【발명의 명칭】

광학 재료용 수지 조성물 및 이를 포함하는 광학 필름

【기술분야】

관련 출원 (들)과의 상호 인용

본 출원은 2016년 8월 9일자 한국 특허 출원 게 10-2016-0101417호 및 2017년 7월 28일자 한국 특허 출원 게 10-2017-0096362호에 기초한 우선권의 이익을 주장하며， 해당 한국 특허 출원들의 문헌에 개시된 모든 내용은 본 명세서의 일부로서 포함된다. 본 발명은， 광학 재료용 수지 조성물 및 이를 포함하는 광학 필름에 관한 것이다.

【배경기술】

액정 표시 장치는 편광된 빛을 이용하는 것으로 이를 위하여 편광판이 사용되고 있으며， 대표적으로 PVA 소자가 사용되고 있다. 그러나， PVA 소자와 같은 편광판은 자체의 기계적 특성이 약하고 외부 환경， 예를 들어 온도나 습도의 영향을 쉽게 받기 때문에 이를 보호하기 위한 보호 필름이 필요하다. 이러한 보호 필름은 광학적 특성이 우수하여야 하고 기계적 특성이 우수하여야 한다. 편광판에 사용되는 PVA 소자의 보호 필름으로 종래에는 TAC 필름 (Tr i-Acetyl-cel lulose Fi lm)이 사용되어 왔으나， 최근에는 TAC 필름보다 우수한 내열성 및 내흡수성 특성을 가지는 아크릴계 필름이 사용되고 있다. 이러한 편광판 보호용 아크릴계 필름은 연신 가공을 통하여 제조되는데, 고온에서의 치수 변화가 적고 광학적 특성이 안정적으로 유지될 수 있도록， 일반적으로 유리전이온도가 120 ^° C 이상인 아크릴계 수지가 사용된다. 또한, 아크릴계 수지의 치수 안정 과 광학적 특성을 보다 향상시키기 위하여 내열성을 부여하는 고리 (cycl i c) 구조를 갖는 단량체를 도입하고 있다. 그러나, 고리 구조를 갖는 단량체를 도입할 경우， 원료의 단가가 높아질 뿐만 아니라， 보다 고온에서 가공을 하여야 하는 문제가 있다. 한편， 폴리메틸메타크릴레이트 (PMMA)는 투명성이 우수하여 편광판 보호용 필름으로의 가능성이 있으나， 유리전이온도가 낮으며， 이에 따라 고온에서 연신 이력이 풀려 치수 안정성이 나빠지는 문제가 있다. 또한， IPS 모드용 편광판 보호필름으로 사용하기 위해서는 낮은 위상차 값을 구현하기 위하여 별도의 위상차 조절제를 첨가하여야 하는데， 이때 사용되는 위상차 조절제는 폴리메틸메타크릴레이트와 상용성이 우수하여야 하고， 또한 낮은 위상차 값의 구현을 위해 적절한 함량이 포함되어야 한다. 또한， 폴리메틸메타크릴레이트는 연신하여 필름으로 제조하면 연신 방향에 대하여 수직인 방향으로 굴절율이 커지는 부의 복굴절 특성을 가지며， 따라서 낮은 위상차 값의 구현을 위하여 사용되는 위상차 조절제는 연신 방향으로 굴절율이 커지는 정의 복굴절 특성을 가져야 한다. 이러한 정의 굴절 특성을 가지는 물질로는 폴리카보네이트， 폴리에스테르， 페녹시 수지 등이 알려져 있는데， 대부분 폴리메틸메타크릴레이트와의 상용성이 나쁘다는 단점이 있다. 이에 본 발명자들은， 고분자 주쇄에 고리 구조의 단량체를 포함하지 않는 폴리메틸메타크릴레이트를 사용하면서도 낮은 위상차 값을 구현할 수 있는 광학 재료용 수지 조성물을 제조하기 위하여 예의 노력한 결과， 후술할 바와 같이 폴리메틸메타크릴레이트. 말단에 메타크릴산 단량체를 특정량 포함하고 또한 폴리카보네이트를 위상차 조절제로 포함할 경우， 상기를 달성함을 확인하여 본 발명을 완성하였다.

