, 使所述小气泡积聚; 或者 在所述第二时间内 ,向所述涂布机管道提供震动波,使所述小气泡积聚。

16、 如权利要求 13所述的管路排泡方法, 其中, 所述涂布机管道中的 小气泡在该第二时间积聚的步骤具体为:

在所述第二时间内, 静置所述涂布机管道, 使所述小气泡积聚; 或者 在所述第二时间内,向所述涂布机管道提供震动波,使所述小气泡积聚。

Description:
一种基板涂布机的管路排泡方法、 管路排泡装置及相应的涂布机

本申请要求于 2013 年 1 月 11 日提交中国专利局、 申请号为 201310009567.0、 发明名称为 "一种基板涂布机的管路排泡方法、 装置及相 应的涂布机" 的中国专利申请的优先权, 上述专利的全部内容通过引用结合 在本申请中。 技术领域

本发明涉及薄膜晶体管液晶显示器( Thin Film Transistor Liquid Crystal Display, TFT-LCD )的制程技术, 特别涉及一种基板涂布机的管路排泡方法、 装置及相应的涂布机。

背景技术

在现有的 TFT-LCD产品的生产制程中, 一般需要对上版及下版进行处 理, 下版为 TFT P车歹l ( TFT Array )制程玻璃, 而上版则是彩色滤光片(Color Filter, CF )制程玻璃。 在这两种玻璃上均需要进行涂布的过程, 需要将光阻 涂布于两种玻璃基板上。 由于涂布机(Coater ) 的管路中或多或少会存在气 泡, 故首先需要进行排泡处理。

在现有涂布机中对管道进行排泡处理一般采用 多次排泡和分段排泡的 方式来完成, 其中排泡次数通常由经验值进行确定, 但是这两种方式通常可 以将大颗气泡排出,但是微小气泡通常聚集与 管路系统的接口和附着在管壁 上无法排出。 因此, 在现有的方式中, 会出现排泡不尽的情形或者需要艮多 次的排泡过程才能将气泡排尽, 在第一种情形中, 如果管道中排泡不尽通常 会导致通过喷嘴向基板最终的涂布效果不均勾 , 使得产品品质发生异常, 甚 至导致产品失败, 而处理这些异常无疑会导致产能下降; 在另一种情形中, 如果需而很多次的排泡过程, 则需要进行多次的排泡过程, 每次的排泡过程 均需要光阻在管道中流动, 故会导致光阻的浪费。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于, 提供一种基板涂布机的管路排泡方 法、 装置及相应的涂布机, 可以在对基板涂布机的管路进行排泡时, 提高光 阻的利用效率。

为了解决上述技术问题, 本发明的实施例的一方面提供一种基板涂布机 的管路排泡装置, 管路排泡装置包括:

注射泵, 用于将光阻从储存容器注射到涂布机的涂布机 管道中; 控制单元, 用于启动注射泵持续一第一时间, 驱动光阻在涂布机的涂布 机管道中流动, 进行一次排泡处理过程; 以及在一次排泡处理过程结束后, 关闭注射泵持续一第二时间; 并在涂布机管道中的小气泡在该第二时间内积 聚后, 再次启动注射泵, 重复排泡过程, 直至涂布机管道中的所有小气泡排 泡完成。

其中, 控制单元进一步包括:

注射泵启动控制子单元, 用于启动注射泵持续一第一时间, 驱动光阻在 涂布机的涂布机管道中流动;

注射泵关闭控制子单元, 用于在一次排泡处理过程结束后, 关闭注射泵 持续一第二时间;

判断处理子单元, 用于判断排泡是否完成, 如果判断结果为排泡尚未完 成, 则在注射泵关闭控制子单元关闭注射泵并持续 第二时间后, 控制注射泵 启动控制子单元重新启动注射泵。

其中, 控制单元进一步包括:

设置子单元, 用于设置第一时间和第二时间值。

其中, 进一步包括:

振动装置, 用于在第二时间内, 为涂布机管道提供震动波。

其中, 控制单元进一步包括:

振动装置控制子单元, 用于在判断处理子单元判断到排泡尚未完成时 , 驱动振动装置向涂布机管道提供震动波。

本发明实施例的另一方面, 提供一种基板涂布机, 可以实现对管道的排 泡, 其至少包括涂布机管道、 连接在涂布机管道上的喷头以及管路排泡装 置, 其中, 管路排泡装置包括:

