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Title:
SECURING DEVICE, WAFER TRANSPORT CONTAINER HAVING AT LEAST ONE SECURING DEVICE, SECURING SYSTEM AND METHOD HAVING THE SECURING DEVICE
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2019/179628
Kind Code:
A1
Abstract:
The invention relates to a securing device, in particular a wafer transport container securing device, comprising at least one interlocking unit (10), which is provided at least for securing a wafer transport container opening element (14) of a wafer transport container (16), which wafer transport container opening element is held in the closure position thereof by a closing mechanism (12).

Inventors:
EHRNE FLORIAN (CH)
NETZER MARTIN (AT)
HOFER ANDREAS (CH)
Application Number:
PCT/EP2018/057347
Publication Date:
September 26, 2019
Filing Date:
March 22, 2018
Export Citation:
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Assignee:
VAT HOLDING AG (CH)
International Classes:
H01L21/673; H01L21/677
Foreign References:
US6338604B12002-01-15
US6390145B12002-05-21
Other References:
None
Attorney, Agent or Firm:
DAUB, Thomas (DE)
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Claims:
Ansprüche

1 . Sicherungsvorrichtung, insbesondere Wafer-Transportbehältnis- Sicherungsvorrichtung, mit zumindest einer Formschlusseinheit (10), welche zumindest zu einer Sicherung eines durch einen

Verschließmechanismus (12) in seiner Verschließposition gehaltenen Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselements (14) eines Wafer- Transportbehältnisses (16) vorgesehen ist.

2. Sicherungsvorrichtung nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die Formschlusseinheit (10) zumindest eine Formschlussausnehmung (18) und zumindest ein Formschlusspasselement (20) aufweist, wobei die Formschlussausnehmung (18) und das Formschlusspasselement (20) dazu vorgesehen sind, bei einer ordnungsgemäßen Sicherung

berührungslos miteinander zu koppeln.

3. Sicherungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch eine zumindest teilweise einstückige Ausbildung mit dem Wafer- Transportbehältnis (16).

4. Sicherungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,

gekennzeichnet durch zumindest ein Rückstellelement (22), welches dazu vorgesehen ist, die Formschlusseinheit (10) zumindest teilweise in eine Sicherungsposition rückauszulenken und/oder die

Formschlusseinheit (10) in der Sicherungsposition zu halten.

5. Sicherungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch zumindest eine Kammer (24), welche einen Druckanschlusskanal (26) aufweist, der dazu vorgesehen ist, eine

Variation eines Innendrucks in der Kammer (24) relativ zu einem

Referenzdruck zu erlauben, wobei ein aus dem Innendruck der Kammer (24) und dem Referenzdruck gebildeter Differenzdruck dazu vorgesehen ist, einen Sicherungszustand der Formschlusseinheit (10) zu beeinflussen.

6. Sicherungsvorrichtung nach den Ansprüchen 4 und 5, dadurch

gekennzeichnet, dass das zumindest eine Rückstellelement (22) zumindest zu einem Großteil innerhalb der Kammer (24) angeordnet ist.

7. Sicherungsvorrichtung zumindest nach Anspruch 5, dadurch

gekennzeichnet, dass die Formschlusseinheit (10) zumindest ein beweglich gelagertes Formschlusspasselement (20) aufweist, wobei eine Position des Formschlusspasselements (20) relativ zu zumindest einer Kammerwand (28) der Kammer (24) abhängig ist von dem Differenzdruck.

8. Sicherungsvorrichtung zumindest nach Anspruch 5, dadurch

gekennzeichnet, dass die Formschlusseinheit (10) dazu vorgesehen ist, eine entsicherte Position einzunehmen, wenn der Differenzdruck oberhalb eines Grenzdifferenzdrucks liegt. 9. Sicherungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,

gekennzeichnet durch zumindest eine weitere Kammer (30), welche in einem gesicherten Zustand der Sicherungsvorrichtung und in einem entsicherten Zustand der Sicherungsvorrichtung einen mit einem

Umgebungsdruck identischen Innendruck aufweist.

10. Sicherungsvorrichtung zumindest nach den Ansprüchen 5 und 9,

gekennzeichnet durch zumindest ein beweglich gelagertes Stellelement (32), welches die Kammer (24) und die weitere Kammer (30) zumindest teilweise begrenzt. 1 1. Sicherungsvorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Stellelement (32) dazu vorgesehen ist, in Abhängigkeit von einer Druckdifferenz der Innendrücke der Kammer (24) und der weiteren

Kammer (30) ein Innenvolumen (34) der Kammer (24) und/oder ein Innenvolumen (36) der weiteren Kammer (30) zu variieren. 12. Sicherungsvorrichtung zumindest nach Anspruch 5, gekennzeichnet

durch zumindest eine weitere zusätzliche Kammer (38), welche dazu vorgesehen ist, in zumindest einem Betriebszustand einen von dem Umgebungsdruck verschiedenen Innendruck aufzuweisen.

13. Sicherungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,

gekennzeichnet durch ein Linearlager (40), welches dazu vorgesehen ist, eine translatorische Bewegung der Formschlusseinheit (10) zu erlauben.

14. Sicherungsvorrichtung zumindest nach Anspruch 5, dadurch

gekennzeichnet, dass der Druckanschlusskanal (26) dazu vorgesehen ist, zumindest die Kammer (24) mit einer Vakuumspannvorrichtung (42) einer Be- und/oder Entladestation (44), welche zumindest zu einem Be- und/oder Entladen zumindest eines Wafers (46) in ein/aus einem Wafer- Transportbehältnis (16) vorgesehen ist, zu koppeln.

15. Sicherungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch zumindest ein Notsicherungs- und/oder

Notentsicherungselement (48), welches zu einer manuellen Notsicherung und/oder Notentsicherung der Sicherungsvorrichtung vorgesehen ist. 16. Sicherungsvorrichtung zumindest nach den Ansprüchen 9 und 15,

dadurch gekennzeichnet, dass das Notsicherungs- und/oder

Notentsicherungselement (48) zumindest teilweise in der weiteren

Kammer (30) angeordnet ist.

17. Sicherungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,

gekennzeichnet durch zumindest einen Zustandssensor (50), welcher dazu vorgesehen ist einen Sicherungszustand der Sicherungsvorrichtung zu sensieren.

18. Wafer-T ransportbehältnis (16) mit zumindest einer Sicherungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, welche dazu vorgesehen ist, in einem Sicherungsfall ein vollständiges Ablösen des Wafer-

Transportbehältnis-Öffnungselements (14) von einem Grundkörper (52) des Wafer-Transportbehältnisses (16) zu verhindern.

19. Wafer-Transportbehältnis (16) nach Anspruch 18, dadurch

gekennzeichnet, dass die zumindest eine Sicherungsvorrichtung einstückig mit dem Grundkörper (52) des Wafer-Transportbehältnisses

(16) ausgebildet ist.

20. Wafer-Transportbehältnis (16) nach Anspruch 18 oder 19, dadurch gekennzeichnet, dass das Wafer-Transportbehältnis (16) zumindest eine Formschlussausnehmung (18) aufweist, wobei die

Formschlussausnehmung (18) einen weiteren Druckanschlusskanal (54) ausbildet, welcher zu einer Evakuierung einer zusätzlichen weiteren Kammer (38) der Sicherungsvorrichtung vorgesehen ist.

21. Sicherungssystem (56), insbesondere Vakuumsicherungssystem, mit zumindest einer Sicherungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 17, mit einem Wafer-T ransportbehältnis (16) nach einem der Ansprüche 18 bis 20 und mit einer Be- und/oder Entladestation (44), welche zumindest zu einem Be- und/oder Entladen von Wafern (46) in das/aus dem Wafer-Transportbehältnis (16) vorgesehen ist.

22. Sicherungssystem (56) nach Anspruch 21 , gekennzeichnet durch eine Vakuumpumpeneinheit (58), welche zumindest zu einem Vakuumspannen des Wafer-Transportbehältnisses (16) auf der Be- und/oder Entladestation (44) in einer Be- und/oder Entladeposition und zu einer Variation eines Innendrucks in einer Kammer (24) vorgesehen ist.

23. Verfahren mit einer Sicherungsvorrichtung, insbesondere nach einem der Ansprüche 1 bis 17, mit einem Wafer-Transportbehältnis (16) nach einem der Ansprüche 18 bis 20 und/oder mit einem Sicherungssystem (56) nach einem der Ansprüche 21 oder 22, mit zumindest einer Formschlusseinheit (10), wobei mittels der Formschlusseinheit (10) ein durch einen

Verschließmechanismus (12) in seiner Verschließposition gehaltenes Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement (14) des Wafer- Transportbehältnisses (16) gesichert wird.

24. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, dass eine Sicherung der Formschlusseinheit (10) mittels einer Variation eines Innendrucks in einer Kammer (24) der Sicherungsvorrichtung erzeugt wird. 25. Verfahren nach Anspruch 23 oder 24, dadurch gekennzeichnet, dass das Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement (14) in einem fehlerfreien Normalbetrieb des Verschließmechanismus (12) berührungslos durch die Formschlusseinheit (10) gesichert wird, wobei bei einer Fehlfunktion des Verschließmechanismus (12) ein Berührungskontakt der

Formschlusseinheit (10), insbesondere eines Formschlusspasselements

(20) der Formschlusseinheit (10), mit dem Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselement (14) hergestellt wird, um eine Halterung des Wafer- Transportbehältnis-Öffnungselements (14) in einem Nahbereich der Verschließposition herzustellen.

Description:
Sicherungsvorrichtung, Wafer-Transportbehältnis mit zumindest einer Sicherungsvorrichtung, Sicherungssystem und Verfahren mit der Sicherungsvorrichtung

Stand der Technik

Die Erfindung betrifft eine Sicherungsvorrichtung nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1 , ein Wafer-Transportbehältnis mit zumindest einer

Sicherungsvorrichtung nach dem Anspruch 18, ein Sicherungssystem nach dem Anspruch 21 und ein Verfahren mit der Sicherungsvorrichtung nach dem Anspruch 23.

Aus dem Stand der Technik sind Sicherungsvorrichtungen bekannt.

Die Aufgabe der Erfindung besteht insbesondere darin, eine gattungsgemäße Vorrichtung mit vorteilhaften Sicherungseigenschaften bereitzustellen. Die

Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale der Ansprüche 1 , 18, 21 und 23 gelöst, während vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der

Erfindung den Unteransprüchen entnommen werden können.

Vorteile der Erfindung

Es wird eine Sicherungsvorrichtung, insbesondere Wafer-Transportbehältnis- Sicherungsvorrichtung, mit zumindest einer Formschlusseinheit, welche zumindest zu einer Sicherung eines durch einen Verschließmechanismus in seiner

Verschließposition gehaltenen Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselements eines Wafer-Transportbehältnisses vorgesehen ist, vorgeschlagen. Durch die erfindungsgemäße Ausgestaltung der Sicherungsvorrichtung können insbesondere vorteilhafte Sicherungseigenschaften, insbesondere hinsichtlich eines Fail-Safe-Verhaltens, erreicht werden. Dadurch kann vorteilhaft eine hohe Ausfall-, Funktions- und/oder Betriebssicherheit, insbesondere des Wafer- Transportbehältnisses, erreicht werden. Vorteilhaft kann eine unbeabsichtigte Öffnung des Wafer-Transportbehältnisses und somit insbesondere eine

Beschädigung eines Inhalts des Wafer-Transportbehältnisses, beispielsweise durch ein Herausfallen, insbesondere bei einer Fehlfunktion des

Verschließmechanismus des Wafer-Transportbehältnisses, vermieden werden. Zudem kann dadurch vorteilhaft eine Beschädigung des Wafer- Transportbehältnisses, insbesondere des Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselements und/oder eines externen Elements, welches durch die herunterfallenden Teile getroffen werden könnte, vermieden werden. Außerdem kann vorteilhaft ein Ausmaß, in dem ein Inhalt des Wafer-Transportbehältnisses einer das Wafer-Transportbehältnis umgebenden Atmosphäre ausgesetzt ist, verringert werden, wodurch insbesondere ein Eindringen von in der umgebenden Atmosphäre enthaltenen Partikel in ein Inneres des Wafer-Transportbehältnisses zumindest teilweise unterbunden werden kann. Vorteilhaft können Kosten, welche durch eine Beschädigung des Inhalts des Wafer-Transportbehältnisses, des Wafer-Transportbehältnisses selbst und/oder von externen Elementen entstehen könnten, vermieden werden. Insbesondere innerhalb einer hochautomatisierten Wafer-Fabrikationsumgebung können lose umherliegende und/oder unkontrolliert herausfallende Teile durch Beschädigung und/oder Blockade von Maschinen und/oder Transportwegen Produktionsunterbrechungen und damit hohe Kosten verursachen, welche durch eine entsprechende Sicherung mittels der

Sicherungsvorrichtung vorteilhaft vermieden werden können.