【발명의 내용】

【해결하려는 과제】

본 발명은 우수한 투명성 및 내열성을 가지며， 또한 위상차 값이 작은 광학 재료용 수지 조성물 및 이를 포함하는 필름을 제공하기 위한 것이다.

또한， 본 발명은 상기 광학용 필름을 포함하는 편광판을 제공하기 위한 것이다.

【과제의 해결 수단】

상기 과제를 해결하기 위하여， 본 발명은 1) 폴리메틸메타크릴레이트

90 내지 99 중량 %， 및 2) 폴리카보네이트 1 내지 10 중량 %를 포함하고， 상기 폴리메틸메타크릴레이트는 메타크릴산 단량체를 상기 폴리메틸메타크릴레이트 중량 대비 1 내지 5 중량 % 포함하고， 상기 폴리메틸메타크릴레이트의 유리전이온도는 100 ^° C 이상 120 ^° C 미만이고， 상기 폴리카보네이트의 유리전이은도는 125 ^° C 이상 135 ^° C 미만이고， 상기 폴리메틸메타크릴레이트 및 폴리카보네이트의 유리전이온도 차이가 20°C 미만인， 광학 재료용 수지 조성물을 제공한다. 폴리메틸메타크릴레이트 (PMMA)는 투명성이 우수하여 광학용 필름， 특히 편광판 보호용 필름으로 사용할 수 있다. 그러나， 폴리메틸메타크릴레이트를 필름으로 제조할 경우 기계적 강도를 높이기 위하여 연신 공정을 사용하여야 하는데， 폴리메틸메타크릴레이트는 유리전이온도가 낮기 때문에 이를 이용하여 제조한 광학용 필름은 고온에서 사용시 연신 이력이 풀려 치수 안정성이 나빠지는 문제가 있다. 이를 개선하기 위하여， 폴리메틸메타크릴레이트 고분자 주쇄에 고리 구조를 갖는 단량체를 도입하는 방법이 있으나, 제조 공정이 복잡하고, 원료의 단가가 높아질 뿐만 아니라, 보다 높은 온도에서 가공을 해야 하고， 이로 인하여 고분자의 말단기가 분해되거나, 저분자량의 첨가제들이 열분해 되는 문제가 있다. 또한, 폴리메틸메타크릴레이트를 연신하게 되면， 연신 방향에 대하여 수직인 방향으로 굴절율이 커지는 부의 복굴절 특성을 가지며， 따라서 IPS 모드용 편광판의 보호필름과 같이 낮은 위상차 값을 가지기 위해서는， 연신 방향으로 굴절율이 커지는 정의 복굴절 특성을 가지는 위상차 조절제가 필요하다. 이에， 본 발명에서는 후술할 바와 같은 폴리메틸메타크릴레이트와， 위상차 조절제로서 폴리카보네이트를 사용함으로써, 낮은 위상차 값을 구현할 수 있는 광학 소재용 수지 조성물을 제공한다. 이하， 본 발명을 보다상세히 설명한다. 폴리메틸메타크릴레이트

본 발명에서 사용하는 용어 '폴리메틸메타크릴레이트 (PolyOiiethyl methacryl ate) ; PMMA) ' 는， 메틸 메타크릴레이트 (Methyl methacryl ate , MMA)를 단량체로 하는 중합체를 의미하며， 특히 본 발명에서는 광학 재료용 수지 조성물의 주성분으로서， 그 말단에 메타크릴산 단량체를 1 내지 5 중량 % 포함하는 것을 의미한다. 상기 메타크릴산은 공중합체의 분해를 억제하여 유리전이온도를 조절하는 역할을 한다. 또한, 상기 폴리메틸메타크릴레이트의 유리전이온도는 100 ^° C 이상 120 ^° C 미만이고， 바람직하게는 110 ^° C 이상 117 ^° C 이하이다. 상기 유리전이온도가 100 ^° C 미만인 경우에는 필름으로 제조하였을 때 열적 안정성이 떨어지는 문제가 있다. 또한, 상기 유리전이온도가 120 ^° C 이상인 경우에는， 전술한 바와 같이 폴리메틸메타크릴레이트 주쇄에 고리 구조를 갖는 특수한 단량체를 도입하거나， 중합 공정에서 아크릴 고분자 사슬의 입체 규칙성 (tact i ci ty)을 특별히 조절하여야 12C C 이상의 내열성을 갖기 때문에 이로 인하여 원료의 단가가 높아지게 되고 높은 가공 온도에 따른 열분해 등이 발생하여 필름 가공성이 떨어지는 문제가 있다. 상기 폴리메틸메타크릴레이트는 메틸 메타크릴레이트 외에 메타크릴산이 사용되는 점을 제외하고는 공지의 방법으로 제조할 수 있으며， 예를 들어 유화 중합법， 유화 -현탁 중합법， 현탁 중합법 등의 방법으로 제조될 수 있다. 또한， 메타크릴산 단량체를 폴리메틸메타크릴레이트의 말단에 도입하기 위하여， 폴리메틸메타크릴레이트를 먼저 중합한 후 메타크릴산 단량체를 중합할 수 있다. 또한， 상기 폴리메틸메타크릴레이트의 중량평균분자량은 100 , 000 내지 160 , 000이다. 상기 중량평균분자량이 100 , 000 미만인 경우에는 필름으로 제조하였을 때 기계적 물성이 떨어지는 문제가 있고， 상기 중량평균분자량이 160 , 000 초과인 경우에는 연신 가공이 어렵다는 문제가 있다. 폴리카보네이트