注射泵, 用于将光阻从储存容器注射到涂布机的涂布机 管道中; 控制单元, 用于启动注射泵持续一第一时间, 驱动光阻在涂布机的涂布 机管道中流动, 进行一次排泡处理过程; 以及在一次排泡处理过程结束后, 关闭注射泵持续一第二时间; 并在涂布机管道中的小气泡在该第二时间内积 聚后, 再次启动注射泵, 重复排泡过程, 直至涂布机管道中的所有小气泡排 泡完成。

其中, 控制单元进一步包括:

注射泵启动控制子单元, 用于启动注射泵持续一第一时间, 驱动光阻在 涂布机的涂布机管道中流动;

注射泵关闭控制子单元, 用于在一次排泡处理过程结束后, 关闭注射泵 持续一第二时间;

判断处理子单元, 用于判断排泡是否完成, 如果判断结果为排泡尚未完 成, 则在注射泵关闭控制子单元关闭注射泵并持续 第二时间后, 控制注射泵 启动控制子单元重新启动注射泵。

其中, 控制单元进一步包括:

设置子单元, 用于设置第一时间和第二时间值。

其中, 进一步包括:

振动装置, 用于在第二时间内, 为涂布机管道提供震动波。

其中, 控制单元进一步包括:

振动装置控制子单元, 用于在判断处理子单元判断到排泡尚未完成时 , 驱动振动装置向涂布机管道提供震动波。

本发明实施例的再一方面, 提供一种基板涂布机的管路排泡方法, 至少 包括如下步骤:

启动注射泵持续一第一时间, 注射泵将光阻从储存容器注射到涂布机的 涂布机管道中;

驱动光阻在涂布机的涂布机管道中流动, 进行一次排泡处理过程; 在该次排泡处理过程结束后, 关闭注射泵并持续一第二时间; 待涂布机管道中的小气泡在第二时间内积聚后 , 再次启动注射泵, 重复 排泡过程, 直至涂布机管道中的所有小气泡排泡完成。

其中, 进一步包括: 预先设置第一时间与第二时间。

其中, 排泡过程包括分段排泡过程。 其中, 涂布机管道中的小气泡在该第二时间积聚的步 骤具体为: 在第二时间内, 静置涂布机管道, 使小气泡积聚; 或者

在第二时间内, 向涂布机管道提供震动波, 使小气泡积聚。

实施本发明实施例, 具有如下有益效果:

本发明实施例中, 通过在一次排泡完成后, 增加一个第二时间的间隔设 定, 使微小气泡在此时间间隔内可以积聚为大颗气 泡, 之后再进行排泡的步 骤, 可在相同光阻用量下提高排泡效率, 从而很好地将基板涂布机的管路中 的气泡排尽, 并能节省光阻, 提高光阻的利用效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中 的技术方案, 下面将对实 施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简 单地介绍, 显而易见地, 下面 描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例, 对于本领域普通技术人员来讲, 在不付出创造性劳动的前提下, 还可以根据这些附图获得其他的附图。

图 1为本发明的一种涂布机第一实施例的结构示 图;

图 2是图 1中的控制单元的结构示意图;

图 3为本发明的一种涂布机第二实施例的结构示 图;

图 4是图 3中的控制单元的结构示意图;

图 5 是本发明的一种基板涂布机的管路排泡方法的 一个实施例的流程 图;

图 6是本发明中进行多次排泡过程的时间周期示 图。

具体实施方式

下面参考附图对本发明的优选实施例进行描述 。

请参照图 1和图 2所示, 示出了本发明的一种涂布机第一实施例的结构 示意图。 从中可以看出, 本发明的涂布机 1至少包括:

涂布机管道 11 , 是供光阻通过的管道, 其中会因各种原因残存有气泡; 喷头 12, 设置在涂布机管道 11的端部, 用于向待涂布的玻璃基板上均 匀涂布光阻;

管路排泡装置 10, 与涂布机管道 11相连, 用于为涂布机管道 11进行排 泡, 其包括: 注射泵 100, 用于将光阻从储存容器 2中注射到涂布机 1的涂布机管道 11中;

