以下、本発明の実施形態を図面を用いて� ��明する。

 図1は、本発明の一実施形態におけるプラ ズマディスプレイパネル(以下、PDPとも称す� �)の要部を示している。図中の矢印D1は、第1� ��向D1を示し、矢印D2は、第1方向D1に画像表示 面に平行な面内で直交する第2方向D2を示して いる。PDP10は、画像表示面を構成する前面基� ��部12(第1パネル)と、前面基板部12に対向する 背面基板部14(第2パネル)とにより構成されて� ��る。前面基板部12と背面基板部14の間(より� �細には、背面基板部14における蛍光体PH(PHr、 PHg、PHb)が塗布された凹部CC)に放電空間DSが形 成される。

 前面基板部12は、ガラス基材FS(第1基板)の ガラス基材RS(第2基板)に対向する面上(図では 下側)に第1方向D1に延在して設けられ、互い� �間隔を置いて配置された複数のXバス電極Xb� �よびYバス電極Ybを有している。また、Xバス� ��極Xbには、Xバス電極XbからYバス電極Ybに向� �て第2方向D2に延在するX透明電極Xtが接続さ� �ている。Yバス電極Ybには、Yバス電極YbからX� ��ス電極Xbに向けて第2方向D2に延在するY透明� ��極Ytが接続されている。図の例では、X透明� ��極XtおよびY透明電極Ytは、第2方向D2に沿っ� �対向している。なお、透明電極Xt、Ytは、第1 方向D1に沿って対向するように設けられても� ��いし、第1方向D1(あるいは、第2方向D2)に対� �て斜めの方向に沿って対向するように設け� �れてもよい。

 例えば、Xバス電極XbおよびYバス電極Ybは� ��金属材料等で形成された不透明な電極であ� ��、X透明電極XtおよびY透明電極Ytは、ITO膜等� ��形成された可視光を透過する透明電極であ� ��。そして、X電極XE(表示電極)は、Xバス電極X bおよびX透明電極Xtにより構成され、Y電極YE(� ��示電極)は、Yバス電極YbおよびY透明電極Ytに より構成され、X電極XEと対をなしている。そ して、互いに対をなすX電極XEおよびY電極YE間 (より具体的には、X透明電極XtおよびY透明電� ��Yt間)で繰り返して放電(サステイン放電)を� �生させる。

 なお、透明電極XtおよびYtは、それぞれが 接続されるバス電極XbおよびYbとガラス基材FS との間に全面に配置されてもよい。また、バ ス電極XbおよびYbと同じ材料(金属材料等)で、 バス電極XbおよびYbと一体の電極が透明電極Xt およびYtの代わりに形成されてもよい。

 電極Xb、Xt、Yb、Ytは、誘電体層DLに覆われ ている。例えば、誘電体層DLは、CVD法により� ��成された二酸化シリコン膜等の絶縁膜であ� ��。そして、誘電体層DL上(図では下側)には、 バス電極Xb、Ybの直交方向(第2方向D2)に延在す る複数のアドレス電極AEが設けられている。� ��のように、前面基板部12は、第1方向D1に延� �する複数の電極XE、YE(表示電極)および第2方� ��D2に延在する複数のアドレス電極AEが設けら れたガラス基材FSを有している。

 アドレス電極AEおよび誘電体層DLは、保護 層PLに覆われている。例えば、保護層PLは、� �電を容易に発生させるために、陽イオンの� �突による2次電子の放出特性の高いMgO膜で形� ��される。

 背面基板部14は、放電空間DSを介してガラ ス基材FSに対向するガラス基材RS(第2基板)を� �している。そして、ガラス基材RSのガラス基 材FSに対向する面上には、第1方向D1と交差す� ��第2方向D2に延在する複数の隔壁BRが、間隔� �置いて配置されている。すなわち、放電空� �DSを介して前面基板部12に対向する背面基板� ��14は、ガラス基材RS上に互いに平行に形成さ れ、バス電極Xb、Ybに直交する方向(第2方向D2) に延在する複数の隔壁(バリアリブ)BRを有し� �いる。例えば、この実施形態では、隔壁BRは 、ガラス基材RSと一体に形成されている。

