以下、本発明の重合性化合物、該重合性� ��合物を含有する重合性組成物及び該重合性� ��成物を光重合させることにより作製される� ��発明の重合体について、その好ましい実施� ��態に基づき詳細に説明する。

 先ず、本発明の重合性化合物について説明� ��る。
 上記一般式(1)中のX ¹ 及びX ² で表される炭素原子数1~8の分岐を有してもよ いアルキレン基としては、メチレン、エチレ ン、プロピレン、メチルエチレン、ブチレン 、1-メチルプロピレン、2-メチルプロピレン� �1,2-ジメチルプロピレン、1,3-ジメチルプロピ レン、1-メチルブチレン、2-メチルブチレン� �3-メチルブチレン、4-メチルブチレン、2,4-ジ メチルブチレン、1,3-ジメチルブチレン、ペ� �チレン、へキシレン、ヘプチレン、オクチ� �ン等が挙げられる。
 上記一般式(1)中のR’で表される炭素原子数 1~8の分岐を有してもよいアルキル基としては 、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソ プロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル 、イソブチル、アミル、イソアミル、第三ア ミル、ヘキシル、2-ヘキシル、3-ヘキシル、� �プチル、2-ヘプチル、3-ヘプチル、イソヘプ� ��ル、第三ヘプチル、n-オクチル、イソオク� �ル、第三オクチル又は2-エチルヘキシル等が 挙げられる。

 上記一般式(1)中のX ¹ 、X ² 及びR’で表される置換基を有してもよい6員� ��とは、ベンゼン環又はシクロヘキサン環を� ��わす。本発明においては、ベンゼン環又は� ��クロヘキサン環中の炭素原子が、窒素原子� ��は硫黄原子で置換されたものであってもよ� ��、窒素原子で置換された6員環としては、例 えば、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピ リダジン、トリアジン、ピペリジン又はピペ ラジン等が挙げられ、硫黄原子で置換された 6員環としては、例えば、チオピラン又はチ� �ピリリウム等が挙げられる。

 上記6員環の置換基としては、炭素原子数1~8 の分岐を有してもよいアルキル基、炭素原子 数1~8の分岐を有してもよいアルコキシ基、炭 素原子数2~8の分岐を有してもよいアルケニル 基を表し、該アルキル基、該アルコキシ基及 び該アルケニル基中の-CH ₂ -は、硫黄原子又は酸素原子で置換されてい� �もよく、該アルキル基、該アルコキシ基及� �該アルケニル基中の水素原子は、ハロゲン� �子又はニトリル基で置換されていてもよい� �

 上記炭素原子数1~8の分岐を有してもよいア� ��キル基としては、上記一般式(1)中のR’の説 明で例示したものが挙げられる。
 上記炭素原子数1~8の分岐を有してもよいア� ��コキシ基としては、例えば、メチルオキシ� ��エチルオキシ、クロロメチルオキシ、トリ� ��ルオロメチルオキシ、シアノメチルオキシ� ��エチルオキシ、ジクロロエチルオキシ、プ� ��ピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチル� ��キシ、第二ブチルオキシ、第三ブチルオキ� ��、イソブチルオキシ、アミルオキシ、イソ� ��ミルオキシ、第三アミルオキシ、ヘキシル� ��キシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオ� ��シ、イソヘプチルオキシ、第三ヘプチルオ� ��シ、n-オクチルオキシ、イソオクチルオキ� �、第三オクチルオキシ又は2-エチルヘキシル オキシ等が挙げられる。

 上記炭素原子数2~8の分岐を有してもよい� ��ルケニル基としては、例えば、ビニル、プ� ��ペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソ� ��テニル、オクテニル等が挙げられる。

 本発明の重合性化合物の中でも、上記一般� ��(1)において、L ¹ が-COO-、L ² が-OCO-であるものが、液晶相発現温度範囲が� ��く、溶媒溶解性に優れるため好ましく、ま� ��、Z ¹ -X ¹ -及びZ ² -X ² -が、上記式(2)で表されるものが、上記の特� �に加え、さらに液晶配向の制御に優れるた� �好ましい。

 上記一般式(1)に表される化合物の具体的� ��構造としては、下記化合物No.1~No.64が挙げら れる。ただし、本発明は以下の化合物により 制限を受けるものではない。

 上記一般式(1)で表される重合性化合物の� ��ましい配合割合は、本発明の重合性組成物1 00質量部に対して、少なくとも50質量部以上� �あることが好ましく、特に好ましくは70質量 部以上である。上記一般式(1)で表される重合 性化合物の比率が50より少ないと、重合性組� ��物の配向制御や膜厚の制御が困難となる場� ��がある。

 本発明の重合性化合物は、その製造方法� ��ついては特に限定されず、公知の反応を応� ��して製造することができるが、例えば、フ� ��ノール基に対して(メタ)アクリル酸ハロゲ� �化物をエステル化したり、(メタ)アクリロイ ル基を有する化合物のカルボン酸基をメタン スルホニルクロリドでメシル化した後、フェ ノール基を有す化合物とエステル化すること によって製造することができる。

 本発明の重合性化合物は、液晶材料に配� ��され、耐熱性、耐溶剤性、透明性、光学特� ��及び液晶配向固定化に優れた光学異方体作� ��用材料として好ましく用いられる他、液晶� ��向膜、液晶配向制御剤、コーティング材、� ��護板作製材料等に用いることができる。

 次に、本発明の重合性組成物について説明� ��る。
 本発明の重合性組成物は、本発明の重合性� ��合物、その他の成分として、従来既知の液� ��化合物若しくは液晶類似化合物、又はそれ� ��の混合物を配合することによって得られる� ��のであり、該液晶化合物としては、例えば� ��特願2005-210868号公報の明細書段落[0031]~[0058]� ��[0063]~[0086]、及び特開2005-15473号公報明細書� �落[0172]~[0314]に示されている化合物等が挙げ� ��れる。
 上記液晶化合物の中でも、重合性官能基を� ��する液晶化合物が好ましく用いられる。
 重合性官能基としては、(メタ)アクリロイ� �オキシ基、フルオロアクリル基、クロロア� �リル基、トリフルオロメチルアクリル基、� �キシラン環(エポキシ)、オキセタン環、スチ レン化合物(スチリル基)、ビニル基、ビニル� ��ーテル基、ビニルケトン基、マレイミド基� ��フェニルマレイミド基等が好ましい。
 また、液晶化合物の含有量は特に制限され� ��、本発明の重合性化合物の効果が損なわれ� ��い範囲であれば良い。