Unter einer„Sicherungsvorrichtung“ soll insbesondere eine Vorrichtung verstanden werden, welche dazu vorgesehen ist, zumindest einen

Verschließmechanismus zu sichern, wobei der Verschließmechanismus und die Sicherungsvorrichtung vorzugsweise voneinander getrennt ausgebildet sind. Insbesondere ist die Sicherungsvorrichtung dazu vorgesehen, ein bereits durch den Verschließmechanismus verschlossenes Wafer-Transportbehältnis gegen ein unvorhergesehenes und/oder unbeabsichtigtes Öffnen, insbesondere bei einer Fehlfunktion des Verschließmechanismus, zu sichern. Insbesondere greift die Sicherung der Sicherungsvorrichtung ausschließlich bei einem Ausfall,

insbesondere Totalausfall, des Verschließmechanismus. Insbesondere verwenden der Verschließmechanismus und die Sicherungsvorrichtung, insbesondere die Formschlusseinheit, unterschiedliche Funktionsweisen und/oder unterschiedliche physikalische Kräfte, wie Druckkräfte und/oder Reibungskräfte, zu einer Sicherung des Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselements in der Verschließposition.

Insbesondere bildet die Sicherungsvorrichtung, insbesondere die

Formschlusseinheit der Sicherungsvorrichtung, einen zu dem

Verschließmechanismus redundanten Verschließmechanismus aus. Insbesondere bildet die Sicherungsvorrichtung, insbesondere die Formschlusseinheit der Sicherungsvorrichtung, zumindest teilweise eine diversitäre Redundanz zu dem Verschließmechanismus aus. Insbesondere ist die Sicherungsvorrichtung, insbesondere die Formschlusseinheit der Sicherungsvorrichtung, dazu

vorgesehen, den Verschließmechanismus mittels einer passiven Redundanz und/oder einer Standby-Redundanz zu sichern. Alternativ kann die

Sicherungsvorrichtung, insbesondere die Formschlusseinheit der

Sicherungsvorrichtung, auch zumindest teilweise eine homogene Redundanz zu dem Verschließmechanismus ausbilden. Unter„vorgesehen“ soll insbesondere speziell programmiert, ausgelegt und/oder ausgestattet verstanden werden.

Darunter, dass ein Objekt zu einer bestimmten Funktion vorgesehen ist, soll insbesondere verstanden werden, dass das Objekt diese bestimmte Funktion in zumindest einem Anwendungs- und/oder Betriebszustand erfüllt und/oder ausführt.

Unter einem„Wafer-Transportbehältnis“ soll insbesondere ein Transportbehältnis mit einem verschließbaren Innenraum verstanden werden, wobei der Innenraum dazu vorgesehen ist, zumindest einen Wafer aufzunehmen. Insbesondere ist das Wafer-Transportbehältnis zumindest zu einem Transport von Wafern mit zumindest einem Durchmesser von 200 mm, vorzugsweise zumindest 300 mm und bevorzugt zumindest 450 mm vorgesehen. Insbesondere ist das Wafer- Transportbehältnis zumindest zu einem Transport von zumindest einem Wafer, vorzugsweise zumindest drei Wafern, vorteilhaft zumindest fünf Wafern, besonders vorteilhaft zumindest zehn Wafern, bevorzugt zumindest 25 Wafern und besonders bevorzugt höchstens hundert Wafern vorgesehen. Insbesondere ist das Wafer-Transportbehältnis tragbar ausgebildet. Insbesondere ist das Wafer- Transportbehältnis vakuumdicht verschließbar ausgebildet. Vorzugsweise ist das Wafer-Transportbehältnis ein Vakuum-Wafer-Transportbehältnis, welches insbesondere dazu vorgesehen ist, in seinem Inneren eine Vakuumatmosphäre bereitzustellen und/oder zu halten. Insbesondere ist das Wafer-Transportbehältnis dazu vorgesehen, Wafer in der Vakuumatmosphäre zu lagern. Unter einer „Vakuumatmosphäre“ soll insbesondere eine Atmosphäre verstanden werden, deren Druck unterhalb von 300 hPa, vorzugsweise unterhalb von 1 hPa, bevorzugt unterhalb von 10 3 hPa und besonders bevorzugt unterhalb von 10 6 hPa liegt. Insbesondere weist das Wafer-Transportbehältnis unter der Vakuumatmosphäre eine hohe Dichtigkeit auf, wobei insbesondere eine Leckrate des Wafer- Transportbehältnisses kleiner als 1 CT 4 mbar*l/s, vorzugsweise kleiner als

1 CT 5 mbar*l/s, vorteilhaft kleiner als 1 CT 6 mbar*l/s, besonders vorteilhaft kleiner als 1 CT 7 mbar*l/s, bevorzugt kleiner als 1 CT 8 mbar*l/s und besonders bevorzugt kleiner als 10 9 mbar*l/s ist. Alternativ kann das Wafer-Transportbehältnis dazu

vorgesehen sein, Wafer in einer Standardatmosphäre und/oder in einer speziell zusammengestellten Atmosphäre, beispielsweise einer Stickstoffatmosphäre zu lagern und/oder zu halten. Der Verschließmechanismus ist insbesondere als ein Vakuum-Verschließmechanismus ausgebildet. Insbesondere wird das Wafer- Transportbehältnis-Öffnungselement in einem ordnungsgemäß verschlossenen Zustand von atmosphärischen Druckkräften in der Verschließposition gehalten. In dem ordnungsgemäß verschlossenen Zustand ist der Druck im Inneren des Wafer-Transportbehältnisses kleiner als außerhalb des Wafer- Transportbehältnisses, wodurch insbesondere die das Wafer-Transportbehältnis verschließenden Schließkräfte abhängig sind von einem Differenzdruck zwischen dem Inneren des Wafer-Transportbehältnisses und der äußeren Atmosphäre. Alternativ kann der Verschließmechanismus auch als ein mechanischer

Verschließmechanismus und/oder ein magnetischer Verschließmechanismus ausgebildet sein. Unter einer„Verschließposition“ soll insbesondere ein

Positionsbereich, insbesondere eine Position, des Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselements verstanden werden, in welcher das Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselement ein Inneres des Wafer-Transportbehältnisses zumindest im Wesentlichen, vorzugsweise vollständig, insbesondere durch eine Positionierung des Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselements in einem Nahbereich einer Öffnung eines Grundkörpers der Wafer-Transportbehältnisses und/oder durch ein direktes Anliegen des Wafer-Transportbehältnis-Öffungselements an der Öffnung des Grundkörpers, verschließt. Das Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement ist insbesondere als ein Deckel ausgebildet, welcher insbesondere vollständig von dem Grundkörper des Wafer-Transportbehältnisses trennbar und/oder abnehmbar ausgebildet ist. Alternativ kann das Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement als eine Klappe und/oder als ein Schiebeelement ausgebildet sein. Vorzugsweise bildet das Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement eine Bodenplatte des Wafer-Transportbehältnisses aus. Es ist vorstellbar, dass ein Wafer- Transportbehältnis mehr als ein Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement aufweist, wobei vorzugsweise alle Verschließmechanismen der Wafer- Transportbehältnis-Öffnungselemente mittels der Sicherungsvorrichtung gesichert sind.

Unter einer„Formschlusseinheit“ soll insbesondere eine Einheit verstanden werden, welche dazu vorgesehen ist, zu einer Sicherung mittels der

Sicherungsvorrichtung einen Formschluss auszubilden. Unter einem

„Formschluss“ soll insbesondere ein zumindest teilweiser geometrischer Eingriff zweier Bauteile, insbesondere zweier Bauteile der Formschlusseinheit,

vorzugsweise zu einer Kraftübertragung verstanden werden. Die

Formschlusseinheit ist insbesondere als eine Riegeleinheit ausgebildet, welche vorzugsweise zumindest ein Riegelelement und zumindest eine

Riegelausnehmung aufweist, wobei das Riegelelement insbesondere zu einer Ausbildung und/oder Vorbereitung eines Formschlusses in die Riegelausnehmung eingreifen kann. Unter einer„Vorbereitung eines Formschlusses“ soll

insbesondere verstanden werden, dass das Riegelelement sich innerhalb einer durch die Riegelausnehmung gebildeten Vertiefung befindet, ohne dabei eine Wandung der Riegelausnehmung zu berühren. Unter einer„Ausbildung eines Formschlusses“ soll insbesondere verstanden werden, dass das Riegelelement sich innerhalb einer durch die Riegelausnehmung gebildeten Vertiefung befindet und die Wandung der Riegelausnehmung kontaktierend berührt. Insbesondere bildet die Formschlusseinheit eine Notverriegelung des Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselements aus, welche insbesondere dazu vorgesehen ist das Wafer- Transportbehältnis-Öffnungselement bei einem Ausfall des

Verschließmechanismus in der Verschließposition zu halten.

Ferner wird vorgeschlagen, dass die Formschlusseinheit zumindest eine

Formschlussausnehmung und zumindest ein Formschlusspasselement aufweist, wobei die Formschlussausnehmung und das Formschlusspasselement dazu vorgesehen sind, bei einer ordnungsgemäßen Sicherung, insbesondere in einem gesicherten Zustand der Sicherungsvorrichtung und in einem entsicherten

Zustand der Sicherungsvorrichtung, berührungslos miteinander zu koppeln.

Dadurch können insbesondere vorteilhafte Sicherungseigenschaften erreicht werden, welche insbesondere zu einer hohen Ausfall-, Funktions- und/oder Betriebssicherheit des Wafer-Transportbehältnisses führen können, bei einer gleichzeitigen, vorteilhaften Vermeidung einer Generation von Partikeln, beispielsweise durch Reibung. Insbesondere in einer Reinraumumgebung und/oder in einer Vakuumumgebung ist eine Minimierung einer Partikelanzahl von großem Vorteil, da dadurch vorteilhaft Beschädigungen an empfindlichen

Werkstücken, beispielsweise Wafern, und/oder Undichtigkeiten von Dichtungen, beispielsweise Vakuumdichtungen, vermieden werden können. Vorteilhaft kommt es ausschließlich in einem Sicherungsfall, in dem der Verschließmechanismus versagt und die Sicherungsvorrichtung greift, zu einem Kontaktieren der

Formschlussausnehmung mit dem Formschlusspasselement und somit zu einer möglichen Partikelgeneration.

Die Formschlussausnehmung bildet insbesondere die Riegelausnehmung, eine Riegelöffnung und/oder einen Riegeleingriff aus. Das Formschlusspasselement bildet insbesondere einen Vorsprung aus, welcher dazu vorgesehen ist, zu einer Sicherung in die Formschlussausnehmung einzugreifen. Insbesondere bildet das Formschlusspasselement das Riegelelement aus. Das Formschlusspasselement ist insbesondere relativ zu der Formschlussausnehmung beweglich ausgebildet, insbesondere zu einer Herstellung und/oder Auflösung des Formschlusses.