控制单元 101 , 用于启动注射泵持续一第一时间, 驱动光阻在涂布机的 涂布机管道中流动, 进行一次排泡处理过程; 以及在一次排泡处理过程结束 后, 关闭注射泵持续一第二时间; 并在涂布机管道中的小气泡在该第二时间 积聚后, 再次启动注射泵, 重复前述排泡过程, 直至涂布机管道中的所有小 气泡排泡完成。

其中, 控制单元 101进一步包括:

注射泵启动控制子单元 102, 用于启动注射泵 100持续一第一时间, 驱 动光阻在涂布机的涂布机管道中流动;

注射泵关闭控制子单元 103 , 用于在一次排泡处理过程结束后, 关闭注 射泵 100持续一第二时间;

判断处理子单元 104, 用于判断排泡是否完成, 如果判断结果为排泡尚 未完成,则在注射泵关闭控制子单元 103关闭注射泵 100并持续第二时间后, 控制注射泵启动控制子单元 102启动注射泵, 重新进行排泡;

设置子单元 105 , 用于设置第一时间和第二时间值。

请参照图 3和图 4所示, 示出了本发明的一种涂布机第二实施例的结构 示意图。 从中可以看出, 与图 1和图 2示出的第一实施例相比, 第二实施例 中的涂布机的区别在于, 其中, 管路排泡装置 10进一步包括有:

振动装置 106, 用于在第二时间内, 为涂布机管道 11提供震动波, 以加 快涂布机管道 11 中的小气泡的聚集, 在一个实施例中, 该震动波可以为诸 如超声波。

相应地, 控制单元 101中进一步包括:

振动装置控制子单元 107, 用于在判断处理子单元 104判断到排泡尚未 完成时, 驱动振动装置 106向涂布机管道 11提供震动波。

如图 5所示,是本发明的一种基板涂布机的管路排 方法的一个实施例 的流程图; 从图中可以看出, 该方法至少包括如下步骤:

步骤 S60, 启动注射泵持续一第一时间, 注射泵将光阻从储存容器中注 射到涂布机的涂布机管道中; 步骤 S61 , 驱动光阻在涂布机的涂布机管道中流动, 进行一次排泡处理 过程;

步骤 S62,在该次排泡处理过程结束后,关闭注射泵 持续一第二时间; 步骤 S63 , 判断排泡过程是否完成, 如果判断结果为是, 则流程结束; 如果判断结果是否, 则转至步骤 S64;

步骤 S64, 使涂布机管道中的小气泡在该第二时间积聚, 具体地, 在第 二时间内, 静置涂布机管道, 使小气泡积聚; 或者在第二时间内, 向涂布机 管道提供震动波, 使小气泡积聚。

转至步骤 S60, 再次启动注射泵, 重复前述过程, 直至涂布机管道中的 所有小气泡全部被排出。

可以理解的是, 需要首先预先设置第一时间与第二时间。

如图 6所示, 是本发明中进行多次排泡过程的时间周期示意 图。 在一个 实施例中, 假设需要对涂布机的管道进行多次排泡操作。 在图 6中的注射泵 的启动时间周期图中,高位线段代表注射泵启 动,低位线段代表注射泵关闭。 在排泡的时间周期图中, 高位线段代表排泡操作在进行中, 低位线段代理排 泡操作停止。

其中, 时间 T1代表注射泵单次启动的时间; 时间 T2代表在涂布机管路 中进行一次排泡的时间, 其开始时间与注射泵开始启动时间存在一定的 时间 差; 时间 T3代表注射泵一次启动完成至涂布机管路完成 次排泡的延迟时 间, 时间 T4为两次排泡之间新增加的时间间隔 (即前述提及的第二时间), 在该新增的时间间隔中, 通过对涂布机管道进行静置, 或者向涂布机管道提 供震动波, 可以使在涂布机管道中残存的微小气泡有时间 进行凝结增大体 积, 在下次进行排泡操作时, 可以增加排泡的成功率。

实施本发明实施例, 具有如下有益效果:

本发明实施例中, 通过在一次排泡完成后, 增加一个第二时间的间隔设 定, 使微小气泡在此时间间隔内可以积聚为大颗气 泡, 之后再次进行排泡的 步骤, 可在相同光阻用量下提高排泡效率, 从而很好地将基板涂布机的管路 中的气泡排尽, 并能节省光阻, 提高光阻的利用效率。

以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已, 当然不能以此来限定本发明 之权利范围, 因此等同变化, 仍属本发明所涵盖的范围。