발명에서 사용하는 용어 '폴리카보네이트' 란, 방향족 디을 화합물 및 카보네이트 전구체가 반웅하여 형성되는 것으로， 계면 중합 또는 용액 중합으로 제조될 수 있다. 일례로， 비스페놀 A와 포스겐을 계면 중합하여 제조할 수 있다. 상기 폴리카보네이트는 위상차 조절을 위해 첨가되며, 또한 폴리메타크릴레이트와 상용성， 광학 필름의 가공성 및 광학 필름의 물성을 위하여 폴리카보네이트의 유리전이온도는 상기 폴리메타크릴레이트에 상웅하여야 한다. 바람직하게는， 상기 폴리카보네이트의 유리전이온도는 125 ^° C 이상 135 ^° C 미만이다. 상기 유리전이온도가 125 ^° C 미만인 경우에는 폴리카보네이트의 Ml가 너무 낮아져 펠렛화가 힘들고， 중합 효율성도 나빠져 제조하기가 어렵다. 또한， 상기 유리전이온도가 135 ^° C 이상인 경우에는, 본 발명의 아크릴 수지와의 상용성이 나빠져 투명한 필름을 얻을 수가 없어 바람직하지 않다. 또한， 상기 폴리메틸메타크릴레이트 및 폴리카보네이트의 유리전이은도 차이가 20 ^° C 미만인 폴리카보네이트를 사용하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는， 상기 유리전이온도 차이가 19 ^° C 이하이다. 상기 유리전이은도 차이가 2(rc 이상이면， 폴리메틸메타크릴레이트와의 상용성이 떨어져 전체적으로 불투명한 조성물이 되어 바람직하지 않다. 또한， 상기 폴리카보네이트는, 상기 광학 재료용 수지 조성물에서 1 중량 % 내지 10 중량%가 바람직하다. 만약 폴리카보네이트 함량이 1 중량 % 미만이면 부의 복 절 특성이 너무 커서 zero 위상차 구현이 되지 않고， 반대로 폴리카보네이트 함량이 10 증량 %를 초과하면 정의 복굴절 특성이 너무 커져서 마찬가지로 zero 위상차 구현이 어렵고 아크릴과의 상용성도 나빠져 투명성이 저하되는 문제가 있다. 광학재료용수지 조성물

본 발명에 따른 광학 재료용 수지 조성물은， 상술한 폴리메틸메타크릴레이트 90 내지 99 중량 %， 및 폴리카보네이트를 1 내지 10 중량 %를 포함한다. 또한, 상기 광학 재료용 수지 조성물은， 상기 폴리메틸메타크릴레이트 및 폴리카보네이트 조성물을 용융 흔련하여 제조할 수 있다. 또한, 상기 광학 재료용 수지 조성물은, 필요에 따라 자외선 흡수제， 열 안정화제， 윤활제 등의 첨가제를 포함할 수 있다. 이때， 상기 첨가제들은 수지 조성물의 물성을 해하지 않는 범위 내에서 적절한 함량으로 포함될 수 있으며， 예를 들면， 전체 광학 재료용 수지 조성물 100 중량부를 기준으로 0. 1 내지 5 중량부로 포함될 수 있다. 광학필름