Alternativ kann die Formschlussausnehmung relativ zu dem

Formschlusspasselement beweglich ausgebildet sein, insbesondere zu einer Herstellung und/oder Auflösung des Formschlusses. Unter einer

„ordnungsgemäßen Sicherung“ soll insbesondere eine stabile und/oder vakuumdichte Sicherung des Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselements durch den Verschließmechanismus, insbesondere während einer Lager- und/oder Transportphase, verstanden werden. Unter einer„ordnungsgemäßen

Entsicherung“ soll insbesondere eine geordnete und nach vorgesehenem Muster ablaufende Ablösung des Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselements von dem Grundkörper des Wafer-Transportbehältnisses verstanden werden. Die ordnungsgemäße Entsicherung findet vorzugsweise in einem mit einer Be- und/oder Entladestation gekoppelten Zustand des Wafer-Transportbehältnisses statt. Darunter, dass die Formschlussausnehmung und das

Formschlusspasselement„berührungslos miteinander koppeln“ soll insbesondere verstanden werden, dass die Formschlussausnehmung und das

Formschlusspasselement bei einer Herstellung einer Sicherung durch die

Formschlusseinheit und/oder bei einem Aufrechterhalten der Sicherung durch die Formschlusseinheit frei sind von gegenseitigen Berührungspunkten.

Wenn die Sicherungsvorrichtung zumindest teilweise einstückig mit dem Wafer- Transportbehältnis, insbesondere dem Grundkörper des Wafer- Transportbehältnisses, ausgebildet ist, kann vorteilhaft eine hoher Grad an Sicherheit erreicht werden, insbesondere da ein Verlust der Sicherungsvorrichtung und/oder ein Vergessen einer Installation der Sicherungsvorrichtung vorteilhaft vermieden werden kann. Unter„einstückig“ soll insbesondere zumindest stoff schlüssig verbunden verstanden werden, beispielsweise durch einen

Schweißprozess, einen Klebeprozess, einen Anspritzprozess und/oder einen anderen, dem Fachmann als sinnvoll erscheinenden Prozess, und/oder vorteilhaft in einem Stück geformt verstanden werden, wie beispielsweise durch eine

Herstellung aus einem Guss und/oder durch eine Herstellung in einem Ein- oder Mehrkomponentenspritzverfahren und vorteilhaft aus einem einzelnen Rohling.

Zudem wird vorgeschlagen, dass die Sicherungsvorrichtung zumindest ein Rückstellelement aufweist, welches dazu vorgesehen ist, die Formschlusseinheit, insbesondere das Formschlusspasselement, zumindest teilweise in eine

Sicherungsposition rückauszulenken und/oder die Formschlusseinheit,

insbesondere das Formschlusspasselement, in der Sicherungsposition zu halten. Dadurch kann vorteilhaft ein hoher Grad an Sicherheit der Sicherungsvorrichtung, insbesondere bezüglich einer Fail-Safe Funktion, erreicht werden. Insbesondere ist dadurch vorteilhaft ein gesicherter Zustand als Grundzustand ausgebildet. Zudem erfolgt dadurch vorteilhaft ein automatisches Einstellen einer

Sicherungsposition im Anschluss an eine Entsicherung, bzw. nach Ende einer aktiven Entsicherung. Das Rückstellelement ist vorzugsweise als ein elastisch verformbares Element, beispielsweise eine Feder, ausgebildet, wobei

insbesondere die Feder insbesondere als eine Biegefeder, als eine Druckfeder, als eine Tellerfeder, als eine Torsionsfeder, als eine Luftfeder und/oder als eine Gasdruckfeder ausgebildet sein kann. Alternativ oder zusätzlich kann das

Rückstellelement auch ein von einer Feder verschiedenes rückstellendes Element umfassen, beispielsweise sich abstoßende Magnete und/oder ein Element aus einem elastisch verformbaren Material, wie beispielsweise Gummi. Außerdem könnte das Rückstellelement, das Formschlusspasselement und/oder die

Formschlussausnehmung alternativ auch mittels eines Stellmotors bewegbar, steuerbar und/oder regelbar sein. Die„Sicherungsposition“ ist insbesondere als eine Position der Formschlusseinheit, insbesondere des

Formschlusspasselements ausgebildet, in welcher der Verschließmechanismus gesichert ist und/oder in der das Formschlusspasselement, insbesondere berührungslos, in die Formschlussausnehmung eingreift.

Des Weiteren wird vorgeschlagen, dass die Sicherungsvorrichtung zumindest eine, insbesondere gasdicht von einer Umgebung isolierbare, Kammer aufweist, welche einen Druckanschlusskanal aufweist, der dazu vorgesehen ist, eine Variation eines Innendrucks in der Kammer relativ zu einem Referenzdruck zu erlauben, wobei ein aus dem Innendruck der Kammer und dem Referenzdruck gebildeter Differenzdruck dazu vorgesehen ist, einen Sicherungszustand der Formschlusseinheit zu beeinflussen. Dadurch können insbesondere vorteilhafte Sicherungseigenschaften erreicht werden. Zudem kann insbesondere eine besonders vorteilhafte Stellmethode für die Formschlusseinheit geschaffen werden, welche insbesondere frei ist von mechanischen Antriebsteilen, wodurch vorteilhaft eine Komplexität reduziert werden kann. Weiterhin kann vorteilhaft ein bereits vorhandenes Vakuumsystem zu einer Bedienung der Formschlusseinheit verwendet werden, wodurch vorteilhaft eine Komplexität reduziert werden kann. Eine„Kammer“ ist insbesondere als ein zumindest zu einem Großteil

abgeschlossener Hohlraum in einem Bauteil, insbesondere in der

Sicherungsvorrichtung, ausgebildet. Unter„zu einem Großteil“ soll insbesondere zumindest zu 51 %, vorzugsweise zumindest zu 66 %, vorteilhaft zumindest zu 75 %, bevorzugt zumindest zu 85 % und besonders bevorzugt zumindest zu 95 % verstanden werden. Insbesondere ist die Kammer, insbesondere mit Ausnahme des Druckanschlusskanals, vakuumdicht ausgebildet. Insbesondere ist die Kammer dazu vorgesehen, in zumindest einem Betriebszustand der

Sicherungsvorrichtung vakuumiert zu werden. Der Druckanschlusskanal ist zumindest als eine Verbindung eines Inneren der Kammer mit einer Umgebung und/oder Atmosphäre außerhalb der Kammer vorgesehen. Der

Druckanschlusskanal ist insbesondere als eine Bohrung in einer Wand der Kammer, als ein Durchbruch durch eine Wand der Kammer, als eine Öffnung der Kammer, als eine Leitung, als ein Schlauch und/oder als eine weitere einen Kanal ausbildende Verbindung zwischen Innerem und Äußerem der Kammer

ausgebildet. Vorzugsweise ist der Druckanschlusskanal in Richtung eines

Anschlusselements einer Vakuumpumpeneinheit, insbesondere vertikal nach unten zeigend, ausgerichtet. Der Druckanschlusskanal ist dazu vorgesehen, bei einer Kopplung der Sicherungsvorrichtung mit einer Vakuumpumpeneinheit, insbesondere bei einer Kopplung des Wafer-Transportbehältnisses mit der Be- und/oder Entladestation, vakuumdicht mit einem Ansaugelement der

Vakuumpumpeneinheit gekoppelt zu werden. Vorzugsweise erfolgt die Kopplung von Druckanschlusskanal und Ansaugelement zeitgleich und/oder automatisch mit einer Kopplung von Wafer-Transportbehältnis und Be- und/oder Entladestation. Insbesondere ist das Ansaugelement einstückig mit einer

Vakuumspannvorrichtung der Be- und/oder Entladestation, welche zu einem Verspannen des Wafer-Transportbehältnisses mit der Be- und/oder Entladestation mittels Unterdrück vorgesehen ist, ausgebildet. Vorzugsweise ist das

Ansaugelement als eine Öffnung eines Kanals der Vakuumspannvorrichtung ausgebildet. Insbesondere ist der Druckanschlusskanal frei von, insbesondere separaten, Kuppelelementen zu einer Kupplung mit der Vakuumpumpeneinheit. Insbesondere erfolgt eine Kupplung des Druckanschlusskanals mit dem

Ansaugelement durch einen direkten Kontakt einer Öffnung des

Druckanschlusskanals und einer Öffnung des Ansaugelements. Durch einen Verzicht auf separate Kuppelelemente kann vorteilhaft eine Komplexität reduziert werden. Unter einer„Variation eines Innendrucks der Kammer“ soll insbesondere eine Absenkung und/oder eine Anhebung des Innendrucks in der Kammer um zumindest 80 % verstanden werden. Unter einem„Referenzdruck“ soll

insbesondere ein Umgebungsdruck, vorzugsweise ein Standard- Atmosphärendruck, beispielsweise von 1013,25 hPa und bevorzugt ein Reinraum- Atmosphärendruck, beispielsweise von 1013,35 hPa, verstanden werden. Ein Sicherungszustand ist insbesondere als ein gesicherter Zustand der

Sicherungsvorrichtung und/oder als ein entsicherter Zustand der Sicherungsvorrichtung, insbesondere der Formschlusseinheit, ausgebildet.

Darunter, dass ein„Sicherungszustand von dem Differenzdruck beeinflusst“ wird, soll insbesondere verstanden werden, dass sich in Abhängigkeit von dem

Differenzdruck der gesicherte Zustand der Sicherungsvorrichtung und/oder der entsicherte Zustand der Sicherungsvorrichtung einstellt, wobei insbesondere bei einem großen, vorzugsweise 80 % des Referenzdrucks übersteigenden,

Differenzdruck sich der entsicherte Zustand, insbesondere automatisch, einstellt und/oder bei einem kleinen, insbesondere unterhalb 80 % des Referenzdrucks liegenden, Differenzdruck sich der gesicherte Zustand, insbesondere automatisch, einstellt.

Wenn das zumindest eine Rückstellelement zumindest zu einem Großteil innerhalb der Kammer angeordnet ist, kann vorteilhaft eine kompakte Bauweise ermöglicht werden. Unter„zu einem Großteil innerhalb“ soll insbesondere zumindest 51 % innerhalb, bevorzugt zumindest zu 66 % innerhalb, vorteilhaft zumindest zu 75 % innerhalb, besonders vorteilhaft zumindest zu 85 % innerhalb, bevorzugt zumindest zu 95 % innerhalb und besonders bevorzugt zu 100 % innerhalb verstanden werden.

Außerdem wird vorgeschlagen, dass die Formschlusseinheit zumindest ein beweglich gelagertes Formschlusspasselement aufweist, wobei eine Position des Formschlusspasselements relativ zu zumindest einer Kammerwand der Kammer, insbesondere einer Kammerwand an welcher das Rückstellelement abgestützt ist, abhängig ist von dem Differenzdruck. Dadurch kann vorteilhaft eine Betätigung der Formschlusseinheit, insbesondere zu einer Sicherung des

Verschließmechanismus, erreicht werden, welche frei ist von mechanischen Betätigungselementen. Dadurch kann vorteilhaft eine Partikelgeneration gering gehalten werden. Alternativ kann auch die Formschlussausnehmung abhängig von dem Differenzdruck bewegbar gelagert sein. Insbesondere umfasst die

Position zumindest zwei stabile Positionen, wobei in einer ersten stabilen Position das Formschlusspasselement zumindest teilweise und/oder berührungslos in die Formschlussausnehmung eingreift und in einer zweiten stabilen Position das Formschlusspasselement frei ist von einem Eingriff in die

Formschlussausnehmung. Eine Bewegung zwischen der ersten stabilen Position und der zweiten stabilen Position erfolgt insbesondere kontinuierlich und/oder frei von stabilen Zwischenpositionen.