 本発明の重合性組成物は、少なくとも室� ��付近、具体的には30℃以下で液晶相を示す� �とが好ましく、特に25℃以下で液晶相を示す ことがより好ましい。

 本発明の重合性組成物には、必要に応じ� ��用いられる他の単量体(エチレン性不飽和結 合を有する化合物)をラジカル重合開始剤と� �に溶剤に溶解して溶液にすることができる� �

 上記他の単量体としては、例えば、メチ� ��(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレ ート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル( メタ)アクリレート、第二ブチル(メタ)アクリ レート、第三ブチル(メタ)アクリレート、ヘ� ��シル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル (メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリ� ��(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アク リレート、アリル(メタ)アクリレート、アリ� ��オキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキ� �ル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アク� ��レート、1-フェニルエチル(メタ)アクリレー ト、2-フェニルエチル(メタ)アクリレート、� �ルフリル(メタ)アクリレート、ジフェニルメ チル(メタ)アクリレート、ナフチル(メタ)ア� �リレート、ペンタクロルフェニル(メタ)アク リレート、2-クロルエチル(メタ)アクリレー� �、メチル-α-クロル(メタ)アクリレート、フ� �ニル-α-ブロモ(メタ)アクリレート、トリフ� �オロエチル(メタ)アクリレート、テトラフル オロプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチ� ��ングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブ� ��ンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキ� ��ンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメ� �ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペ ンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート� ��ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリ� �ート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ) アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ サ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸� �ステル、ジアセトンアクリルアミド、スチ� �ン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン等� �挙げられる。

 ただし、本発明の重合性組成物を用いて� ��製される重合体の耐熱性及び光学特性を付� ��するために、他の単量体の含有量は、本発� ��の重合性組成物100質量部に対して、50質量� �以下が好ましく、特に30質量部以下がより好 ましい。

 上記ラジカル重合開始剤としては、例え� ��、過酸化ベンゾイル、2,2’-アゾビスイソブ チロニトリル、ベンゾインエーテル類、ベン ゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジル ケタール類、ジアリールヨードニウム塩、ト リアリールスルホニウム塩、ジフェニルヨー ドニウムテトラフルオロボレート、ジフェニ ルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート 、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロア ルセネート、ジフェニルヨードニウムテトラ (ペンタフルオロフェニル)ボレート、4-メト� �シフェニルフェニルヨードニウムテトラフ� �オロボレート、4-メトキシフェニルフェニル ヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、 4-メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘ� ��サフルオロアルセネート、ビス(4-tert-ブチ� �フェニル)ヨードニウムジフェニルヨードニ� ��ムテトラフルオロボレート、ビス(4-tert-ブ� �ルフェニル)ヨードニウムジフェニルヨード� ��ウムヘキサフルオロアルセネート、ビス(4-t ert-ブチルフェニル)ヨードニウムジフェニル� ��ードニウムトリフルオロメタンスルホネー� ��、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオ� ��ホスホネート、トリフェニルスルホニウム� ��キサフルオロアルセネート、トリフェニル� ��ルホニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル )ボレート、4-メトキシフェニルジフェニルス ルホニウムテトラフルオロボレート、4-メト� ��シフェニルジフェニルスルホニウムヘキサ� ��ルオロホスホネート、4-メトキシフェニル� �フェニルスルホニウムヘキサフルオロアル� �ネート、4-メトキシフェニルジフェニルスル ホニウムトリフルオロメタンスルホナート、 4-メトキシフェニルジフェニルスルホニウム� ��リフェニルスルホニウムテトラ(ペンタフル オロフェニル)ボレート、4-フェニルチオフェ ニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロ ボレート、4-フェニルチオフェニルジフェニ� ��スルホニウムヘキサフルオロホスホネート� ��4-フェニルチオフェニルジフェニルスルホ� �ウムヘキサフルオロアルセネート、p-メトキ シフェニル-2,4-ビス(トリクロロメチル)-s-ト� �アジン、2-(p-ブトキシスチリル)-s-トリアジ� �、2-(p-ブトキシスチリル)-5-トリクロロメチ� �-1,3,4-オキサジアゾール、9-フェニルアクリ� �ン、9,10-ジメチルベンズフェナジン、ベンゾ フェノン/ミヒラーズケトン、ヘキサアリー� �ビイミダゾール/メルカプトベンズイミダゾ� ��ル、ベンジルジメチルケタール、チオキサ� ��トン/アミン、トリアリールスルホニウムヘ キサフルオロホスフェート、ビス(2,4,6-トリ� �チルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキシ ド等が挙げられる。

 また、上記ラジカル重合開始剤と増感剤� ��組合せも好ましく使用することができる。� ��かる増感剤としては、例えば、チオキサン� ��ン、フェノチアジン、クロロチオキサント� ��、キサントン、アントラセン、ジフェニル� ��ントラセン、ルプレン等が挙げられる。上� ��ラジカル重合開始剤及び/又は上記増感剤を 添加する場合は、本発明の重合性組成物100質 量部に対して、10質量部以下であることが好� ��しく、5質量部以下がさらに好ましく、0.1~3� ��量部の範囲内がより好ましい。