 ガラス基材RS上に設けられた隔壁BRにより 、背面基板部14の前面基板部12に対向する面� �に、凹部CCが形成される。すなわち、互いに 隣接する隔壁BR間に、前面基板部12側に開口� �た凹部CCが設けられる。また、隔壁BRにより� ��セルの側壁が構成される。そして、隔壁BR� �側面と、互いに隣接する隔壁BRの間のガラス 基材RS上とには、紫外線により励起されて赤( R)、緑(G)、青(B)の可視光を発生する蛍光体PHr� ��PHg、PHbが、それぞれ塗布されている。すな� ��ち、互いに異なる色の光を発生する複数の� ��類の蛍光体PH(PHr、PHg、PHb)が、凹部CC内の表� ��にそれぞれ設けられる。なお、後述する図2 に示すように、凹部CCは、塗布される蛍光体P Hの種類毎にグループ分けされ、グループ毎� �異なる深さに形成されている。

 PDP10の1つの画素は、赤、緑および青の光� ��発生する3つのセルにより構成される。ここ で、1つのセル(一色の画素)は、例えば、バス 電極Xb、Ybと隔壁BRとで囲われる領域に形成さ れる。このように、PDP10は、カラー画像を表� ��するためにセルをマトリックス状に配置し� ��かつ互いに異なる色の光を発生する複数種� ��セルを交互に配列して構成されている。特� ��図示していないが、バス電極Xb、Ybに沿って 形成されたセルにより、表示ラインが構成さ れる。

 PDP10は、前面基板部12および背面基板部14� ��、保護層PLと隔壁BRが互いに接するように貼 り合わせ、Ne、Xe等の放電ガスを放電空間DSに 封入することで構成される。

 図2は、図1に示したPDP10の第1方向D1に沿う 断面を示している。なお、図2は、バス電極Yb が配置された位置の断面を示している。図中 の矢印の意味は、上述した図1と同じである� �

 上述したように、凹部CCは、塗布される� �光体PHr、PHg、PHb毎に、赤の凹部CCr、緑の凹� �CCgおよび青の凹部CCbにそれぞれグループ分� �される。そして、凹部CCr、CCg、CCbは、互い� �異なる深さDP(DPr、DPg、DPb)に形成される。す� ��わち、この実施形態では、凹部CCの深さDPを 色毎に調整できる。例えば、この実施形態で は、凹部CCgは、最も浅い深さDPgに形成され、 凹部CCrは、深さDPrより深い深さDPgに形成され 、凹部CCbは、最も深い深さDPgに形成されてい る。この場合、凹部CCr内の表面積は、凹部CCg 内の表面積より大きい面積であり、凹部CCb内 の表面積は、凹部CCr内の表面積より大きい面 積である。

 このように、この実施形態では、凹部CC� �深さDPを色毎に調整することにより、蛍光体 PHが塗布される凹部CC内の表面積を色毎に調� �でき、各色の最高輝度値の割合を調整でき� �。例えば、凹部CCr、CCg、CCbの深さDPが互い等 しい初期状態では、白を表示するために、赤 、緑、青のセルを全て点灯したときに、緑が 強い場合がある。この場合、この実施形態で は、図に示すように、凹部CCgの深さDPを本来� ��深さ(例えば、深さDPg)に維持した状態で、� �部CCr、CCbの深さDPを本来の深さ(例えば、深� �DPg)に比べて深くすることにより、白が表示� ��れる際の緑を弱くできる。ここで、本来の� ��さとは、例えば、凹部CCr、CCg、CCbの深さDP� �互い等しい初期状態のときの凹部CCの深さ(� �えば、深さDPg)である。

 すなわち、この実施形態では、凹部CCの� �さDPを色毎に調整することにより、他の色(� �の例では、緑)の輝度を低下させずに、特定� ��色(図の例では、赤および青)の輝度を高く� �ることができる。この結果、この実施形態� �は、各色の階調数を維持した状態で、PDPに� �しい白を表示できる。ここで、正しい白と� �、例えば、PDPの仕様を満たす色合い(色温度) の白である。

 なお、凹部CCの深さDPは、例えば、各セル の放電条件に影響を与えない深さ(電極XE、YE� ��に電圧を印加したときの電気力線が到達し� ��い深さ)に形成されている。したがって、こ の実施形態では、セル毎に放電条件が異なる ことを防止でき、全てのセルで放電を発生さ せるための動作マージンが小さくなることを 防止できる。