Wenn die Formschlusseinheit, insbesondere das Formschlusspasselement, dazu vorgesehen ist, eine entsicherte Position einzunehmen, wenn der Differenzdruck oberhalb eines Grenzdifferenzdrucks liegt, kann vorteilhaft erreicht werden, dass ein sich insbesondere selbsttätig einstellender Normalzustand der

Formschlusseinheit, welcher vorliegt, wenn der Druckanschlusskanal offen zu der Umgebung ist, als ein gesicherter Zustand der Sicherungsvorrichtung ausgebildet ist. Dadurch kann vorteilhaft eine hohe Sicherheit ermöglicht werden,

insbesondere während sich die Sicherungsvorrichtung, insbesondere das Wafer- Transportbehältnis, in einem Lager- und/oder Transportzustand befindet. Der „Grenzdifferenzdruck“ ist insbesondere als ein Differenzdruck ausgebildet bei welchem die auf das Formschlusspasselement durch die Druckdifferenz aus dem Innendruck in der Kammer und dem Referenzdruck wirkende Druckkraft zumindest im Wesentlichen gleich groß ist wie eine Rückstellkraft, insbesondere eine Federkraft, des Rückstellelements. Insbesondere ist der Grenzdifferenzdruck zumindest größer als 80 %, vorzugsweise zumindest größer als 90 %, bevorzugt zumindest größer als 95 % und besonders bevorzugt zumindest größer als 99 % des Umgebungsdrucks, vorzugsweise des Standard-Atmosphärendrucks von 1013,25 hPa und bevorzugt des Reinraum-Atmosphärendrucks von 1013,35 hPa.

Zusätzlich wird vorgeschlagen, dass die Sicherungsvorrichtung zumindest eine weitere Kammer aufweist, welche in einem gesicherten Zustand der

Sicherungsvorrichtung und in einem entsicherten Zustand der

Sicherungsvorrichtung einen mit dem Umgebungsdruck identischen Innendruck aufweist. Dadurch kann vorteilhaft eine interne Druckdifferenz innerhalb der Sicherungsvorrichtung erzeugt werden. Zudem kann vorteilhaft das zu

vakuumierende Volumen der Kammer gering gehalten werden, wodurch vorteilhaft eine hohe Stellgeschwindigkeit zu einem Sichern und/oder Entsichern der Formschlusseinheit erreicht werden kann. Insbesondere weisen die Kammer und die weitere Kammer zumindest eine gemeinsame Kammerwand auf, welche vorzugsweise vakuumdicht und/oder bewegbar ausgebildet ist. Insbesondere sind/ist das Innenvolumen der Kammer und/oder der weiteren Kammer, insbesondere abhängig von einer Position der bewegbaren Kammerwand zwischen der Kammer und der weiteren Kammer, variabel. Die weitere Kammer ist insbesondere dauerhaft zu der Umgebung offen. Der Innendruck in der weiteren Kammer entspricht insbesondere dem Referenzdruck.

Ferner wird vorgeschlagen, dass die Sicherungsvorrichtung zumindest ein beweglich gelagertes Stellelement aufweist, welches die Kammer und die weitere Kammer zumindest teilweise begrenzt. Dadurch kann vorteilhaft eine von den jeweiligen Innendrücken der Kammer und der weiteren Kammer abhängige Bewegung erzeugt werden, insbesondere unabhängig von elektrischen und/oder mechanischen Antriebselementen. Das Stellelement bildet insbesondere die gemeinsame Kammerwand der Kammer und der weiteren Kammer aus. Das Stellelement ist insbesondere gasdicht beweglich gelagert. Das Stellelement ist insbesondere als ein gasdicht abgedichteter, translatorisch beweglicher Kolben ausgebildet. Die Position des Stellelements innerhalb der Sicherungsvorrichtung und damit die Volumina der Kammer und der weiteren Kammer sind abhängig von dem Differenzdruck zwischen der Kammer und der weiteren Kammer.

Wenn das Stellelement dazu vorgesehen ist, in Abhängigkeit von einer

Druckdifferenz der Innendrücke der Kammer und der weiteren Kammer ein Innenvolumen der Kammer und/oder ein Innenvolumen der weiteren Kammer zu variieren, kann vorteilhaft ein bereits vorhandenes Vakuumsystem zu einer

Bedienung der Formschlusseinheit verwendet werden, wodurch vorteilhaft eine Komplexität reduziert werden kann.

Außerdem wird vorgeschlagen, dass die Sicherungsvorrichtung zumindest eine weitere zusätzliche Kammer aufweist, welche dazu vorgesehen ist, in zumindest einem Betriebszustand, insbesondere in einem entsicherten Zustand der

Sicherungsvorrichtung, einen von dem Umgebungsdruck, insbesondere dem Referenzdruck, verschiedenen Innendruck aufzuweisen. Dadurch kann vorteilhaft eine Druckverteilung innerhalb der Sicherungsvorrichtung optimiert werden.

Wenn die Sicherungsvorrichtung ein Linearlager aufweist, welches dazu vorgesehen ist, eine translatorische Bewegung der Formschlusseinheit, insbesondere des Formschlusspasselements und/oder der

Formschlussausnehmung, zu erlauben, kann vorteilhaft eine hohe Beweglichkeit zumindest eines Teils der Formschlusseinheit ermöglicht werden. Zudem kann mittels eines Linearlagers eine Partikelgeneration gering gehalten werden. Das Linearlager ist insbesondere als ein Gleitlager und/oder als ein Kugellager ausgebildet. Zudem ist vorstellbar, dass das Linearlager zumindest teilweise einstückig mit der Formschlusseinheit, insbesondere zumindest mit einem das Formschlusspasselement führenden Führungselement, insbesondere einer Lagerstange, ausgebildet ist.

Wenn zudem der Druckanschlusskanal dazu vorgesehen ist, zumindest die Kammer, insbesondere gasdicht, schlauchfrei und/oder frei von separaten

Kupplungselementen, mit einer Vakuumspannvorrichtung einer Be- und/oder Entladestation, welche zumindest zu einem Be- und/oder Entladen von zumindest einem Wafer in ein/aus einem Wafer-Transportbehältnis vorgesehen ist, zu koppeln, kann vorteilhaft ein bereits vorhandenes Vakuumsystem zu einer Bedienung der Formschlusseinheit verwendet werden, wodurch vorteilhaft eine Komplexität reduziert werden kann.

Weiterhin wird vorgeschlagen, dass die Sicherungsvorrichtung zumindest ein, insbesondere ein Kurvengetriebe ausbildendes, Notsicherungs- und/oder

Notentsicherungselement aufweist, welches zu einer manuellen Notsicherung und/oder Notentsicherung der Sicherungsvorrichtung, insbesondere der

Formschlusseinheit, vorgesehen ist. Dadurch kann vorteilhaft eine manuelle Bedienung der Sicherungsvorrichtung ermöglicht werden, wodurch vorteilhaft ein einfacher Bedienereingriff, beispielsweise in einer Notfallsituation, ermöglicht wird.

Wenn das Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselement zumindest teilweise in der weiteren Kammer angeordnet ist, kann vorteilhaft eine kompakte Bauweise ermöglicht werden. Insbesondere ist das Notsicherungs- und/oder

Notentsicherungselement nicht vollständig aus der weiteren Kammer entnehmbar. Insbesondere wird das Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselement bei einer Notentsicherung zumindest teilweise aus der weiteren Kammer

herausbewegt. Insbesondere ist das Notsicherungs- und/oder

Notentsicherungselement von außerhalb der Sicherungsvorrichtung einsehbar. Insbesondere ist einfach von außen erkennbar, wenn das Notsicherungs und/oder Notentsicherungselement zur Herstellung des manuell entsicherten Zustands betätigt wurde. Dadurch kann vorteilhaft eine versehentliche dauerhafte manuelle Entsicherung vermieden werden. Darunter, dass das Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselement zumindest„teilweise in der weiteren Kammer angeordnet ist“ soll insbesondere verstanden werden, dass zumindest 50 % des Volumens, vorzugsweise zumindest 65 % des Volumens, bevorzugt zumindest 75 % des Volumens und besonders bevorzugt höchstens 90% des Volumens des Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselements in einem Normalzustand, in welchem das Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselement insbesondere nicht zu einer manuellen Entsicherung der Sicherungsvorrichtung, insbesondere der Formschlusseinheit herausgezogen wurde, von Kammerwänden der weiteren Kammer umgeben ist und/oder, dass zumindest 35 % des Volumens,

vorzugsweise zumindest 50 % des Volumens, bevorzugt zumindest 65 % des Volumens und besonders bevorzugt höchstens 80% des Volumens des

Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselements in einem durch ein

Herausziehen des Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselements

entsicherten Zustand der Sicherungsvorrichtung, insbesondere der

Formschlusseinheit, von den Kammerwänden der weiteren Kammer umgeben ist. Außerdem wird vorgeschlagen, dass die Sicherungsvorrichtung zumindest einen Zustandssensor aufweist, welcher dazu vorgesehen ist, einen Sicherungszustand, insbesondere eine Position eines Formschlusspasselements der

Formschlusseinheit, der Sicherungsvorrichtung zu sensieren. Dadurch kann vorteilhaft ein automatisiertes und/oder elektronisches Auslesen des

Sicherungszustands ermöglicht werden, wodurch insbesondere eine

Fernüberwachung ermöglicht werden kann. Zudem kann vorteilhaft eine hohe Betriebssicherheit erreicht werden, insbesondere indem beispielsweise eine automatisierte Überprüfung des Sicherungszustands der Sicherungsvorrichtung, insbesondere der Formschlusseinheit, vor einem Abnehmen und/oder Öffnen des Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselements durch die Be- und/oder

Entladestation ermöglicht werden kann. Dadurch kann eine Gefahr von durch eine Fehlfunktion der Sicherungsvorrichtung hervorgerufenen Beschädigungen verringert werden. Der Zustandssensor ist insbesondere als ein magnetischer Sensor ausgebildet. Alternativ oder zusätzlich kann der Zustandssensor zumindest einen optischen Sensor, beispielsweise eine Kamera und/oder eine Lichtschranke, und/oder einen Kontaktsensor umfassen.

Ferner wird ein Wafer-T ransportbehältnis mit zumindest einer

Sicherungsvorrichtung vorgeschlagen, welche dazu vorgesehen ist, in einem Sicherungsfall ein vollständiges Ablösen des Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselements von einem Grundkörper des Wafer-Transportbehältnisses, insbesondere bei einem Ausfall des Verschließmechanismus des Wafer- Transportbehältnisses, zu verhindern. Durch die erfindungsgemäße Ausgestaltung des Wafer-Transportbehältnisses können insbesondere vorteilhafte

Sicherungseigenschaften, insbesondere hinsichtlich eines Fail-Safe-Verhaltens, erreicht werden. Dadurch können vorteilhaft eine hohe Ausfall-, Funktions und/oder Betriebssicherheit, insbesondere des Wafer-Transportbehältnisses, erreicht werden. Es ist vorstellbar, dass die Sicherungsvorrichtung ein partielles Ablösen des Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselements und/oder eine

Verringerung einer Andruckkraft mit welcher das Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselement an den Grundkörper des Wafer-Transportbehältnisses angepresst ist, gestattet. Insbesondere kann die Sicherungsvorrichtung des Wafer-Transportbehältnisses eine Mehrzahl an separat ausgebildeten

Sicherungsmodulen mit jeweils zumindest einer den Verschließmechanismus des Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselements sichernden Formschlusseinheit umfassen. Insbesondere sind die separat ausgebildeten Sicherungsmodule der Sicherungsvorrichtung, vorzugsweise in gleichmäßigen Abständen, in

Umfangsrichtung um das Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement und/oder den Grundkörper des Wafer-Transportbehältnisses angeordnet. Der

Sicherungsfall tritt insbesondere ein, wenn der Verschließmechanismus das Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement, insbesondere in einem

Betriebszustand in dem das Wafer-Transportbehältnis frei ist von einer Kopplung mit der Be- und/oder Entladestation, nicht in der Verschließposition hält und/oder halten kann. Wenn die zumindest eine Sicherungsvorrichtung einstückig mit dem Grundkörper des Wafer-Transportbehältnisses ausgebildet ist, kann vorteilhaft eine einfache Konstruktion ermöglicht werden.