 上記溶剤としては、例えば、ベンゼン、� ��ルエン、キシレン、メシチレン、n-ブチル� �ンゼン、ジエチルベンゼン、テトラリン、� �トキシベンゼン、1,2-ジメトキシベンゼン、� ��チレングリコールジメチルエーテル、ジエ� ��レングリコールジメチルエーテル、アセト� ��、メチルエチルケトン、メチルイソブチル� ��トン、シクロペンタノン、シクロヘキサノ� ��、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、� ��チレングリコールモノメチルエーテルアセ� ��ート、プロピレングリコールモノメチルエ� ��テルアセテート、プロピレングリコールモ� ��エチルエーテルアセテート、γ-ブチロラク� ��ン、2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、 ジメチルホルムアミド、クロロホルム、ジク ロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、 トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン 、クロロベンゼン、t-ブチルアルコール、ジ� ��セトンアルコール、グリセリン、モノアセ� ��レン、エチレングリコール、トリエチレン� ��リコール、ヘキシレングリコール、エチレ� ��グリコールモノメチルエーテル、エチルセ� ��ソルブ、ブチルセルソルブなどである。溶� ��は単一化合物であってもよいし、または混� ��物であってもよい。これらの溶剤の中でも� ��沸点が60~250℃のものが好ましく、60~180℃の� ��のが特に好ましい。60℃より低いと塗布工� �で溶媒が揮発して膜の厚さにムラが生じや� �く、250℃より高いと脱溶媒工程で減圧して� �溶媒が残留したり、高温での処理による熱� �合を誘起したりして配向性が低下する場合� �ある。

 また、本発明の重合性組成物に、さらに� ��学活性化合物を含有させることによって、� ��晶骨格のらせん構造を内部に有する高分子� ��得ることができ、コレステリック液晶相を� ��定化させることができる。かかる光学活性� ��合物を含有させる場合、本発明の重合性組� ��物(但し、溶剤を除く)100質量部に対し、0.1~1 00質量部の範囲内が好ましく、1~50質量部がよ り好ましい。かかる光学活性化合物としては 、例えば下記〔化67〕~〔化85〕の化合物を挙� ��ることができる。

 また、本発明の重合性組成物は、空気界� ��側に分布する排除体積効果を有する界面活� ��剤をさらに含有させることが好ましい。界� ��活性剤は重合性組成物を支持基板などに塗� ��することを容易にしたり、液晶相の配向を� ��御したりする等の効果を得られるものが好� ��しい。かかる界面活性剤としては、例えば� ��4級アンモニウム塩、アルキルアミンオキサ イド、ポリアミン誘導体、ポリオキシエチレ ン-ポリオキシプロピレン縮合物、ポリエチ� �ングリコール及びそのエステル、ラウリル� �酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム� �ラウリル硫酸アミン類、アルキル置換芳香� �スルホン酸塩、アルキルリン酸塩、ペルフ� �オロアルキルスルホン酸塩、ペルフルオロ� �ルキルカルボン酸塩、ペルフルオロアルキ� �エチレンオキシド付加物、ペルフルオロア� �キルトリメチルアンモニウム塩等が挙げら� �る。界面活性剤の好ましい使用割合は、界� �活性剤の種類、組成物の成分比などに依存� �るが、本発明の重合性組成物100質量部に対� �て0.01~5質量部の範囲であることが好ましく� �0.05~1質量部の範囲内がより好ましい。

 また、本発明の重合性組成物には、必要� ��応じて添加物をさらに含有してもよい。重� ��性組成物の特性を調製するための添加物と� ��ては、例えば、保存安定剤、酸化防止剤、� ��外線吸収剤、赤外線吸収剤、無機物、有機� ��等の微粒子化物、ポリマー等の機能性化合� ��等が挙げられる。

 上記保存安定剤は、重合性組成物の保存� ��定性を向上させる効果を付与することがで� ��る。使用できる安定剤としては、例えば、� ��ドロキノン、ヒドロキノンモノアルキルエ� ��テル類、第三ブチルカテコール類、ピロガ� ��ール類、チオフェノール類、ニトロ化合物� ��、2-ナフチルアミン類、2-ヒドロキシナフタ レン類等が挙げられる。これらを添加する場 合は、本発明の重合性組成物100質量部に対し て、1質量部以下であることが好ましく、0.5� �量部以下が特に好ましい。

 上記酸化防止剤としては、特に制限がな� ��公知の化合物を使用することができ、例え� ��、ヒドロキノン、2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾー ル、2,6-ジ-t-ブチルフェノール、トリフェニ� �ホスファイト、トリアルキルホスファイト� �が挙げられる。

 上記紫外線吸収剤としては、特に制限が� ��く公知の化合物を使用することができ、例� ��ば、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾ� ��ェノール系化合物、ベンゾトリアゾール系� ��合物、シアノアクリレート系化合物又はニ� ��ケル錯塩系化合物等によって紫外線吸収能� ��もたせたものであってもよい。

 上記微粒子化物は光学(屈折率)異方性(δn) を調整したり、重合体の強度を上げたりする ために用いることができる。微粒子化物の材 質としては無機物、有機物、金属などが挙げ られ、凝集防止のため、微粒子化物は0.001~0.1 μmの粒子径が好ましく利用することができ、 さらに好ましくは0.001~0.05μmの粒子径である� �粒子径の分布はシャープであるものが好ま� �い。本発明の重合性組成物100質量部に対し� �、微粒子化物は、0.1~30質量部の範囲内で好� �しく使用することができる。

 上記無機物としては、例えば、セラミック� ��、フッ素金雲母、フッ素四ケイ素雲母、テ� ��オライト、フッ素バーミキュライト、フッ� ��ヘクトライト、ヘクトライト、サポナイト� ��スチブンサイト、モンモリロナイト、バイ� ��ライト、カオリナイト、フライポンタイト� ��ZnO、TiO ₂ 、CeO ₂ 、Al ₂ O ₃ 、Fe ₂ O ₃ 、ZrO ₂ 、MgF ₂ 、SiO ₂ 、SrCO ₃ 、Ba(OH) ₂ 、Ca(OH) ₂ 、Ga(OH) ₃ 、Al(OH) ₃ 、Mg(OH) ₂ 、Zr(OH) ₄ 等が挙げられる。尚、炭酸カルシウムの針状 結晶などの微粒子は光学異方性を有し、この ような微粒子によって重合体の光学異方性を 調節できる。上記有機物としては、例えばカ ーボンナノチューブ、フラーレン、デンドリ マー、ポリビニルアルコール、ポリメタクリ レート、ポリイミド等が挙げられる。