또한， 본 발명은 상술한 광학 재료용 수지 조성물을 포함하는 광학 필름을 제공한다. 본 발명에서 사용하는 용어 "광학 필름" 이란， 상술한 광학 재료용 수지 조성물을 연신하여 제조된 필름을 의미한다. 본 발명에 따른 광학 필름의 제조 시에는 당해 기술분야에 알려진 어떠한 방법， 예를 들면， 용액 캐스터법이나 압출법 등을 이용할 수 있고, 일례로 용융 압출 성형법을 이용할 수 있다. 구체적으로, 상기 광학 재료용 수지 조성물을 진공 건조하여 수분 및 용존 산소를 제거한 후， 원료 호퍼 (hopper )로부터 압출기를 질소 치환한 싱글 또는 트윈 압출기에 공급하고， 고온에서 용융하여 원료 펠렛을 얻고， 얻어진 원료 펠렛을 진공 건조하고， 원료 호퍼로부터 압출기까지를 질소 치환한 싱글 압출기로 용융한 후, 코트 행거 타입의 T—다이에 통과시키고， 크롬 도금 캐스팅 를 및 건조 를 등을 거쳐 필름을 제조할 수 있다. 이때， 필름 성형 온도는 바람직하게는 150 ^° C 내지 350 ^° C , 보다 바람직하게는 200 ^° C 내지 300 ^° C이다. 한편， 상기와 같이， T 다이법으로 필름을 성형하는 경우에는， 공지된 단축 압출기나 2축 압출기의 선단부에 T-다이를 장착하고， 필름 형상으로 압출된 필름을 권취하여 를 형상의 필름을 얻을 수 있다. 특히, 본 발명에 따른 광학 필름은， 상술한 광학 재료용 수지 조성물로 제조된 필름을 MD 방향으로 1.5배 내지 2.5배 및 TD 방향으로 1.5배 내지 3.0배의 2축 연신하여 제조되는 것이 바람직하다. 상기 연신은 상기 광학 재료용 조성물에 포함된 고분자의 분자를 정렬하는 것으로， 연신 정도에 따라 제조되는 광학 필름의 특성에 영향을 미친다. 보다 바람직하게는， 상기 MD 방향의 연신 배율과 TD 방향의 연신 배율의 비 (TD 연신 배율 /MD 연신 배율)이 1.05 이상 1.70 이하이다. 또한, 상기 연신 온도는 상기 폴리메틸메타크릴레이트의 유리전이온도 보다 K C 내지 30 ^° C 높은 온도에서 수행하는 것이 바람직하다. 본 발명에 따른 광학 필름은 치수 안정성이 우수하며， 이러한 열적 치수 안정성을 평가하기 위하여 TTS(Temperature of Thermal Shr inkage)라는 변수를 도입하였다. TTS는 연신 공정으로 제조된 광학 필름이 연신 이력이 완화되면서 급격하게 수축하기 시작하는 온도를 의미한다. 구체적으로， 광학 필름에 온도를 가하였을 때， 온도가 증가함에 따라 팽창후 수축이 시작되는 온도를 의미한다. 바람직하게는， 본 발명에 따른 광학 필름의 MD 방향의 및 TD 방향의 TTS가 각각 100 ^° C 내지 120 ^° C이다. 또한， 본 발명에 따른 광학 필름은 2축 연신 공정을 통하여 고분자 사슬을 배향시켜 제조함으로써， 쉽게 깨지기 쉬운 특성올 개선할 수 있다. 구체적으로, 본 발명에 따른 광학 필름은 하기 수학식 1의 층격 에너지 ( Impact energy) 값이 400 kN - m/m ³ 이상이라는 특징이 있다:

[수학식 1]

층격 에너지 = (중력가속도 X 낙구 볼의 무게 X 낙구 높이) /(광학 필름의 두께 X 광학 필름의 면적) 상기 충격 에너지의 구체적인 측정 방법은 이하 실시예에서 구체화할 수 있다. 일례로， 이하 실시예에서는， 상기 충격 에너지의 측정을 위하여