Zudem wird vorgeschlagen, dass das Wafer-Transportbehältnis, insbesondere zumindest das Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement, zumindest eine Formschlussausnehmung aufweist, wobei die Formschlussausnehmung einen weiteren Druckanschlusskanal ausbildet, welcher zu einer Evakuierung einer zusätzlichen weiteren Kammer der Sicherungsvorrichtung vorgesehen ist.

Dadurch kann vorteilhaft eine einfache Kopplung zumindest einer Kammer der Sicherungsvorrichtung, insbesondere der zusätzlichen weiteren Kammer der Sicherungsvorrichtung, mit dem Vakuumpumpensystem ermöglicht werden.

Des Weiteren wird ein Sicherungssystem, insbesondere

Vakuumsicherungssystem, mit zumindest einer Sicherungsvorrichtung, mit einem Wafer-Transportbehältnis und mit einer Be- und/oder Entladestation, welche zumindest zu einem Be- und/oder Entladen von Wafern in das/aus dem Wafer- Transportbehältnis vorgesehen ist, vorgeschlagen. Durch die erfindungsgemäße Ausgestaltung des Sicherungssystems können insbesondere vorteilhafte

Sicherungseigenschaften, insbesondere hinsichtlich eines Fail-Safe-Verhaltens, erreicht werden. Dadurch können vorteilhaft eine hohe Ausfall-, Funktions und/oder Betriebssicherheit, insbesondere des Wafer-Transportbehältnisses, erreicht werden.

Wenn das Sicherungssystem eine Vakuumpumpeneinheit aufweist, welche zumindest zu einem Vakuumspannen des Wafer-Transportbehältnisses auf der Be- und/oder Entladestation in einer Be- und/oder Entladeposition und zu einer Variation eines Innendrucks in einer Kammer vorgesehen ist, kann vorteilhaft eine Komplexität gering gehalten werden, insbesondere indem vorteilhaft lediglich ein Vakuumsystem erforderlich ist und nicht zwei separate Vakuumsysteme. Zudem kann vorteilhaft eine jeweilige Absaugrate zur Variation des Innendrucks in der Kammer und zum Vakuumspannen auf einfache Weise aufeinander abgestimmt werden. Dadurch kann beispielsweise vorteilhaft sichergestellt werden, dass die Sicherungsvorrichtung, insbesondere die Formschlusseinheit nur dann entsichert wird, wenn das Wafer-Transportbehältnis erfolgreich und/oder korrekt auf der Be- und/oder Entladestation mittels der Vakuumspannvorrichtung befestigt ist.

Insbesondere kommt eine Kopplung der Vakuumpumpeneinheit mit dem

Druckanschlusskanal der Kammer nur zustande, wenn das Wafer- Transportbehältnis erfolgreich und/oder korrekt auf der Be- und/oder

Entladestation befestigt ist. Insbesondere weist die Vakuumpumpeneinheit eine einzelne Pumpe auf, welche dazu vorgesehen ist, beide Aufgaben, insbesondere die Aufgabe des Vakuumspannens und die Aufgabe der Entsicherung der Sicherungsvorrichtung, insbesondere der Formschlusseinheit, zu erfüllen.

Alternativ kann die Vakuumpumpeneinheit eine Mehrzahl an Pumpen für unterschiedliche Aufgaben aufweisen.

Weiterhin wird ein Verfahren mit einer Sicherungsvorrichtung mit zumindest einer Formschlusseinheit vorgeschlagen, wobei mittels der Formschlusseinheit ein durch einen Verschließmechanismus in seiner Verschließposition gehaltenes Wafer-T ransportbehältnis-Öffnungselement des Wafer-T ransportbehältnisses gesichert wird. Durch die erfindungsgemäße Ausgestaltung des Verfahrens können insbesondere vorteilhafte Sicherungseigenschaften, insbesondere hinsichtlich eines Fail-Safe-Verhaltens, erreicht werden. Dadurch können vorteilhaft eine hohe Ausfall-, Funktions- und/oder Betriebssicherheit,

insbesondere des Wafer-Transportbehältnisses, erreicht werden.

Außerdem wird vorgeschlagen, dass eine Sicherung und/oder Entsicherung der Formschlusseinheit mittels einer Variation eines Innendrucks in einer Kammer der Sicherungsvorrichtung erzeugt wird. Dadurch kann vorteilhaft eine Komplexität gering gehalten werden, insbesondere indem auf separate mechanische und/oder elektrische Antriebseinheiten verzichtet werden kann.

Zudem wird vorgeschlagen, dass das Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement in einem fehlerfreien Normalbetrieb des Verschließmechanismus berührungslos durch die Formschlusseinheit gesichert wird, wobei bei einer Fehlfunktion des Verschließmechanismus ein Berührungskontakt der Formschlusseinheit, insbesondere eines Formschlusspasselements der Formschlusseinheit, mit dem Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement hergestellt wird, um eine Halterung des Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselements in einem Nahbereich der

Verschließposition herzustellen. Dadurch kann vorteilhaft eine Partikelgeneration in dem fehlerfreien Normalbetrieb vermieden werden, insbesondere indem

Oberflächenreibungen im fehlerfreien Normalbetrieb und bei einem Sichern und/oder Entsichern der Formschlusseinheit vermieden werden. Insbesondere löst sich bei einer Fehlfunktion des Verschließmechanismus das Wafer- Transportbehältnis-Öffnungselement von dem Grundkörper des Wafer- Transportbehältnisses. Dadurch wird das Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselement, beispielsweise durch die Schwerkraft, von der Öffnung des Wafer-Transportbehältnisses wegbewegt. Durch die Bewegung des Wafer- Transportbehältnis-Öffnungselements kommt es zu einem Berührungskontakt des Formschlusspasselements der Formschlusseinheit mit der

Formschlussausnehmung des Wafer-T ransportbehältnis-Öffnungselements, mittels welchem das Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement in einem

Nahbereich seiner ursprünglichen Position gehalten wird. Der Nahbereich ist insbesondere als ein Bereich ausgebildet, welcher das Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselement in der Verschließposition umfasst, wobei Abweichungen von der Verschließposition um höchstens 10 mm, vorzugsweise höchstens 5 mm, vorteilhaft höchstens 3 mm, bevorzugt höchstens 2 mm und besonders bevorzugt mindestens 0,5 mm in zumindest eine Richtung, vorzugsweise in eine Richtung senkrecht zu einer Haupterstreckungsebene des Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselements auftreten können. Unter einer„Haupterstreckungsebene“ einer Baueinheit soll insbesondere eine Ebene verstanden werden, welche parallel zu einer größten Seitenfläche eines kleinsten gedachten Quaders ist, welcher die Baueinheit gerade noch vollständig umschließt, und insbesondere durch den Mittelpunkt des Quaders verläuft.

Die erfindungsgemäße Sicherungsvorrichtung, das erfindungsgemäße Wafer- T ransportbehältnis, das erfindungsgemäße Sicherungssystem und das

erfindungsgemäße Verfahren sollen hierbei nicht auf die oben beschriebene Anwendung und Ausführungsform beschränkt sein. Insbesondere können die erfindungsgemäße Sicherungsvorrichtung, das erfindungsgemäße Wafer- Transportbehältnis, das erfindungsgemäße Sicherungssystem und das

erfindungsgemäße Verfahren zu einer Erfüllung einer hierin beschriebenen

Funktionsweise eine von einer hierin genannten Anzahl von einzelnen Elementen, Bauteilen und Einheiten, sowie Verfahrensschritten abweichende Anzahl aufweisen.

Zeichnungen Weitere Vorteile ergeben sich aus der folgenden Zeichnungsbeschreibung. In den Zeichnungen ist ein Ausführungsbeispiel der Erfindung dargestellt. Die

Zeichnungen, die Beschreibung und die Ansprüche enthalten zahlreiche Merkmale in Kombination. Der Fachmann wird die Merkmale zweckmäßigerweise auch einzeln betrachten und zu sinnvollen weiteren Kombinationen zusammenfassen. Es zeigen:

Fig. 1 eine schematische Ansicht eines erfindungsgemäßen

Sicherungssystems mit einer erfindungsgemäßen Sicherungsvorrichtung, einem Wafer-Transportbehältnis und einer Be- und/oder Entladestation,

Fig. 2 eine schematische Draufsicht auf das Sicherungssystem,

Fig. 3 eine Schnittansicht des Sicherungssystems mit der

Sicherungsvorrichtung in einem gesicherten Zustand,

Fig. 4 eine Schnittansicht des Sicherungssystems mit der

Sicherungsvorrichtung in einem entsicherten Zustand,

Fig. 5 eine Schnittansicht der Sicherungsvorrichtung in einem mittels eines Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselement der Sicherungsvorrichtung entsicherten Zustand und Fig. 6 ein Ablaufdiagramm eines erfindungsgemäßen Verfahrens.

Beschreibung des Ausführungsbeispiels

Fig. 1 zeigt ein Sicherungssystem 56 mit einer Sicherungsvorrichtung. Das Sicherungssystem 56 ist als ein Vakuumsicherungssystem ausgebildet. Die Sicherungsvorrichtung ist als eine Wafer-Transportbehältnis- Sicherungsvorrichtung ausgebildet. Die Sicherungsvorrichtung weist drei

Sicherungsmodule 60 auf (vgl. auch Fig. 2). Alternativ kann die

Sicherungsvorrichtung eine von drei abweichende Anzahl an Sicherungsmodulen 60 aufweisen. Das Sicherungssystem 56 weist ein Wafer-Transportbehältnis 16 auf. Das Wafer-Transportbehältnis 16 ist zu einer Lagerung und/oder zu einem T ransport von Wafern 46 vorgesehen. Das Wafer-T ransportbehältnis 16 ist dazu vorgesehen, Wafer 46 in einem Vakuum zu transportieren. Das Wafer- Transportbehältnis 16 ist vakuumdicht verschließbar ausgebildet. Das Wafer- Transportbehältnis 16 ist als ein Vakuum-Wafer-Transportbehältnis ausgebildet. Das Wafer-Transportbehältnis 16 weist einen Grundkörper 52 auf. Der

Grundkörper 52 umschließt ein Inneres des Wafer-T ransportbehältnisses 16 zu einem Großteil. Der Grundkörper 52 weist eine Öffnung 62 auf (vgl. Fig. 3). Die in dem Wafer-Transportbehältnis 16 eingelagerten Wafer 46 sind durch die Öffnung 62 aus dem Wafer-Transportbehältnis 16 entnehmbar und/oder in das Wafer- Transportbehältnis 16 einbringbar. Die Öffnung 62 weist einen Durchmesser auf, welcher größer ist als ein Durchmesser der Wafer 46. Das Wafer- Transportbehältnis 16 weist ein Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement 14 auf (vgl. Fig. 3). Das Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement 14 ist zu einem Verschließen der Öffnung 62 des Wafer-Transportbehältnisses 16 vorgesehen. Das Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement 14 ist von dem Grundkörper 52 abnehmbar ausgebildet. Die Sicherungsvorrichtung ist dazu vorgesehen, in einem Sicherungsfall ein vollständiges Ablösen des Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselements 14 von dem Grundkörper 52 des Wafer-Transportbehältnisses 16 zu verhindern.