 上記ポリマーは、重合体の電気特性や配� ��性を制御することができ、上記溶剤に可溶� ��の高分子化合物が好ましく使用することが� ��きる。かかる高分子化合物としては、例え� ��、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア� ��ポリエポキサイド、ポリエステル、ポリエ� ��テルポリオール等が挙げられる。

 次に、本発明の重合体について説明する。
 本発明の重合体は、上記重合性組成物を溶� ��に溶解した後、支持基板に塗布して、重合� ��組成物中の液晶分子を配向させた状態で脱� ��媒し、次いでエネルギー線を照射して重合� ��ることにより得ることができる。

 上記支持基板としては、特に限定されな� ��が、好ましい例としてはガラス板、ポリエ� ��レンテレフタレート板、ポリカーボネート� ��、ポリイミド板、ポリアミド板、ポリメタ� ��リル酸メチル板、ポリスチレン板、ポリ塩� ��ビニル板、ポリテトラフルオロエチレン板� ��セルロース板、シリコン板、反射板、シク� ��オレフィンポリマー、方解石板等が挙げら� ��る。このような支持基板上にポリイミド配� ��膜又はポリビニルアルコール配向膜を施し� ��ものが特に好ましく使用することができる� ��

 上記支持基板に塗布する方法としては、� ��知の方法を用いることができ、例えばカー� ��ンコーティング法、押し出しコーティング� ��、ロールコーティング法、スピンコーティ� ��グ法、ディップコーティング法、バーコー� ��ィング法、スプレーコーティング法、スラ� ��ドコーティング法、印刷コーティング法及� ��流延成膜法等を用いることができる。尚、� ��記重合体の膜厚は用途等に応じて適宜選択� ��れるが、好ましくは0.05~10μmの範囲から選択 される。

 本発明の重合性組成物中の液晶分子を配� ��させる方法としては、例えば支持基板上に� ��前に配向処理を施す方法が挙げられる。配� ��処理を施す好ましい方法としては、各種ポ� ��イミド系配向膜又はポリビニルアルコール� ��配向膜からなる液晶配向層を支持基板上に� ��け、ラビング等の処理を行う方法が挙げら� ��る。また、支持基板上の組成物に磁場や電� ��等を印加する方法等も挙げられる。

 本発明の重合性組成物を重合させる方法� ��熱又は電磁波を用いる公知の方法を適用で� ��る。電磁波による重合反応としては、ラジ� ��ル重合、アニオン重合、カチオン重合、配� ��重合、リビング重合等があげられる。重合� ��組成物が液晶相を示す条件下で、重合を行� ��わせることが容易だからである。また磁場� ��電場を印加しながら架橋させることも好ま� ��い。支持基板上に形成した液晶(共)重合体� �、そのまま使用してもよいが、必要に応じ� �、支持基板から剥離したり、他の支持基板� �転写したりして使用してもよい。

 上記電磁波の好ましい種類は、紫外線、可� ��光線、赤外線等である。電子線、X線などの 電磁波を用いてもよい。通常は、紫外線また は可視光線が好ましい。好ましい波長の範囲 は150~500nmである。さらに好ましい範囲は250~45 0nmであり、最も好ましい範囲は300~400nmである 。光源は、低圧水銀ランプ(殺菌ランプ、蛍� �ケミカルランプ、ブラックライト)、高圧放� ��ランプ(高圧水銀ランプ、メタルハライドラ ンプ)、またはショートアーク放電ランプ(超� ��圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセ� ��ンランプ)などが挙げられるが、超高圧水銀 ランプが好ましく使用することができる。光 源からの光はそのまま重合性組成物に照射し てもよく、フィルターによって選択した特定 の波長(または特定の波長領域)を重合性組成� ��に照射してもよい。好ましい照射エネルギ� ��密度は、2~5000mJ/cm ² であり、さらに好ましい範囲は10~3000mJ/cm ² であり、特に好ましい範囲は100~2000mJ/cm ² である。好ましい照度は0.1~5000mW/cm ² であり、さらに好ましい照度は1~2000mW/cm ² である。重合性組成物が液晶相を有するよう に、電磁波を照射するときの温度を設定でき るが、好ましい照射温度は100℃以下である。 100℃以上の温度では熱による重合が起こりう るので良好な配向が得られないときがある。

 本発明の重合体は、光学異方性を有する� ��形体として利用することができる。この成� ��体の用途としては、例えば、位相差板(1/2波 長板、1/4波長板など)、偏光素子、二色性偏� �板、液晶配向膜、反射防止膜、選択反射膜� �視野角補償膜等の光学補償に用いることが� �きる。その他にも、液晶レンズ、マイクロ� �ンズ等の光学レンズ、高分子分散型液晶(PDLC )電子ペーパー、デジタルペーパー等の情報� �録材料にも利用することができる。

 以下、合成例、製造例及び実施例をもっ� ��本発明を更に説明する。しかしながら、本� ��明は以下の合成例、製造例及び実施例によ� ��て制限を受けるものではない。尚、下記合� ��例1~10は、本発明の重合性化合物の製造例を 示すものであり、下記製造例1は、本発明の� �合性組成物の調製例、及び該重合性組成物� �用いた本発明の重合体の製造例を示すもの� �あり、下記実施例1及び2は、本発明の重合体 の評価例を示すものである。

〔合成例1〕(化合物No.5の製造)
 化合物No.5を〔化86〕に示す反応式に従い、� ��記の手順で合成した。

 窒素雰囲気下において、6-(6-アクリロイ� �オキシヘキシルオキシ)ナフタレン-2-カルボ� ��酸13.70g(40.00mmol)をテトラヒドロフラン(THF)60g に溶解し、-30℃まで冷却後、メタンスルホニ ルクロリド(MsCl)5.50g(48.01mmol)を加え、トリエ� �ルアミン(TEA)10.51gを滴下した。滴下終了後、 1時間攪拌し、4-ジメチルアミノピリジン(DMAP) 0.02g(0.15mmol)及びメチルヒドロキノン2.48g(19.98m mol)を加え、0℃以下の温度条件で1時間攪拌し た。攪拌後、水500mlに加えて生じた析出物を� ��別し、さらにメタノール溶液に該析出物を� ��加し、攪拌による洗浄を行い、ろ別して白� ��結晶12.2gを得た(収率79%)。得られた白色結晶 について分析を行ったところ、目的物である 化合物No.5と同定した。これらの分析結果に� �いて下記に示す。