16.4 g의 낙구 볼을 사용하였으며， 총 10회 자유 낙하시켜 8회 이상 파괴되지 않고 버티는 최고 높이를 상기 낙구 높이로 하여 계산하였다. 한편, 본 발명에 따른 광학 필름의 두께는 필요에 따라 적절히 조절할 수 있으며， 일례로 10 um 내지 100 urn인 것이 바람직하다. 또한 바람직하게는， 본 발명에 따른 광학 필름은 하기 위상차를 나타낸다:

[수학식 2]

0 nm < Rin < 10 nm (Rin = (nx-ny) x d)

[수학식 3]

-10 nm < Rth < 10 nm (Rth = ( (nx+ny)/2-nz) x d)

상기 수학식 2 및 3에서，

nx , ny 및 nz는 각각 x축 방향， y축 방향 및 z축 방향의 굴절율을 나타내고， d는 광학 필름의 두께 (nm)를 의미한다. 위상차는 낮은 위상차 값을 만족하는 것을 의미하는 것으로， 상술한 바와 같이 폴리메틸메타크릴레이트와 위상차 조절제로서 폴리카보네이트를 사용함으로써， 낮은 위상차 값을 구현할 수 있다. 또한， 본 발명은 상기 광학 필름을 포함하는 편광판을 제공한다. 상술한 바와 같이 본 발명에 따른 광학 필름은 편광판의 보호 필름으로 사용할 수 있으며， 이에 따라 편광판의 기계적 특성을 보완하고， 외부 환경, 예를 들어 온도나 습도의 영향으로부터 편광판을 보호할 수 있다. 구체적으로， 본 발명에 따른 광학 필름은, 편광판의 일면 또는 양면에 부착되어 편광판 보호필름으로 사용될 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 광학 필름이 액정 표시 소자에 적용될 경우， 편광판과 액정샐 사이에 본 발명에 따른 광학 필름이 사용될 수 있으며， 이 경우 액정셀과 편광판을 동시에 보호할 수 있다. 이의 일례를 도 1에 나타내었다. 도 1에 예시된 바와 같이, 편광소자 /보호필름 /액정셀 /보호필름 /편광소자의 순서로 구성될 수 있으며， 각 편광소자의 타면에는 보호필름으로서 TAC 필름， 또는 아크릴 필름을 제한 없이 사용할 수 있다.

【발명의 효과】

상술한 바와 같이， 본 발명에 따른 광학 재료용 수지 조성물은， 고리 구조를 갖는 단량체를 포함하지 않는 폴리메틸메타크릴레이트를 사용하면서도 폴리카보네이트를 위상차 조절제로 사용하여， 광학 필름으로 제조시 낮은 위상차 값을 구현할수 있다는 특징이 있다.

【도면의 간단한 설명】

도 1은, 본 발명에 따른 보호필름이 사용되는 예를 도식적으로 나타낸 것이다.

【발명을 실시하기 위한 구체적인 내용】

이하,ᅳ 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐， 이에 의해 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다. 제조예 1: 폴리메틸메타크릴레이트 5리터 반웅기에， 메틸 메타크릴레이트 98 wt% 및 메틸 아크릴레이트 2 %의 단량체 흔합물 1000 g을 넣고， 증류수 2000 g, 5% 폴리비닐알코올 용액 8.4 g(P0VAL PVA217 , kuraray 사)， 및 분산 조력제로 붕산 0. 1 g을 투입하고 용해하였다. 여기에， 사슬이동제로 n-옥틸머캡탄 2.5 g, 중합개시제로 2， 2' -아조비스이소부티로니트릴 1.5 g을 투입하고 400 rpm으로 교반하면서 수상에 분산시켜 현탁액을 제조하였다. 80 ^° C로 승온하여 90분 동안 중합시킨 후， 30 ^° C로 냉각시켰다. 얻어진 비드를 증류수로 세척 및 탈수한 후에 건조하여 폴리메틸메타크릴레이트 수지를 제조하였다. 상기 제조된 수지의 유리전이은도와 분자량을 측정한 결과， 유리전이온도 116 ^° C , 중량평균분자량 120 , 000이었다. 상기 유리전이온도는， Met t ier Toledo 사의 시차주사열량계 (DSC)를 이용하여， 10 ^° C /min의 승은 조건으로 측정하였다. 제조예 2: 폴리카보네이트