Das Sicherungssystem 56 weist eine Be- und/oder Entladestation 44 auf. Die Be- und/oder Entladestation 44 ist zu einem Be- und/oder Entladen von Wafern 46 aus dem Wafer-Transportbehältnis 16 vorgesehen. Zu einem Be- und/oder Entladen von Wafern 46 öffnet die Be- und/oder Entladestation 44 das Wafer- Transportbehältnis 16 durch ein Lösen des Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselements 14 von dem Grundkörper 52. Die Be- und/oder Entladestation 44 bewegt zu einem Öffnen des Wafer-Transportbehältnisses 16 das Wafer- Transportbehältnis-Öffnungselement 14 in eine Be- und/oder Entladerichtung 64. Die Be- und/oder Entladerichtung 64 verläuft zumindest im Wesentlichen senkrecht zu einer Flaupterstreckungsebene des Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselements 14. Das Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement 14 wird bei einem Öffnen mittels der Be- und/oder Entladestation 44 in ein Inneres der Be- und/oder Entladestation 44 abgesenkt. Bei einem Be- und/oder Entladen des Wafer-Transportbehältnisses 16 ist ein Innenraum des Grundkörpers 52

vakuumdicht mit dem Innenraum der Be- und/oder Entladestation 44 verbunden. Die Be- und/oder Entladestation 44 ist zu einem Weitertransport aus dem Wafer- Transportbehältnis 16 entladener Wafer 46 an zumindest ein Prozessmodul (nicht gezeigt) und/oder zumindest ein Transfermodul (nicht gezeigt) vorgesehen.

Das Sicherungssystem 56 weist eine Vakuumpumpeneinheit 58 auf. Die

Vakuumpumpeneinheit 58 ist zu einem Vakuumspannen des Wafer- Transportbehältnisses 16 auf der Be- und/oder Entladestation 44 in einer Be- und/oder Entladeposition vorgesehen. Die Vakuumpumpeneinheit 58 weist eine Vakuumpumpe 66 auf. Die Vakuumpumpeneinheit 58 weist eine

Vakuumspannvorrichtung 42 auf. Die Vakuumpumpe 66 ist zu einer Erzeugung eines Unterdrucks der Vakuumspannvorrichtung 42 vorgesehen. Die

Vakuumspannvorrichtung 42 ist dazu vorgesehen, mittels des Unterdrucks das Wafer-Transportbehältnis 16 fest in der vorgesehenen Be- und/oder

Entladeposition relativ zu einer Oberfläche 68 der Be- und/oder Entladestation 44 zu haltern.

Fig. 2 zeigt eine Draufsicht auf das Sicherungssystem 56. Die

Vakuumspannvorrichtung 42 weist Vakuumspannelemente 70 auf. Die

Vakuumspannvorrichtung 42 weist korrespondierende Vakuumspannelemente 72 auf. Die Vakuumspannelemente 70 sind an der Be- und/oder Entladestation 44 angeordnet. Die Vakuumspannelemente 70 sind als kanalartige Vertiefungen in der Oberfläche 68 der Be- und/oder Entladestation 44 ausgebildet. Die

korrespondierenden Vakuumspannelemente 72 sind an dem Wafer- Transportbehältnis 16 angeordnet. Die korrespondierenden

Vakuumspannelemente 72 sind als ohrenförmige, horizontal von dem

Grundkörper 52 abstehend ausgebildete, flache Ausstülpungen ausgebildet. In der Be- und/oder Entladeposition bedecken die korrespondierenden

Vakuumspannelemente 72 die Vakuumspannelemente 70 vollständig. Bei dem Vakuumspannen erzeugt die Vakuumpumpeneinheit 58 einen Unterdrück zwischen den Vakuumspannelementen 70, 72, wodurch durch den

Umgebungsdruck hervorgerufene Druckkräfte die korrespondierenden

Vakuumspannelemente 72 auf die Vakuumspannelemente 70 drücken. Durch den Unterdrück zwischen den Vakuumspannelementen 70, 72 wird der Grundkörper 52 fest auf die Oberfläche 68 der Be- und/oder Entladestation 44 gedrückt.

Das Sicherungssystem 56 weist einen Ausrichtmechanismus 74 auf. Der

Ausrichtmechanismus 74 ist dazu vorgesehen, das Wafer-Transportbehältnis 16 relativ zu der Be- und/oder Entladestation 44 auszurichten. Der

Ausrichtmechanismus 74 umfasst eine Mehrzahl bolzenartig ausgebildeter Vorsprünge 76. Die Vorsprünge 76 sind an dem Grundkörper 52 des Wafer- Transportbehältnisses 16 angeordnet. Der Ausrichtmechanismus 74 umfasst eine Mehrzahl an Vertiefungen 78, welche dazu vorgesehen sind jeweils einen

Vorsprung 76 aufzunehmen. Die Vertiefungen 78 sind in der Oberfläche 68 der Be- und/oder Entladestation 44 angeordnet.

Fig. 3 zeigt einen Schnitt durch das Sicherungssystem 56 entlang einer zentral durch das Sicherungsmodul 60 verlaufenden Schnittebene, welche in Fig. 2 mit dem Bezugszeichen A gekennzeichnet ist. Das Wafer-Transportbehältnis 16 und die Be- und/oder Entladestation 44 befinden sich in der in Fig. 3 gezeigten Situation in einem ungekoppelten Zustand. Die Sicherungsvorrichtung befindet sich in der in Fig. 3 gezeigten Situation in einem gesicherten Zustand. Das Wafer- Transportbehältnis 16 weist einen Verschließmechanismus 12 auf. Der

Verschließmechanismus 12 ist dazu vorgesehen das Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselement 14 in einer Verschließposition zu halten. Der

Verschließmechanismus 12 ist als ein Vakuumverschließmechanismus

ausgebildet. In der Verschließposition verschließt das Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselement 14 die Öffnung 62 des Grundkörpers 52 des Wafer- Transportbehältnisses 16. Ein Vakuum in dem Innenraum des Wafer- Transportbehältnisses 16 sorgt dafür, dass das Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselement 14 von äußeren Druckkräften gegen den Grundkörper 52 des Wafer-Transportbehältnisses 16 gepresst wird. Der Verschließmechanismus 12 weist ein Dichtelement 80 auf. Das Dichtelement 80 des Verschließmechanismus 12 ist dazu vorgesehen, den Verschließmechanismus 12 zumindest im

Wesentlichen gasdicht abzudichten. Das Dichtelement 80 des Verschließmechanismus 12 ist als ein O-Ring ausgebildet. Alternativ oder zusätzlich könnte das Dichtelement 80 des Verschließmechanismus 12 eine Lippendichtung und/oder eine vulkanisierte Dichtung umfassen.

Die Sicherungsvorrichtung weist eine Formschlusseinheit 10 auf. Die

Formschlusseinheit 10 ist zu einer Sicherung des durch den

Verschließmechanismus 12 in seiner Verschließposition gehaltenen Wafer- Transportbehältnis-Öffnungselements 14 des Wafer-Transportbehältnisses 16 vorgesehen.

Die Formschlusseinheit 10 weist eine Formschlussausnehmung 18 auf. Die Formschlussausnehmung 18 ist zu einer teilweisen Aufnahme eines

Formschlusspasselements 20 der Formschlusseinheit 10 vorgesehen. Die

Formschlussausnehmung 18 ist als eine Nut in dem Wafer-T ransportbehältnis- Öffnungselement 14 ausgebildet. Alternativ könnte die Formschlussausnehmung 18 eine beliebige andere, vorzugsweise auf eine Form des

Formschlusspasselements 20 angepasste Form aufweisen. Die

Formschlussausnehmung 18 ist in einem gekoppelten Zustand zwischen Wafer- Transportbehältnis 16 und Be- und/oder Entladestation 44 zu dem Innenraum der Be- und/oder Entladestation 44 offen. Die Formschlusseinheit 10 weist das Formschlusspasselement 20 auf. Das Formschlusspasselement 20 ist zu einem teilweisen Eingreifen in die Formschlussausnehmung 18 vorgesehen. Das

Formschlusspasselement 20 ist teilweise als ein stabförmiger Riegel ausgebildet. Die Formschlussausnehmung 18 und das Formschlusspasselement 20 sind dazu vorgesehen, bei einer ordnungsgemäßen Sicherung berührungslos miteinander zu koppeln. Die Formschlussausnehmung 18 und das Formschlusspasselement 20 sind dazu vorgesehen, bei einem unbeabsichtigten Ausfall des

Verschließmechanismus 12 berührend miteinander zu koppeln.

Das Sicherungsmodul 60 weist einen Modulbasiskörper 82 auf. Der

Modulbasiskörper 82 bildet einen Teil einer äußeren Begrenzung des

Sicherungsmoduls 60. Das Formschlusspasselement 20 ist teilweise innerhalb des Modulbasiskörpers 82 angeordnet. Das Formschlusspasselement 20 ist teilweise von dem Modulbasiskörper 82 umschlossen. Der Modulbasiskörper 82 weist eine Öffnung 84 auf. Das Formschlusspasselement 20 durchtritt die Öffnung 84 des Modulbasiskörpers 82 teilweise. Das Formschlusspasselement 20 ist berührungsfrei mit der Öffnung 84 des Modulbasiskörpers 82. Dadurch kann vorteilhaft eine Partikelgeneration bei einer Bewegung des

Formschlusspasselements 20 gering gehalten werden.

Die Sicherungsvorrichtung ist teilweise einstückig mit dem Wafer- Transportbehältnis 16 ausgebildet. Die Sicherungsvorrichtung ist einstückig mit dem Grundkörper 52 des Wafer-Transportbehältnisses 16 ausgebildet. Der Modulbasiskörper 82 ist einstückig mit dem Grundkörper 52 des Wafer- Transportbehältnisses 16 ausgebildet. Das Formschlusspasselement 20 ist relativ zu dem Modulbasiskörper 82 beweglich gelagert. Die Sicherungsvorrichtung weist ein Führungselement 90 auf. Das Führungselement 90 ist zu einer Führung der Bewegung des Formschlusspasselements 20 vorgesehen. Das Führungselement 90 ist als eine runde Führungsstange ausgebildet. Das Führungselement 90 und das Formschlusspasselement 20 sind einstückig zueinander ausgebildet.

Die Sicherungsvorrichtung weist ein Linearlager 40 auf. Das Linearlager 40 ist dazu vorgesehen, eine translatorische Bewegung der Formschlusseinheit 10 zu erlauben. Das Linearlager 40 ist dazu vorgesehen, eine translatorische Bewegung des Formschlusspasselements 20 zu erlauben. Das Linearlager 40 umfasst zwei Lagerelemente 86, 88. Die Lagerelemente 86, 88 sind als Gleitlager ausgebildet. Die Lagerelemente 86, 88 bilden Gleitbuchsen aus. Die Lagerelemente 86, 88 bleiben bei einer Bewegung des Formschlusspasselements 20 ortsfest relativ zu dem Wafer-Transportbehältnis 16. Die Lagerelemente 86, 88 sind aus einem Kunststoff oder aus einem mit Kunststoff beschichteten Metall ausgebildet.

Alternativ könnte das Linearlager 40 eine von zwei verschiedene Anzahl von Lagerelementen 86, 88, beispielsweise ein Lagerelement 86, 88 oder drei

Lagerelemente 86, 88 umfassen. Außerdem könnte das Linearlager 40 alternativ oder zusätzlich zumindest ein Kugellager umfassen. Zudem könnte das Formschlusspasselement 20, insbesondere das Führungselement 90, auch einstückig mit dem Linearlager 40 ausgebildet sein, beispielsweise indem zumindest das Führungselement 90 eine, insbesondere durch eine Beschichtung gebildete, Gleitfläche aufweist.