(1) ¹ H-NMR[CDCl ₃ ](ppm)
1.4-2.0(m:16H)、2.3(s:3H)、4.2(q:8H)、5.7-6.5(m:6H)、7.1 -7.3(m:7H)、7.8(t:4H)、8.1(d:2H)、8.7(s:2H)

(2)IR[KBr錠剤法](cm ^-1 )
478、567、675、745、806、872、899、937、1015、1061� ��1173、1200、1277、1339、1393、1416、1470、1628、17 24、2862、2939、3062

(3)相転移温度
 この化合物を示差走査熱量分析装置(サーモ プラスDSC-8230;(株)リガク)にて、窒素雰囲気下 (50ml/min)、5℃/minの速度で室温(20~30℃)から150� �まで測定した結果、下記の相転移温度を確� �した。

〔合成例2〕(化合物No.14の製造)
化合物No.14を〔化88〕に示す反応式に従い、� �記の手順で合成した。

 窒素雰囲気下において、6-(2-アクリロイ� �オキシエトキシ)ナフタレン-2-カルボン酸10g( 34.93mmol)をテトラヒドロフラン(THF)45gに溶解し 、-30℃まで冷却後、メタンスルホニルクロリ ド(MsCl)4.4g(38.41mmol)を加え、トリエチルアミン (TEA)9.54gを滴下した。滴下終了後、1時間攪拌� ��、4-ジメチルアミノピリジン(DMAP)0.04g(0.29mmol )及びプロピルヒドロキノン2.39g(15.70mmol)を加� ��、0℃以下の温度を保ちながら、1時間攪拌� �た。攪拌後、酢酸エチル40g及び水20gを加え� �油水分離を行い、有機層を抽出して水洗を� �った。洗浄後、有機層に硫酸マグネシウム� �を加えて脱水し、ろ過、減圧濃縮を行い、� �渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(� ��開溶媒:トルエン)で精製し、白色結晶6.0gを� ��た(収率56%)。得られた白色結晶について分� �を行ったところ、目的物である化合物No.14と 同定した。これらの分析結果について下記に 示す。

(1) ¹ H-NMR[CDCl ₃ ](ppm)
0.95(t:3H)、1.69(q:2H)、2.64(t:2H)、4.30-4.51(m:4H)、4.5 1-4.73(m:4H)、5.78-6.62(m:6H)、7.10-7.40(m:7H)、7.82(d:2H )、7.93(d:2H)、8.19(d:2H)、8.72(s:2H)

(2)IR[KBr錠剤法](cm ^-1 )
471、590、745、810、953、1069、1169、1192、1273、14 11、1477、1628、1724、2870、3425

(3)相転移温度
 この化合物を示差走査熱量分析装置(サーモ プラスDSC-8230;(株)リガク)にて、窒素雰囲気下 (50ml/min)、5℃/minの速度で室温(20~30℃)から150� �まで測定した結果、下記の相転移温度を確� �した。

〔合成例3〕(化合物No.18の製造)
化合物No.18を〔化90〕に示す反応式に従い、� �記の手順で合成した。

 窒素雰囲気下において、6-(6-アクリロイ� �オキシヘキシルオキシ)ナフタレン-2-カルボ� ��酸13.70g(40.00mmol)をテトラヒドロフラン(THF)60g に溶解し、-30℃まで冷却後、メタンスルホニ ルクロリド(MsCl)5.50g(48.01mmol)を加え、トリエ� �ルアミン(TEA)10.51gを滴下した。滴下終了後、 1時間攪拌し、4-ジメチルアミノピリジン(DMAP) 0.02g(0.15mmol)及びプロピルヒドロキノン3.04g(19. 98mmol)を加え、0℃以下の温度を保ちながら1時 間攪拌した。攪拌後、酢酸エチル40g及び水20g を加えて油水分離を行い、有機層を抽出して 水洗を行った。洗浄後、有機層に硫酸マグネ シウム塩を加えて脱水し、ろ過、減圧濃縮を 行い、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ フィー(展開溶媒:トルエン)で精製し、さらに 、メタノール/トルエンの混合溶媒にて晶析� �行い、白色結晶11.0gを得た(収率69%)。得られ� ��白色結晶について分析を行ったところ、目� ��物である化合物No.18と同定した。これらの� �析結果について下記に示す。

(1) ¹ H-NMR[CDCl ₃ ](ppm)
0.9(t:3H)、1.3-2.1(m:18H)、2.6(t:2H)、4.2(q:8H)、5.7-6.5 (m:6H)、7.0-7.3(m:7H)、7.8(t:4H)、8.2(d:2H)、8.7(s:2H)

(2)IR[KBr錠剤法](cm ^-1 )
471、502、586、745、806、941、961、991、1065、1169� ��1196、1273、1339、1393、1470、1624、1724、2862、29 39、3062

(3)相転移温度
 この化合物を示差走査熱量分析装置(サーモ プラスDSC-8230;(株)リガク)にて、窒素雰囲気下 (50ml/min)、5℃/minの速度で室温(20~30℃)から150� �まで測定した結果、下記の相転移温度を確� �した。