폴리카보네이트로， 유리전이온도가 134 ^° C인 폴리카보네이트 수지 (UF

1004A, 주식회사 엘지화학， 이하 'PC-1' 으로 명명)， 유리전이온도가 143 ^° C인 폴리카보네이트 수지 (LUP0Y 1080 DVD , 주식회사 엘지화학， 이하 'PC-2' 로 명명)， 및 유리전이온도가 148 ^° C인 폴리카보네이트 수지 (UF 1004C, 주식회사 엘지화학， 이하 'PC-3' 로 명명)를 사용하였다. 실시예 1

제조예 1에서 제조한 폴리메틸메타크릴레이트 95 wt%와 PC-1 5 wt%를 흔합하고, 여기에 산화방지제 ( Irganox 1010 , BASF 사)를 0.5 phr의 함량으로 처방하여 드라이 블렌드하고， 트원 압출기로 컴파운딩하여 수지 조성물을 제조하였다. 상기 수지 조성물을 265 ^° C에서 용융시키고， T-Die를 통하여 시트 형태로 압출 캐스팅하여 두게 180 um의 시트를 얻었다. 비교예 1

제조예 1에서 제조한 폴리메틸메타크릴레이트 85 wt%와 PC-1 15 %를 흔합한 것을 제외하고 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 시트를 얻었다. 비교예 2

제조예 1에서 제조한 폴리메틸메타크릴레이트 95 wt¾와 PC-2 5 wt%를 흔합한 것을 제외하고， 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 시트를 얻었다. 비교예 3

제조예 1에서 제조한 폴리메틸메타크릴레이트 95 %와 PC-3 5 wt¾를 흔합한 것을 제외하고， 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 시트를 얻었다. 비교예 4

제조예 1에서 제조한 폴리메틸메타크릴레이트에 산화방지제 ( Irganox 1010 , BASF 사)를 0.5 phr의 함량으로 처방하여 드라이 블렌드하고， 트뷘 압출기로 컴파운딩하여 수지 조성물을 제조하였다. 상기 수지 조성물을 265 ^° C에서 용융시키고， T-Di e를 통하여 시트 형태로 압출 캐스팅하여 두게 180 urn의 시트를 얻었다. 실험예 1

상기 실시예 및 비교예에서 얻은 시트를 이용하여 하기와 같이 특성을 평가하였다.

1) 유리전이온도 차이 (ATg) : 폴리카보네이트 (PC-1 , PC-2 , 또는 PC- 3)의 유리전이온도와， 폴리메틸메타크릴레이트의 유리전이온도 차이를 계산하였다.

2) 전광선 투과율 (Tt ) : 탁도계를 사용하여 시트와 전광선 투과율을 측정하였다.

3) Haze : Hazemeter丽 -150을사용하여 측정하였다. 상기 결과를 하기 표 1에 나타내었다. 【표 1】

상기 표 1에 나타난 바와 같이， 실시예 1은 유리전이온도 차이가 2(rc 미만이고， 폴리카보네이트의 함량이 10 wt% 이하이기 때문에, 전광선 투과율과 Haze 값이 우수한 투명 시트가 제조되었다. 반면, 비교예 1은 유리전이온도 차이가 20 ^° C 미만이지만, 폴리카보네이트의 함량이 10 wt% 이상이기 때문에， 전광선 투과율이 낮고 Haze 값이 큰 불투명 시트가 제조되었다. 또한， 비교예 2 및 3은 폴리카보네이트의 함량이 10 wt% 이하이지만， 유리전이온도 차이가 20 ^° C 이상이어서， 불투명 시트가 제조되었다. 비교예 4는， 폴리카보네이트 수지를 첨가하지 않았으며， 전광선 투과율과 Haze 값이 양호한투명 시트가 제조되었다. 실험예 2

상기 실험예 1에서， 투명 시트가 제조된 실시예 1 및 비교예 4의 시트를 이용하여， 하기의 실험을 실시하였다. 실시예 1의 시트를, 이하 표 2에 기재된 바와 같은 연신온도 및 연신배율로 2축 연신하여 광학필름 (실시예 2 내지 7)을 제조하였다. 또한， 비교예 4의 시트를, 이하 표 2에 기재된 바와 같은 연신온도 및 연신배율로 2축 연신하여 광학필름 (비교예 5)을 제조하였다. 또한 비교를 위하여， 2축 연신하지 않은 실시예 1의 시트를 비교예 6으로 하였다. 상기 제조한 광학필름을 이용하여 하기와 같이 특성을 평가하였다.