Die Sicherungsvorrichtung weist eine Kammer 24 auf. Die Kammer 24 bildet einen Hohlraum in einem Inneren des Sicherungsmoduls 60 aus. Die Kammer 24 weist einen Druckanschlusskanal 26 auf. Der Druckanschlusskanal 26 ist dazu vorgesehen, die Kammer 24 mit der Vakuumspannvorrichtung 42 zu koppeln. Die Vakuumspannvorrichtung 42 weist einen Absaugkanal 100 auf. Der Absaugkanal 100 ist mit der Vakuumpumpe 66 fluidtechnisch verbunden. Bei einer Kopplung des Druckanschlusskanals 26 mit der Vakuumspannvorrichtung 42 wird der Absaugkanal 100 mit dem Druckanschlusskanal 26 gasdicht verbunden. Die Verbindung des Druckanschlusskanals 26 mit dem Absaugkanal 100 erfolgt frei von Kuppelelementen und Schläuchen, ausschließlich über ein dichtes Anliegen des Sicherungsmoduls 60 auf der Oberfläche 68 der Be- und/oder Entladestation 44.

Die Kammer 24 ist mit Ausnahme des Druckanschlusskanals 26 gasdicht zur Umgebung abgedichtet ausgebildet. Die Kammer 24 weist ein Innenvolumen 34 auf. Der Druckanschlusskanal 26 ist dazu vorgesehen, eine Variation eines Innendrucks in der Kammer 24 relativ zu einem Referenzdruck zu erlauben. Der Druckanschlusskanal 26 bildet ein Anschlusselement für die

Vakuumpumpeneinheit 58 aus. Mittels des Druckanschlusskanals 26 kann die Kammer 24 evakuiert werden. Der Druckanschlusskanal 26 ist als eine Bohrung in einer Kammerwand 28 der Kammer 24 ausgebildet. Der Druckanschlusskanal 26 ist auf einer Unterseite des Sicherungsmoduls 60 angeordnet. Der

Druckanschlusskanal 26 verläuft entlang einer Richtung, welche zumindest im Wesentlichen senkrecht auf einer Haupterstreckungsebene des Wafer- Transportbehältnis-Öffnungselements 14 in einem mit dem Grundkörper 52 des Wafer-Transportbehältnisses 16 gekoppelten Zustand des Wafer- Transportbehältnisses 16, steht. Der Druckanschlusskanal 26 ist in einem gesicherten Zustand und in einem ungesicherten Zustand offen zu der Kammer 24. Die die Kammer 24 abgrenzenden Kammerwände 28 sind getrennt von dem Modulbasiskörper 82 ausgebildet. Die die Kammer 24 begrenzenden

Kammerwände 28 sind mit dem Modulbasiskörper 82 verschraubt. Dadurch kann vorteilhaft eine einfache Montage und/oder Revision des Sicherungsmoduls 60 ermöglicht werden. Die die Kammer 24 begrenzenden Kammerwände 28 sind zerstörungsfrei demontierbar ausgebildet. Alternativ könnte zumindest ein Teil der die Kammer 24 begrenzenden Kammerwände 28 einstückig mit dem Wafer- Transportbehältnis 16 ausgebildet sein.

Einer Differenz des Innendrucks der Kammer 24 und des Referenzdrucks bildet einen ein Differenzdruck aus. Der Differenzdruck ist dazu vorgesehen, einen Sicherungszustand der Formschlusseinheit 10 zu beeinflussen. Eine Position des Formschlusspasselements 20 relativ zu einer unbeweglichen Kammerwand 28 der Kammer 24 ist abhängig von dem Differenzdruck. Die Formschlusseinheit 10 ist dazu vorgesehen, eine entsicherte Position einzunehmen, wenn der

Differenzdruck oberhalb eines Grenzdifferenzdrucks liegt. Das

Formschlusspasselement 20 ist nicht in einem Eingriff mit der

Formschlussausnehmung 18, wenn der Differenzdruck unterhalb eines

Grenzdifferenzdrucks liegt. Die Formschlusseinheit 10 ist dazu vorgesehen, eine gesicherte Position einzunehmen, wenn der Differenzdruck unterhalb des

Grenzdifferenzdrucks liegt. Das Formschlusspasselement 20 ist in einem Eingriff mit der Formschlussausnehmung 18, wenn der Differenzdruck oberhalb des Grenzdifferenzdrucks liegt. Der Grenzdifferenzdruck ist als ein Grenzwert des Differenzdrucks ausgebildet.

Die Sicherungsvorrichtung weist ein Rückstellelement 22 auf. Das

Rückstellelement 22 ist dazu vorgesehen, die Formschlusseinheit 10 in eine Sicherungsposition rückauszulenken. Das Rückstellelement 22 ist dazu

vorgesehen, die Formschlusseinheit 10 in der Sicherungsposition zu halten. Das Rückstellelement 22 ist als eine Druckfeder ausgebildet. Eine Rückstellkraft des Rückstellelements 22 wirkt in eine Richtung, welche parallel zu einer Haupterstreckungsrichtung des Formschlusspasselements 20 verläuft. Unter einer „Haupterstreckungsrichtung“ eines Objekts soll dabei insbesondere eine Richtung verstanden werden, welche parallel zu einer längsten Kante eines kleinsten geometrischen Quaders verläuft, welcher das Objekt gerade noch vollständig umschließt. Die Rückstellkraft des Rückstellelements 22 wirkt zumindest indirekt auf das Formschlusspasselement 20. Die Rückstellkraft des Rückstellelements 22 drückt das Formschlusspasselement 20 in eine Sicherungsposition. Das

Rückstellelement 22 ist innerhalb der Kammer 24 angeordnet. Das

Rückstellelement 22 liegt an einer Innenseite einer von dem Wafer- Transportbehältnis 16 weg weisenden Kammerwand 28 an. Das Rückstellelement 22 umgreift das Führungselement 90 teilweise. Die von dem Wafer- Transportbehältnis 16 weg weisende Kammerwand 28 weist eine Ausbuchtung 92 auf. Die Ausbuchtung 92 ist zylinderförmig ausgebildet. Die Ausbuchtung 92 ist dazu vorgesehen, das Rückstellelement 22 teilweise aufzunehmen. Die

Ausbuchtung 92 ist dazu vorgesehen, ein Verrutschen des Rückstellelements 22, beispielsweise bei einer Bewegung des Wafer-Transportbehältnisses 16 vorteilhaft zu verhindern.

Die Sicherungsvorrichtung weist eine weitere Kammer 30 auf. Die weitere

Kammer 30 weist ein Innenvolumen 36 auf. Die weitere Kammer 30 weist in einem gesicherten Zustand der Sicherungsvorrichtung und in einem entsicherten

Zustand der Sicherungsvorrichtung einen mit einem Umgebungsdruck identischen Innendruck auf. Der Umgebungsdruck ist als Atmosphärendruck oder als

Reinraum-Atmosphärendruck ausgebildet. Die weitere Kammer 30 ist von dem Wafer-Transportbehältnis 16 aus gesehen vor der Kammer 24 angeordnet. Das Führungselement 90 ist innerhalb der weiteren Kammer 30 angeordnet. Das Linearlager 40 ist innerhalb der weiteren Kammer 30 angeordnet. Die

Sicherungsvorrichtung weist ein beweglich gelagertes Stellelement 32 auf. Das beweglich gelagerte Stellelement 32 ist als ein beweglicher Kolben ausgebildet. Das beweglich gelagerte Stellelement 32 begrenzt die Kammer 24 teilweise. Das beweglich gelagerte Stellelement 32 begrenzt die weitere Kammer 30 teilweise. Die Kammer 24 und die weitere Kammer 30 sind mittels des beweglich gelagerten Stellelements 32 gasdicht voneinander abgedichtet. Das beweglich gelagerte Stellelement 32 weist ein Dichtelement 94 auf. Das Dichtelement 94 des beweglich gelagerten Stellelements 32 ist als ein O-Ring ausgebildet. Alternativ oder zusätzlich könnte das Dichtelement 94 des beweglich gelagerten

Stellelements 32 eine Lippendichtung und/oder eine vulkanisierte Dichtung umfassen.

Das Führungselement 90 ist durch das beweglich gelagerte Stellelement 32 hindurchgeführt. Das Führungselement 90 ist mittels einer

Befestigungsvorrichtung 98 fest mit dem beweglich gelagerten Stellelement 32 verbunden. Die Befestigungsvorrichtung 98 umfasst einen Benzing ®- Sicherungsring. Alternativ oder zusätzlich kann die Befestigungsvorrichtung 98 einen Seeger ©-Befestigungsring, eine Drahtsicherung und/oder eine

Verschraubung umfassen. Das beweglich gelagerte Stellelement 32 weist ein weiteres Dichtelement 96 auf. Das weitere Dichtelement 96 des beweglich gelagerten Stellelements 32 ist dazu vorgesehen, die Durchführung für das Führungselement 90 gasdicht gegenüber der Kammer 24 abzudichten. Das weitere Dichtelement 96 des beweglich gelagerten Stellelements 32 ist als ein O- Ring ausgebildet. Alternativ oder zusätzlich könnte das weitere Dichtelement 96 des beweglich gelagerten Stellelements 32 eine Lippendichtung und/oder eine vulkanisierte Dichtung umfassen. Das beweglich gelagerte Stellelement 32 ist dazu vorgesehen, in Abhängigkeit von einer Druckdifferenz der Innendrücke der Kammer 24 und der weiteren Kammer 30 das Innenvolumen 34 der Kammer 24 zu variieren. Das beweglich gelagerte Stellelement 32 ist dazu vorgesehen, in Abhängigkeit von der Druckdifferenz der Innendrücke der Kammer 24 und der weiteren Kammer 30 das Innenvolumen 36 der weiteren Kammer 30 zu variieren.

Die Sicherungsvorrichtung weist einen Zustandssensor 50 auf. Der

Zustandssensor 50 ist dazu vorgesehen, einen Sicherungszustand der

Sicherungsvorrichtung zu sensieren. Der Zustandssensor 50 ist der Be- und/oder Entladestation 44 zugeordnet. Der Zustandssensor 50 ist dazu vorgesehen, einen Sicherungszustand der Sicherungsvorrichtung an die Be- und/oder Entladestation 44 zu kommunizieren. Dadurch kann vorteilhaft verhindert werden, dass ein Öffnungsvorgang zu einem Öffnen des Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselements 14 durch die Be- und/oder Entladestation 44 eingeleitet wird während eine Sicherung der Sicherungsvorrichtung, insbesondere der

Formschlusseinheit 10 noch aktiv ist, wodurch Beschädigungen des Wafer- Transportbehältnisses 16 vorteilhaft vermieden werden können. Der

Zustandssensor 50 umfasst einen Magnetsensor, welche eine Bewegung und/oder eine Position eines Teils des Sicherungsmoduls 60, insbesondere des Führungselements 90 und/oder des Formschlusspasselements 20 erfassen kann.