 ここで、例えば、セル幅を色毎に調整す� ��PDPでは、透明電極Xt、Ytが、第2方向D2以外の 方向(第1方向D1等)に沿って対向する場合、透� ��電極Xt、Ytが互いに対向する部分(対向部)の� ��さが色毎に異なり、各色のセルで放電条件� ��異なるおそれがある。この場合、全てのセ� ��で放電を発生させるための動作マージンが� ��さくなる。これに対し、この実施形態では� ��各色のセル幅が互いに同じため、透明電極X t、Ytが、第2方向D2以外の方向(第1方向D1等)に� ��って対向する場合でも、透明電極Xt、Ytの対 向部の長さは、各色のセルで互いに同じであ る。したがって、この実施形態では、透明電 極Xt、Ytの対向部の方向に拘わらず、セル毎� �放電条件が異なることを防止でき、全ての� �ルで放電を発生させるための動作マージン� �小さくなることを防止できる。

 また、背面基板部14の厚さ(例えば、2mm程� ��)が凹部CCの深さDP(例えば、上述の初期状態� ��150μ程度)に比べて非常に大きいため、背面� ��板部14の強度は、凹部CCr、CCg、CCbの深さDPが 色毎に調整されても維持される。

 図3は、図2に示した凹部CCr、CCg、CCbの製� �方法の一例を示している。なお、図3は、凹� ��CCr、CCg、CCbが形成されるまでの背面基板部1 4(ガラス基材RSおよび隔壁BR)の第1方向D1に沿� �断面を示している。図中の矢印の意味は、� �述した図1と同じである。

 まず、ガラス基材RS上に、感光性樹脂組� �層R10が設けられる(図3(a))。ここで、例えば� �感光性樹脂組成層R10は、露光された部分が� �化するネガ型のフォトレジストである。な� �、感光性樹脂組成層R10は、ポジ型のフォト� �ジストでもよい。図の例では、ネガ型のフ� �トレジストを使用した場合を示している。� �下、感光性樹脂組成層R10をフォトレジストR1 0とも称する。次に、凹部CCr、CCr、CCrにそれ� �れ対応するパターンマスクM10r、M10g、M10bが� �ォトレジストR10上に配置される(図3(b))。例� �ば、マスクM10rの光の透過率は、マスクM10gの 透過率より小さく、かつ、マスクM10bの透過� �より大きい。

 そして、マスクM10(M10r、M10g、M10b)を介し� �フォトレジストR10が露光されることにより� �硬化度が互いに異なるレジストR12、R14、R16� �R18が、ガラス基材RS上に形成される(図3(c))。 例えば、レジストR12(マスクM10bが配置された� ��ォトレジストR10の部分)は、最も柔らかく形 成される。マスクM10bの光の透過率が0%の場合 では、レジストR12は、露光されないため、未 硬化部である。レジストR14(マスクM10rが配置� ��れたフォトレジストR10の部分)は、レジスト R12より硬く形成される。レジストR16(マスクM1 0gが配置されたフォトレジストR10の部分)は、 レジストR14より硬く形成される。レジストR18 (マスクM10r、M10g、M10bが配置されていないフ� �トレジストR10の部分)は、最も硬く形成され� ��。

 次に、レジストR12(未硬化部)が除去され� �(図3(d))。その後、サンドブラスト等により� �ガラス基材RSが選択的に除去される(図3(e))。 例えば、レジストR12が除去された部分(凹部CC bが形成される部分)は、最初に掘られ始め、� ��も深く(深さDPb)掘られる。レジストR16より� �らかいレジストR14が配置された部分(凹部CCr� ��形成される部分)は、レジストR12が除去され た部分の次に掘られ始め、深さDPbより浅い深 さ(深さDPr)に掘られる。レジストR18より柔ら� ��いレジストR16が配置された部分(凹部CCgが形 成される部分)は、レジストR14が配置された� �分の次(最後)に掘られ始め、最も浅く(深さDP g)掘られる。なお、最も硬いレジスト18が配� �された部分(隔壁BRが形成される部分)のガラ� ��基材RSは、掘られずに残る。

 最後に、アルカリ溶液等により、レジス� ��R18がガラス基材RS(より詳細には、隔壁BR)か� ��剥離される(図3(f))。これにより、隔壁BRが� �ラス基材RSと一体に形成される。そして、こ の隔壁BRにより、互いに異なる深さDP(DPr、DPg� ��DPb)を有する凹部CC(CCr、CCg、CCb)が、背面基� �部14に形成される。