1) TTS (Temperature of .Thermal Shr inkage) : 광학용 필름을 80 x 4.5 醒의 치수로 샘플을 제조한 후， TA TMA(Q400) 장비를 이용하여 측정하였다. 구체적으로， 승온 속도 10 ^° C /min 및 하중 0.02 N의 조건으로 온도를 가하였을 때， 상기 샘플이 MD 및 TD 방향으로 각각 팽창 후 수축이 시작되는 변곡점의 은도 (접선 기을기가 0)를 TTS 값으로 하였다.

2) 위상차: 복굴절 측정기 (AxoScan, Axometr ics 사)를 이용하여 550 nm의 파장에서 위상차를 측정하였다. X축 방향의 굴절율 ( _nx ) 및 y축 방향의 굴절율 (ny) , z축 방향의 굴절률 (nz)의 측정값으로， 이하 수학식으로 면내 위상차 (Rin) 및 두께 방향 위상차 (Rth) 값을 계산하였다.

Rin(nm) = (nx-ny) x d

Rth(nm) = ( (nx+ny)/2 - nz) x d

상기에서， ^' (！는 광학용 필름의 두께 (nm)를 의미한다.

3) 열수축율: 광학용 필름을 20 X 200 誦의 치수로 샘플을 제조한 후, 85 ^° C의 오븐에서 100시간 체류 후 초기 길이 대비 변화한 길이를 측정하였다. 변화한 길이를 초기 길이 대비 백분율 값을 치수 변화 값으로 하였다.

4) 층격 에너지 ( impact strength, kN - m/m ³ )： 광학필름의 두께를 측정하고， 직경 76 瞧의 원형 프레임에 끼워 필름을 고정한 후， 중량 16.4 g의 원형 볼 (쇠구슬)을 이용하여 높이를 변화시켜 가면서 자유 낙하시켜 필름 위에 떨어뜨려 광학필름의 파손 여부를 확인하였다. 광학필름의 파손은 동일 높이에서 총 10회 자유 낙하시켜 8회 이상 파괴되지 않고 버티는지 여부로 판단하였다. 8회 이상 버티는 최고 높이를 이용하여， 하기의 식으로 광학필름의 층격 에너지 값을 계산하였다.

충격 에너지 = (중력가속도 X 낙구 볼의 무게 X 낙구 높이) /(편광판보호필름의 두께 X 필름 면적) 상기 결과를 하기 표 2에 나타내었다. 【표 2]

상기 표 2에 나타난 바와 같이， 실시예 1의 수지 조성물을 사용한 경우에는 어떠한 연신 조건에서도 낮은 위상차 특성을 나타냄을 확인할 수 있었다. 반면， 비교예 4의 수지 조성물과 같이 폴리메틸메타크릴레이트 만으로 광학필름을 제조한 경우에는 Rth 위상차 값이 높음을 확인할 수 있었다. 또한， 비교예 6과 같이 2축 연신을 하지 않을 경우에는 층격 에너지가 낮음을 확인할 수 있었다. 또한， 실시예 2와 실시예 4를 비교하면, 동일한 연신 배율에서 연신 온도를 높게 할수록 높은 TTS 값을 나타내며, 치수 변화도 적은 광학용 필름을 제조할 수 있음을 확인할 수 있었다. 반면， 동일한 연신 온도 조건에서 MD 방향의 연신 배율과 TD 방향의 연신배율이 큰 실시예 3 및 실시예 5의 경우에는， 연신 배율이 큰 TD 방향의 값이 작아지고 열수축율도 커져， 편광판으로 제조시 수축 웅령에 의하여 컬 (cur l )이나 벤딩 (bending)이 발생할 수 있다. 또한， 동일한 연신 배율에 대해서 연신 온도가 낮은 실시예 6 및 실시예 7의 경우에도, 동일하게 TTS 값이 작아지고 열수축율도 커지는 경향을 나타냄을 확인할 수 있었다.