Die Sicherungsvorrichtung weist eine weitere zusätzliche Kammer 38 auf. Die weitere zusätzliche Kammer 38 ist dazu vorgesehen, in zumindest einem

Betriebszustand einen von dem Umgebungsdruck verschiedenen Innendruck aufzuweisen. Die zusätzliche weitere Kammer 38 ist von dem Wafer- T ransportbehältnis 16 aus gesehen vor der weiteren Kammer 30 angeordnet. Die zusätzliche weitere Kammer 38 ist von dem Wafer-Transportbehältnis 16 aus gesehen vor der Kammer 24 angeordnet. Die zusätzliche weitere Kammer 38 ist gasdicht zu der weiteren Kammer 30 abgedichtet. Die Sicherungsvorrichtung weist ein zusätzliches Dichtelement 102 auf. Das zusätzliche Dichtelement 102 der Sicherungsvorrichtung ist dazu vorgesehen die weitere Kammer 30 und die zusätzliche weitere Kammer 38 voneinander gasdicht zu isolieren. Das zusätzliche Dichtelement 102 der Sicherungsvorrichtung ist komprimierbar ausgebildet. Das zusätzliche Dichtelement 102 der Sicherungsvorrichtung ist dazu vorgesehen, bei einer Bewegung des Formschlusspasselements 20 und/oder des

Führungselements 90 komprimiert und/oder expandiert zu werden. Die

Sicherungsvorrichtung weist ein Übertragungselement 104 auf. Das

Übertragungselement 104 ist dazu vorgesehen eine Bewegung des

Führungselements 90 und/oder des Formschlusspasselements 20 auf das zusätzliche Dichtelement 102 der Sicherungsvorrichtung zu übertragen. Das Übertragungselement 104 ist einstückig mit dem Führungselement 90 ausgebildet. Das Übertragungselement 104 ist einstückig mit dem Formschlusspasselement 20 ausgebildet. Das zusätzliche Dichtelement 102 der Sicherungsvorrichtung ist als ein Membranbalg ausgebildet. Der Membranbalg ist aus einem Metall ausgebildet. Das Formschlusspasselement 20 ist teilweise in der zusätzlichen weiteren

Kammer 38 angeordnet. Die zusätzliche weitere Kammer 38 ist durch die Öffnung 84 des Modulbasiskörpers 82 nach außen offen ausgebildet. In einem

ungekoppelten Zustand des Wafer-Transportbehältnisses 16 ist der Innendruck in der zusätzlichen weiteren Kammer 38 identisch mit dem Umgebungsdruck.

Fig. 4 zeigt, wie Fig. 3, einen Schnitt durch das Sicherungssystem 56 entlang der zentral durch das Sicherungsmodul 60 verlaufenden Schnittebene, welche in Fig.

2 mit dem Bezugszeichen A gekennzeichnet ist. Das Wafer-Transportbehältnis 16 und die Be- und/oder Entladestation 44 befinden sich in der in Fig. 4 gezeigten Situation in einem gekoppelten Zustand. Die Sicherungsvorrichtung befindet sich in der in Fig. 4 gezeigten Situation in einem entsicherten Zustand. Die Kammer 24 ist in dem entsicherten Zustand durch den Druckanschlusskanal 26 evakuiert, wodurch das beweglich gelagerte Stellelement 32 in eine von dem Wafer- Transportbehältnis 16 wegweisende Richtung gedrückt ist. Dadurch ist das

Innenvolumen 34 der Kammer 24 verkleinert und ein Innenvolumen 130 der zusätzlichen weiteren Kammer 38 vergrößert. Außerdem ist dadurch das

Formschlusspasselement 20 zu einem Großteil in die zusätzliche weitere Kammer 38 zurückgezogen angeordnet. Das zusätzliche Dichtelement 102 der

Sicherungsvorrichtung ist komprimiert.

Die in dem Wafer-Transportbehältnis 16 ausgebildete Formschlussausnehmung 18 bildet einen weiteren Druckanschlusskanal 54 aus. Der weitere

Druckanschlusskanal 54 ist zu einer Evakuierung der zusätzlichen weiteren Kammer 38 der Sicherungsvorrichtung vorgesehen. Die Möglichkeit einer

Evakuierung der zusätzlichen weiteren Kammer 38 durch den weiteren

Druckanschlusskanal 54 ist auf den gekoppelten Zustand des Wafer- Transportbehältnisses 16 mit der Be- und/oder Entladestation 44 beschränkt. In dem gekoppelten Zustand des Wafer-Transportbehältnisses 16 mit der Be- und/oder Entladestation 44 bildet der Druckanschlusskanal 54 eine Verbindung der zusätzlichen weiteren Kammer 38 mit einem gasdicht isolierten Zwischenraum 106 zwischen einer Unterseite des Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselements 14 und einer Oberseite der Be- und/oder Entladestation 44. Ein Innendruck in dem Zwischenraum 106 ist gekoppelt mit dem Innendruck in der Kammer 24. Der Innendruck in der Kammer 24 und der Innendruck in dem Zwischenraum 106 und dadurch auch der Innendruck in der zusätzlichen weiteren Kammer 38 sind durch die Vakuumpumpe 66 der Vakuumpumpeneinheit 58 erzeugt. Die

Vakuumpumpeneinheit 58 ist zu einer Variation des Innendrucks in der Kammer 24 vorgesehen.

Die Sicherungsvorrichtung weist ein Notsicherungs- und/oder

Notentsicherungselement 48 auf. Das Notsicherungs- und/oder

Notentsicherungselement 48 ist zu einer manuellen Notsicherung und/oder Notentsicherung der Sicherungsvorrichtung vorgesehen. Das Notsicherungs und/oder Notentsicherungselement 48 ist zumindest teilweise in der weiteren Kammer 30 angeordnet. Das Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselement 48 ist beweglich in der weiteren Kammer 30 gelagert. Zu einer Notentsicherung zieht ein Bediener das Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselement 48 aus der weiteren Kammer 30 heraus. Das Notsicherungs- und/oder

Notentsicherungselement 48 ist als ein von dem Sicherungsmodul 60

hervorstehender, herausziehbarer Hebel ausgebildet.

Fig. 5 zeigt einen weiteren Schnitt durch das Sicherungssystem 56 entlang einer weiteren durch das Sicherungsmodul 60 verlaufenden Schnittebene, welche in Fig. 2 mit dem Bezugszeichen B gekennzeichnet ist. In der in Fig. 5 dargestellten Situation ist die Sicherungsvorrichtung mittels des Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselements 48 entsichert. Das Notsicherungs- und/oder

Notentsicherungselement 48 ist dazu vorgesehen, bei einer Notentsicherung das beweglich gelagerte Stellelement 32 in Richtung der Kammer 24 zu verschieben. Das Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselement 48 ist dazu vorgesehen, bei einer Notentsicherung das Formschlusspasselement 20 in Richtung der Kammer 24 zu verschieben. Das Notsicherungs- und/oder

Notentsicherungselement 48 ist dazu vorgesehen, bei einer Notentsicherung den Eingriff zwischen Formschlusspasselement 20 und Formschlussausnehmung 18 aufzuheben. Das Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselement 48 weist ein Kurvengetriebe 108 auf. Das Kurvengetriebe 108 ist dazu vorgesehen, eine

Bewegung des Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselements 48 in eine zu der Bewegung des Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselements 48 senkrecht stehende Bewegung des beweglich gelagerten Stellelements 32 und/oder des Formschlusspasselements 20 umzuwandeln. Das Kurvengetriebe 108 umfasst eine Schräge 1 10 und einen Pin 1 12. Die Schräge 1 10 ist an dem

Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselements 48 angeordnet. Die Schräge 1 10 verbindet eine Stelle des Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselements 48 mit kleiner Materialstärke mit einer Stelle des Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselements 48 mit größerer Materialstärke. Der Pin 112 ist an dem beweglich gelagerten Stellelement 32 angeordnet. In einem gesicherten Zustand der Sicherungsvorrichtung liegt der Pin 1 12 an der Stelle des Notsicherungs und/oder Notentsicherungselements 48 mit kleiner Materialstärke an. Bei einem Herausziehen des Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselements 48 in Vertikalrichtung bewegt sich die Schräge 1 10 entlang dem in Vertikalrichtung unbeweglichen Pin 1 12. Entlang der Schräge 1 10 wächst die Materialstärke des Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselements 48, wodurch der Pin 112 in eine horizontale Richtung ausweichen muss. In einem notentsicherten Zustand der Sicherungsvorrichtung liegt der Pin 1 12 an der Stelle des Notsicherungs und/oder Notentsicherungselements 48 mit größerer Materialstärke an. Bei einem anschließenden Zurückbewegen des Notsicherungs- und/oder

Notentsicherungselements 48 in die weitere Kammer 30 lenkt das

Rückstellelement 22 das beweglich gelagerte Stellelement 32 und/oder das Formschlusspasselement 20 zurück in die ursprüngliche Stellung des gesicherten Zustands aus. Fig. 6 zeigt ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens mit der Sicherungsvorrichtung.

In zumindest einem Verfahrensschritt 1 14 wird das Wafer-Transportbehältnis 16 transportiert und/oder gelagert. Während dieses Transports und/oder während dieser Lagerung wird in zumindest einem Verfahrensschritt 1 16 mittels der Formschlusseinheit 10 das durch den Verschließmechanismus 12 in seiner Verschließposition gehaltene Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement 14 gesichert. In einem fehlerfreien Normalbetrieb des Verschließmechanismus 12 wird in zumindest einem Verfahrensschritt 120 das Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselement 14 berührungslos durch die Formschlusseinheit 10 gesichert.

Bei einer Fehlfunktion des Verschließmechanismus 12 wird in zumindest einem Verfahrensschritt 1 18 ein Berührungskontakt der Formschlusseinheit 10 mit dem Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement 14 hergestellt. Der Berührungskontakt der Formschlusseinheit 10 mit dem Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselement 14 wird dabei hergestellt, um eine Flalterung des Wafer-Transportbehältnis- Öffnungselements 14 in einem Nahbereich der Verschließposition sicherzustellen. In zumindest einem Verfahrensschritt 122 wird das Wafer-Transportbehältnis 16 mit der Be- und/oder Entladestation 44 gekoppelt. In zumindest einem

Verfahrensschritt 124 wird eine Sicherung und/oder Entsicherung der

Formschlusseinheit 10 mittels einer Variation eines Innendrucks in der Kammer 24 der Sicherungsvorrichtung erzeugt. In zumindest einem Verfahrensschritt 128 wird zu einer Sicherung des Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselements 14 das Formschlusspasselement 20 mittels einer Absenkung des Differenzdrucks zwischen der Kammer 24 und der weiteren Kammer 30 in eine Sicherungsposition bewegt. In zumindest einem Verfahrensschritt 126 wird zu einer Entsicherung des Wafer-Transportbehältnis-Öffnungselements 14 das Formschlusspasselement 20 mittels einer Erhöhung des Differenzdrucks zwischen der Kammer 24 und der weiteren Kammer 30 in eine Entsicherungsposition bewegt. Bezugszeichen

10 Formschlusseinheit

12 Verschließmechanismus

14 Wafer-T ransportbehältnis-Öffnungselement

16 Wafer-Transportbehältnis

18 Formschlussausnehmung

20 Formschlusspasselement

22 Rückstellelement

24 Kammer

26 Druckanschlusskanal

28 Kammerwand

30 weitere Kammer

32 Stellelement

34 Innenvolumen

36 Innenvolumen

38 weitere zusätzliche Kammer

40 Linearlager

42 Vakuumspannvorrichtung

44 Be- und/oder Entladestation

46 Wafer

48 Notsicherungs- und/oder Notentsicherungselement

50 Zustandssensor

52 Grundkörper

54 weiterer Druckanschlusskanal

56 Sicherungssystem

58 Vakuumpumpeneinheit

60 Sicherungsmodul

62 Öffnung

64 Be- und/oder Entladerichtung

66 Vakuumpumpe Oberfläche

Vakuumspannelement

korrespondierendes Vakuumspannelement

Ausrichtmechanismus

Vorsprung

Vertiefung

Dichtelement

Modulbasiskörper

Öffnung

Lagerelement

Lagerelement

Führungselement

Ausbuchtung

Dichtelement

Weiteres Dichtelement

Befestigungsvorrichtung

Absaugkanal

Zusätzliches Dichtelement

Übertragungselement

Zwischenraum

Kurvengetriebe

Schräge

Pin

Verfahrensschritt

Verfahrensschritt

Verfahrensschritt

Verfahrensschritt

Verfahrensschritt

Verfahrensschritt

Verfahrensschritt

Verfahrensschritt 130 Innenvolumen A Schnittebene B Schnittebene