 図4は、図1に示したPDP10を用いて構成され たプラズマディスプレイ装置の一例を示して いる。プラズマディスプレイ装置(以下、PDP� �置とも称する)は、PDP10、PDP10の画像表示面16� ��(光の出力側)に設けられる光学フィルタ20、 PDP10の画像表示面16側に配置された前筐体30、 PDP10の背面18側に配置された後筐体40およびベ ースシャーシ50、ベースシャーシ50の後筐体40 側に取り付けられ、PDP10を駆動するための回� ��部60、およびPDP10をベースシャーシ50に貼り� ��けるための両面接着シート70を有している� �回路部60は、複数の部品で構成されるため、 図では、破線の箱で示している。光学フィル タ20は、前筐体30の開口部32に取り付けられる 保護ガラス(図示せず)に貼付される。なお、� ��学フィルタ20は、電磁波を遮蔽する機能を� �してもよい。また、光学フィルタ20は、保護 ガラスではなく、PDP10の画像表示面16側に直� �貼付されてもよい。

 図5は、PDP10を駆動するための回路部60の� �要を示している。回路部60は、XドライバXDRV� ��YドライバYDRV、アドレスドライバADRV、電源� ��PWRおよび制御部CNTを有している。ドライバX DRV、YDRV、ADRVは、PDP10を駆動する駆動部とし� �動作する。例えば、XドライバXDRVは、バス電 極Xbに共通のパルスを印加し、YドライバYDRV� �、バス電極Ybに選択的にパルスを印加し、ア ドレスドライバADRVは、アドレス電極AEに選択 的にアドレスパルスを印加する。電源部PWRは 、ドライバYDRV、XDRV、ADRVに供給する電源電圧 Vsc、Vs/2、-Vs/2、Vsa等を生成する。

 制御部CNTは、ドライバXDRV、YDRV、ADRVの動� ��を制御する。例えば、制御部CNTは、画像デ� ��タR0-7、G0-7、B0-7に基づいて使用するサブフ� ��ールドを選択し、ドライバYDRV、XDRV、ADRVに� ��御信号YCNT、XCNT、ACNTを出力する。ここで、� ��ブフィールドは、PDP10の1画面を表示するた� ��の1フィールドが分割されたフィールドであ り、サブフィールド毎にサステイン放電の回 数が設定されている。そして、画素を構成す るセル毎に、使用するサブフィールドを選択 することにより、多階調の画像が表示される 。

 以上、この実施形態では、蛍光体PHが塗� �される凹部CCは、塗布される蛍光体PHの種類( 蛍光体PHr、PHg、PHb)毎に異なる深さDP(DPr、DPg� �DPb)に形成される。これにより、蛍光体PHが� �布される面積を色毎に調整でき、他の色の� �度を低下させずに、特定の色の輝度を高く� �ることができる。この結果、この実施形態� �は、各色の階調数を維持した状態で、PDPに� �しい白を表示できる。

 なお、上述した実施形態では、1つの画素 が、3つのセル(赤(R)、緑(G)、青(B))により構成 される例について述べた。本発明はかかる実 施形態に限定されるものではない。例えば、 1つの画素を4つ以上のセルにより構成しても� ��い。あるいは、1つの画素が、赤(R)、緑(G)、 青(B)以外の色を発生するセルにより構成され てもよく、1つの画素が、赤(R)、緑(G)、青(B)� �外の色を発生するセルを含んでもよい。

 上述した実施形態では、第2方向D2が、第1 方向D1に直交する例について述べた。本発明� ��かかる実施形態に限定されるものではない� ��例えば、第2方向D2は、第1方向D1と、ほぼ直� ��方向(例えば、90度±5度)に交差してもよい。 この場合にも、上述した実施形態と同様の効 果を得ることができる。

 上述した実施形態では、隔壁BRが、ガラ� �基材RSと一体に形成される例について述べた 。本発明はかかる実施形態に限定されるもの ではない。例えば、隔壁BRは、ペースト状の� ��壁材料を用いて形成されてもよい。この場� ��、先ず、ペースト状の隔壁材料がガラス基� ��RS上に塗布され、乾燥される。その後、上� �した図3に示したフォトレジストR10が、隔壁� ��料上に設けられる。この場合にも、上述し� ��実施形態と同様の効果を得ることができる� ��

 上述した実施形態では凹部CCr、CCg、CCbが� ��いに異なる深さDPr、DPg、DPbに形成される例� ��ついて述べた。本発明はかかる実施形態に� ��定されるものではない。例えば、凹部CCrの� ��さDPrは、凹部CCgの深さDPgより深く、かつ、� ��部CCbの深さDPbと同じでもよい。すなわち、� ��グループの凹部CCは、他の少なくとも1つの� ��ループの凹部の深さDPと異なる深さに形成� �れていればよい。また、各凹部CCの深さDPの� ��小関係は、凹部CCに塗布される蛍光体PHの材 料や、白の色合い(白の色温度)の仕様に基づ� ��て調整される。例えば、青みの弱い白を表� ��するPDPでは、凹部CCbの深さDPbが最も浅くて� ��よい。この場合にも、上述した実施形態と� ��様の効果を得ることができる。

 上述した実施形態では、隔壁BRの側面と� �互いに隣接する隔壁BRの間のガラス基材RS上� ��に蛍光体PHが塗布される例について述べた� �本発明はかかる実施形態に限定されるもの� �はない。例えば、図6に示すように、蛍光体P Hは、反射膜RFを介して、隔壁BRの側面と、互� ��に隣接する隔壁BRの間のガラス基材RS上とに 蛍光体PHが塗布されてもよい。この場合にも� ��上述した実施形態と同様の効果を得ること� ��できる。

 図6は、上述した図1に示したPDP10の変形例 における第1方向D1に沿う断面を示している。 なお、図6は、バス電極Ybが配置された位置の 断面を示している。図6のPDPは、図1に示したP DP10に反射膜RFが設けられて構成されている。 その他の構成は、上述した実施形態と同じで ある。図1-図5で説明した要素と同一の要素に ついては、同一の符号を付し、これ等につい ては、詳細な説明を省略する。

 隔壁BRの側面と、互いに隣接する隔壁BRの 間のガラス基材RS上とには、可視光を反射す� ��反射膜RFが設けられている。そして、反射� �RFの表面に、蛍光体PHr、PHg、PHbがそれぞれ塗 布されている。ここで、反射膜RFは、例えば� ��非金属材料等で形成され、蛍光体PHから発� �されたガラス基材RS側に向かう可視光を画像 表示面(前面基板部12)側に反射する膜である� �なお、反射膜RFは、金属材料で形成されても よい。反射膜RFにより、蛍光体PHからガラス� �材FS側に発せられる可視光に加えて、蛍光体 PHからガラス基材RS側に発せられる可視光を� �像の表示に寄与させることができるため、� �像の輝度を向上できる。

 この構成では、前面基板部12側に開口し� �凹部CC2(CC2r、CC2g、CC2b)は、反射膜RFが設けら� ��た隔壁BR間に設けられる。すなわち、互い� �隣接する隔壁BRの間のガラス基材RSの上面(ガ ラス基材FS側の面)および隔壁BRの側面に沿っ� ��設けられた反射膜RFにより、背面基板部14の 前面基板部12に対向する面側に、凹部CC2が形� ��される。なお、凹部CC2の深さDP(DPr、DPg、DPb) は、例えば、前面基板部12とガラス基材RS上� �反射膜RFとの距離である。そして、この構成 でも、蛍光体PHが塗布される凹部CC2は、塗布� ��れる蛍光体PHの種類(蛍光体PHr、PHg、PHb)毎に 異なる深さDP(DPr、DPg、DPb)に形成される。

 なお、可視光を反射する反射膜RFの代わ� �に、他の用途の膜(例えば、画像のコントラ� ��トを向上させるための反射防止膜)等が、隔 壁BRおよびガラス基材RSと蛍光体PHとの間に設 けられてもよい。隔壁BRおよびガラス基材RS� �蛍光体PHとの間に反射膜RFや反射防止膜等の� ��が設けられる構成でも、色毎に蛍光体PHが� �布される面積を調整でき、他の色の輝度を� �下させずに、特定の色の輝度を高くするこ� �ができる。したがって、この場合にも、上� �した実施形態と同様の効果を得ることがで� �る。

 以上、本発明について詳細に説明してき� ��が、上記の実施形態およびその変形例は発� ��の一例に過ぎず、本発明はこれに限定され� ��ものではない。本発明を逸脱しない範囲で� ��形可能であることは明らかである。