〔合成例4〕(化合物No.22の製造)
化合物No.22を〔化92〕に示す反応式に従い、� �記の手順で合成した。

 窒素雰囲気下において、6-(6-アクリロイ� �オキシヘキシルオキシ)ナフタレン-2-カルボ� ��酸13.70g(40.00mmol)をテトラヒドロフラン(THF)60g に溶解し、-30℃まで冷却後、メタンスルホニ ルクロリド(MsCl)5.50g(48.01mmol)を加え、トリエ� �ルアミン(TEA)10.51gを滴下した。滴下終了後、 1時間攪拌し、4-ジメチルアミノピリジン(DMAP) 0.02g(0.15mmol)及びt-ブチルヒドロキノン3.32g(19.9 7mmol)を加え、50℃以下の温度で2時間攪拌した 。撹拌後、酢酸エチル60g及び水20gを加えて油 水分離を行い、有機層を抽出して水洗を行っ た。洗浄後、有機層に硫酸マグネシウム塩を 加えて脱水し、ろ過、減圧濃縮を行い、シリ カゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:� ��ルエン)で精製し、さらに、メタノール/ト� �エンの混合溶媒にて晶析を行い、白色結晶7. 7gを得た(収率47%)。得られた白色結晶につい� �分析を行ったところ、目的物である化合物No .22と同定した。これらの分析結果について下 記に示す。

(1) ¹ H-NMR[CDCl ₃ ](ppm)
1.3-2.0(m:25H)、4.2(q:8H)、5.7-6.5(m:6H)、7.2-7.4(m:7H)� �7.9(t:4H)、8.2(d:2H)、8.7(s:2H)

(2)IR[KBr錠剤法](cm ^-1 )
478、748、810、856、895、934、964、988、1011、1061� ��1165、1170、1273、1389、1470、1624、1728、2858、29 47

(3)相転移温度
 この化合物を示差走査熱量分析装置(サーモ プラスDSC-8230;(株)リガク)にて、窒素雰囲気下 (50ml/min)、5℃/minの速度で室温(20~30℃)から150� �まで測定した結果、下記の相転移温度を確� �した。

〔合成例5〕(化合物No.24の製造)
化合物No.24を〔化94〕に示す反応式に従い、� �記の手順で合成した。

 窒素雰囲気下において、6-アクリロイル� �キシルナフタレン-2-カルボン酸14.53g(59.98mmol) をテトラヒドロフラン(THF)80gに溶解し、-30℃� ��で冷却後、メタンスルホニルクロリド(MsCl)8 .25g(72.02mmol)を加え、トリエチルアミン(TEA)15.7 7gを滴下した。滴下終了後、1時間攪拌し、4-� ��メチルアミノピリジン(DMAP)0.04g(0.29mmol)及び2 -フェニルヒドロキノン5.59g(30.02mmol)を加え、0 ℃以下の温度を保ちながら、1時間攪拌した� �攪拌後、酢酸エチル40g及び水40gを加えて油� �分離を行い、有機層を抽出して水洗を行っ� �。洗浄後、有機層に硫酸マグネシウム塩を� �えて脱水し、ろ過、減圧濃縮を行い、残渣� �トルエンにて洗浄し、白色結晶9.8gを得た(収 率52%)。得られた白色結晶について分析を行� �たところ、目的物である化合物No.24と同定し た。これらの分析結果について下記に示す。

(1) ¹ H-NMR[CDCl ₃ ](ppm)
6.0-6.8(m:6H)、7.2-8.3(m:24H)、8.6(s:1H)、8.8(s:1H)

(2)IR[KBr錠剤法](cm ^-1 )
478、702、741、764、806、914、934、988、1018、1076� ��1157、1184、1246、1265、1400、1474、1504、1628、17 24、2858

(3)相転移温度
 この化合物を示差走査熱量分析装置(サーモ プラスDSC-8230;(株)リガク)にて、窒素雰囲気下 (50ml/min)、5℃/minの速度で室温(20~30℃)から150� �まで測定した結果、171.7℃において融点を確 認した。

〔合成例6〕(化合物No.25の製造)
化合物No.25を〔化95〕に示す反応式に従い、� �記の手順で合成した。

 窒素雰囲気下において、6-(6-アクリロイ� �オキシヘキシルオキシ)ナフタレン-2-カルボ� ��酸13.70g(40.00mmol)をテトラヒドロフラン(THF)60g に溶解し、-30℃まで冷却後、メタンスルホニ ルクロリド(MsCl)5.50g(48.01mmol)を加え、トリエ� �ルアミン(TEA)10.51gを滴下した。滴下終了後、 1時間攪拌し、4-ジメチルアミノピリジン(DMAP) 0.02g(0.15mmol)及びフェニルヒドロキノン3.72g(19. 98mmol)を加え、0℃以下の温度を保ちながら1時 間攪拌した。攪拌後、酢酸エチル60g及び水20g を加えて油水分離を行い、有機層を抽出して 水洗を行った。洗浄後、有機層に硫酸マグネ シウム塩を加えて脱水し、ろ過、減圧濃縮を 行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィー (展開溶媒:トルエン)で精製し、さらに、メタ ノール/トルエンの混合溶媒にて晶析を行っ� �、白色結晶13.3gを得た(収率80%)。得られた白� ��結晶について分析を行ったところ、目的物� ��ある化合物No.25と同定した。これらの分析� �果について下記に示す。

(1) ¹ H-NMR[CDCl ₃ ](ppm)
1.4-2.0(m:16H)、4.1(q:8H)、5.7-6.5(m:6H)、7.1-8.2(m:18H)� ��8.5(s:1H)、8.7(s:1H)

(2)IR[KBr錠剤法](cm ^-1 )
478、583、698、745、810、856、876、899、941、988、 1022、1061、1119、1165、1200、1273、1342、1389、1408 、1474、1624、1720、2858、2939、3067

(3)相転移温度
 この化合物を示差走査熱量分析装置(サーモ プラスDSC-8230;(株)リガク)にて、窒素雰囲気下 (50ml/min)、5℃/minの速度で室温(20~30℃)から150� �まで測定した結果、下記の相転移温度を確� �した。

〔合成例7〕(化合物No.27の製造)
化合物No.27を〔化97〕に示す反応式に従い、� �記の手順で合成した。

 窒素雰囲気下において、6-(6-アクリロイ� �オキシヘキシルオキシ)ナフタレン-2-カルボ� ��酸13.70g(40.00mmol)をテトラヒドロフラン(THF)60g に溶解し、-30℃まで冷却後、メタンスルホニ ルクロリド(MsCl)5.50g(48.01mmol)を加え、トリエ� �ルアミン(TEA)10.51gを滴下した。滴下終了後、 1時間攪拌し、4-ジメチルアミノピリジン(DMAP) 0.02g及びメトキシヒドロキノン2.80g(19.98mmol)を 加え、0℃以下を保ちながら1時間攪拌した。� ��拌後、酢酸エチル60g及び水20gを加えて油水� ��離を行って有機層を抽出して水洗を行った� ��洗浄後、有機層に硫酸マグネシウム塩を加� ��て脱水し、ろ過、減圧濃縮を行い、シリカ� ��ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ト� �エン)で精製し、さらに、メタノール/酢酸エ チルの混合溶媒にて晶析を行い、白色結晶5.6 gを得た(収率36%)。得られた白色結晶について 分析を行ったところ、目的物である化合物No. 27と同定した。これらの分析結果について下� ��に示す。

(1) ¹ H-NMR[CDCl ₃ ](ppm)
1.4-2.1(m:16H)、3.8(s:3H)、4.2(q:8H)、5.7-6.5(m:6H)、6.9 -7.3(m:7H)、7.8(t:4H)、8.1(d:2H)、8.7(s:2H)

(2)IR[KBr錠剤法](cm ^-1 )
475、583、745、810、853、945、1034、1061、1173、127 3、1342、1389、1470、1508、1624、1728、2862、2939

(3)相転移温度
 この化合物を示差走査熱量分析装置(サーモ プラスDSC-8230;(株)リガク)にて、窒素雰囲気下 (50ml/min)、5℃/minの速度で室温(20~30℃)から150� �まで測定した結果、下記の相転移温度を確� �した。

〔合成例8〕(化合物No.40の製造)
化合物No.40を〔化99〕に示す反応式に従い、� �記の手順で合成した。

 窒素雰囲気下において、6-(6-アクリロイ� �オキシヘキシルオキシ)ナフタレン-2-カルボ� ��酸13.70g(40.00mmol)をテトラヒドロフラン(THF)60g に溶解し、-30℃まで冷却後、メタンスルホニ ルクロリド(MsCl)5.50g(48.01mmol)を加え、トリエ� �ルアミン(TEA)10.51gを滴下した。滴下終了後、 1時間攪拌し、4-ジメチルアミノピリジン(DMAP) 0.02g(0.15mmol)及び2,5-ジヒドロキシフェニルエ� �ルケトン3.32g(19.98mmol)を加え、0℃以下の温度 を保ちながら1時間攪拌した。撹拌後、酢酸� �チル40g及び水20gを加えて油水分離を行い、� �機層を抽出して水洗を行った。洗浄後、有� �層に硫酸マグネシウム塩を加えて脱水し、� �過、減圧濃縮を行い、シリカゲルカラムク� �マトグラフィー(展開溶媒:トルエン)で精製� �、さらに、メタノール/酢酸エチルの混合溶� ��で洗浄し、白色結晶8.6gを得た(収率53%)。得� ��れた白色結晶について分析を行ったところ� ��目的物である化合物No.40と同定した。これ� �の分析結果について下記に示す。

(1) ¹ H-NMR[CDCl ₃ ](ppm)
1.1(t:3H)、1.4-2.0(m:16H)、2.9(q:2H)、4.2(q:8H)、5.7-6.5 (m:6H)、7.2-8.2(m:15H)、6.7(s:2H)

(2)IR[KBr錠剤法](cm ^-1 )
478、745、810、872、937、988、1061、1123、1180、127 3、1342、1389、1412、1470、1624、1690、1724、2862、 2939

(3)相転移温度
 この化合物を示差走査熱量分析装置(サーモ プラスDSC-8230;(株)リガク)にて、窒素雰囲気下 (50ml/min)、5℃/minの速度で室温(20~30℃)から150� �まで測定した結果、下記の相転移温度を確� �した。

〔合成例9〕(化合物No.47の製造)
化合物No.47を〔化101〕に示す反応式に従い、� ��記の手順で合成した。

 窒素雰囲気下において、6-(6-アクリロイ� �オキシヘキシルオキシ)ナフタレン-2-カルボ� ��酸13.70g(40.00mmol)をテトラヒドロフラン(THF)60g に溶解し、-30℃まで冷却後、メタンスルホニ ルクロリド(MsCl)5.50g(48.01mmol)を加え、トリエ� �ルアミン(TEA)10.51gを滴下した。滴下終了後、 1時間攪拌し、4-ジメチルアミノピリジン(DMAP) 0.02g(0.15mmol)及び2,5-ジヒドロキシ安息香酸メ� �ル3.36g(19.98mmol)を加え、0℃以下の温度を保ち ながら、1時間攪拌した。攪拌後、酢酸エチ� �40g及び水20gを加えて油水分離を行い、有機� �を抽出して水洗を行った。洗浄後、有機層� �硫酸マグネシウム塩を加えて脱水し、ろ過� �減圧濃縮を行い、シリカゲルカラムクロマ� �グラフィー(展開溶媒:トルエン)で精製し、� �らに、メタノール/酢酸エチルの混合溶媒で� ��浄して、白色結晶8.6gを得た(収率53%)。得ら� ��た白色結晶について分析を行ったところ、� ��的物である化合物No.47と同定した。これら� �分析結果について下記に示す。

(1) ¹ H-NMR[CDCl ₃ ](ppm)
1.5-2.0(m:16H)、3.7(s:3H)、4.2(q:8H)、5.7-6.5(m:6H)、7.3 -8.2(m:15H)、8.7(s:2H)

(2)IR[KBr錠剤法](cm ^-1 )
475、548、586、675、741、772、810、856、876、914、 941、980、1015、1057、1126、1169、1200、1277、1342� �1389、1408、1435、1470、1624、1720、1732、2862、294 7、3063

(3)相転移温度
 この化合物を示差走査熱量分析装置(サーモ プラスDSC-8230;(株)リガク)にて、窒素雰囲気下 (50ml/min)、5℃/minの速度で室温(20~30℃)から150� �まで測定した結果、下記の相転移温度を確� �した。

〔合成例10〕(化合物No.59の製造)
化合物No.59を〔化103〕に示す反応式に従い、� ��記の手順で合成した。

 窒素雰囲気下において、6-(2-(2-アクリロ� �ルオキシエトキシ)エトキシ)ナフタレン-2-カ ルボン酸5g(15.14mmol)をテトラヒドロフラン(THF) 20gに溶解し、-30℃まで冷却後、メタンスルホ ニルクロリド(MsCl)1.91g(16.67mmol)を加え、トリ� �チルアミン(TEA)4.12gを滴下した。滴下終了後� ��1時間攪拌し、4-ジメチルアミノピリジン(DMA P)0.02g(0.15mmol)及びプロピルヒドロキノン1.04g(6 .83mmol)を加え、0℃以下の温度を保ちながら、 1時間攪拌した。攪拌後、酢酸エチル40g及び� �20gを加えて油水分離を行い、有機層を抽出� �て水洗を行った。洗浄後、有機層に硫酸マ� �ネシウム塩を加えて脱水し、ろ過、減圧濃� �を行い、残渣をシリカゲルカラムクロマト� �ラフィー(展開溶媒:トルエン/酢酸エチル混� �溶媒)で精製し、白色結晶2.2gを得た(収率41%)� ��得られた白色結晶について分析を行ったと� ��ろ、目的物である化合物No.59と同定した。� �れらの分析結果について下記に示す。

(1) ¹ H-NMR[CDCl ₃ ](ppm)
0.94(t:3H)、1.69(q:2H)、2.63(t:2H)、3.74-4.02(m:8H)、4.2 0-4.50(m:8H)、5.70-6.60(m:6H)、7.06-7.40(m:7H)、7.81(dd:2 H)、7.91(d:2H)、8.18(dd:2H)、8.71(s:2H)

(2)IR[KBr錠剤法](cm ^-1 )
478、748、810、949、1069、1142、1169、1196、1277、1 408、1477、1624、1724、2878、3433

(3)相転移温度
 この化合物を示差走査熱量分析装置(サーモ プラスDSC-8230;(株)リガク)にて、窒素雰囲気下 (50ml/min)、5℃/minの速度で室温(20~30℃)から150� �まで測定した結果、下記の相転移温度を確� �した。

〔製造例1〕(重合体の作製)
下記の手順([1]試料の調製、[2]支持基板の製� �、[3]支持基板への塗布)に従い本発明の重合� ��組成物から重合体を作製した。

[1]重合性組成物溶液の調製
 表1に記載の重合性組成物1.0gを溶媒(シクロ� ��キサノン/2-ブタノン=1/1(質量比))4.0gに添加� �て溶解し、ラジカル重合開始剤(N-1919;株式会 社ADEKA製)0.03gを加えて完全に溶解した後に、0 .45μmフィルターでろ過処理を実施して重合性 組成物溶液を調製した。

[2]支持基板の製作
 中性洗剤で洗浄後、純水で洗い流し乾燥し� ��ガラス板にポリビニルアルコール5%水溶液� �スピンコーターで均一に塗工し、100℃で3分� ��乾燥させた。乾燥後、ガラス基板に支持さ� ��たポリビニルアルコールの表面をレーヨン� ��で一定方向に擦り、支持基板を製作した。

[3]支持基板への塗布
 上記[1]で調製した重合性組成物溶液を、上� ��[2]で製作した支持基板上にスピンコーター� ��塗工を行った。塗工は膜厚が約1.0μmになる� ��うにスピンコーターの回転数及び時間を調� ��して実施した。塗工後、ホットプレートを� ��いて100℃で3分間乾燥して室温下で3分間冷� �した後に、高圧水銀灯(120W/cm ² )で20秒間照射し、膜を硬化させて重合体を得 た。

〔実施例1、2及び比較例1~3〕
上記の方法で得られた重合体について、下記 の試験を実施し、これらの結果について表1� �併せて示す。

(1)膜表面の状態
 得られた重合体の膜表面を目視で観察し、� ��表面が滑らかな場合は○、膜表面の一部に� ��ラがあったり、タックがあったりした場合� ��△、膜表面に凹凸が生じていたり、白濁し� ��場合は×とした。

(2)配向の均質性
 重合体の均質性について偏光顕微鏡を用い� ��評価した。試料を、クロスニコル下で重合� ��を設置したステージを回転させることによ� ��て、重合体の配向状態を観察し、膜の均質� ��について評価した。重合体の配向が均一に� ��られていれば○、配向が得られても不均一� ��あれば△、重合体に結晶等が発生して配向� ��全く得られていなければ×とした。

(3)リターデーション(R)
 上記製造例1で得た重合体に対して、偏光顕 微鏡を用いてセナルモン法に基づいて、室温 25℃で波長546nmにおけるリターデーション(R)� �測定した。

(4)膜厚(d)
 得られた重合体に対して、触針式表面形状� ��定器(Dektak6M;(株)アルバック製)を用いて室温 25℃で膜厚(d)を測定した。

(5)光学(屈折率)異方性(△n)
 重合体の光学(屈折率)異方性は、下記式(3)� �リターデーション関係式において上記のリ� �ーデーション(R)及び膜厚(d)を代入して算出� �た。
光学(屈折率)異方性(δn)=リターデーション(R)/ 膜厚(d) ・・・(3)

 上記表1において、本発明の重合性化合物 ではない比較化合物1又は比較化合物2を用い� ��作製した重合体は、重合性化合物が溶媒に� ��解しなかったり、あるいは室温付近で液晶� ��が発現しなかったりして、液晶相の固定化� ��得られなかった。また、比較化合物3の重合 性化合物を用いて作製した重合体は、液晶相 の固定化は可能であったが、膜表面の一部に 配向にムラが有り、リターデーションや光学 (屈折率)異方性(δn)などの光学特性は満足で� �るものではなかった。

 それに対して、実施例1及び実施例2より� �本発明の重合性化合物を使用して作製した� �合体は、配向が均一であり、光学(屈折率)異 方性(δn)が大きい重合体が得られた。

 以上より、本発明の重合性化合物を使用� ��て作製した重合体は、均一な製膜制御及び� ��れた光学特性が得られるものであり、ディ� ��プレイ用光学フィルムに好適に用いること� ��できる。