Login| Sign Up| Help| Contact|

Patent Searching and Data


Title:
SYSTEM FOR ADJUSTING OPTICAL AXIS AND METHOD FOR ADJUSTING OPTICAL AXIS
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2009/081454
Kind Code:
A1
Abstract:
A system for adjusting an optical axis, wherein accuracy of an optical axis adjustment is improved. A mounting base (11), on which a plurality of electromagnets (11a) are arranged, mounts optics components. A magnetic force generation control section (13) supplies a specified current to a selected electromagnet (11a) to generate a magnetic force from the electromagnet (11a). A drive section (14) outputs an optical signal through the optics components. An optical receiver section (15) receives the optical signal to measure a received optical level. A control section (16) controls to select the electromagnet (11a) and to generate a magnetic force by supplying a current while monitoring the received optical level. The magnetic force generation control section (13) applies a magnetic force to a first optics component (21) via the mounting base (11) to suck the first optics component (21) to a second optics component (22). While a sucking state is kept between the first optics component (21) and the second optics component (22), the first optics component (21) is moved by a magnetic force such that an optimal value of the received optical level is achieved, thereby making an optical axis adjustment at an optical coupling section of the first optics component (21) and the second optics component (22).

Inventors:
SHIMOYAMA KENGO (JP)
Application Number:
PCT/JP2007/074490
Publication Date:
July 02, 2009
Filing Date:
December 20, 2007
Export Citation:
Click for automatic bibliography generation   Help
Assignee:
FUJITSU LTD (JP)
SHIMOYAMA KENGO (JP)
International Classes:
G02B6/42
Foreign References:
JPH01310319A1989-12-14
JPH0612687A1994-01-21
JP2006276156A2006-10-12
Attorney, Agent or Firm:
HATTORI, Kiyoshi (Hachioji Azumacho Center Building9-8, Azuma-ch, Hachioji-shi Tokyo 82, JP)
Download PDF:
Claims:
 光軸の調整を行う光軸調整システムにおいて、
 複数の電磁石が配置されて光部品を搭載する搭載台と、
 選択された前記電磁石に対して、指示された電流を供給し、前記電磁石から磁力を発生させる磁力発生制御部と、
 前記光部品を通じて信号光を出力させる駆動部と、
 前記信号光を受光して受光レベルを測定する光受信部と、
 前記受光レベルをモニタしながら、前記電磁石の選択指示および電流供給指示を行う制御部と、
 を有し、
 前記光部品は、材質が磁性体の第1の光部品と、材質が非磁性体の第2の光部品と、から構成され、前記第1の光部品と前記第2の光部品とを接続して、光モジュールを形成する場合に、
 前記磁力発生制御部は、前記制御部からの指示にもとづいて、
 前記搭載台を介して、前記第1の光部品に前記磁力を印加して、前記第1の光部品を前記第2の光部品に吸着させ、
 前記第1の光部品と前記第2の光部品との吸着状態を保ちながら、前記受光レベルが最適値になるように、前記第1の光部品を前記磁力により移動させて、前記第1の光部品と前記第2の光部品との光結合部の光軸調整を行う、
 ことを特徴とする光軸調整システム。
 前記光モジュールが発光モジュールの場合には、前記駆動部は、前記第1の光部品または前記第2の光部品のいずれかに含まれる発光素子を駆動して、内部で発出した前記信号光を、前記第1の光部品および前記第2の光部品を通じて出力させ、
 前記光モジュールが受光モジュールの場合には、前記駆動部から前記信号光を発出し、前記信号光を前記第1の光部品および前記第2の光部品を透過させて、外部から与えた前記信号光を、前記第1の光部品および前記第2の光部品を通じて出力させることを特徴とする請求の範囲第1項記載の光軸調整システム。
 前記磁力発生制御部は、前記第1の光部品を前記第2の光部品に吸着させる場合には、複数の前記電磁石に対して、一定レベルの前記電流を供給し、
 前記光軸調整を行う場合には、前記第1の光部品を移動させる方向に位置する前記電磁石に対して、パルス状の前記電流を単調増加させながら供給することを特徴とする請求の範囲第1項記載の光軸調整システム。
 前記磁力発生制御部は、前記光軸調整の完了後、複数の前記電磁石から現在発生している前記磁力のバランスを保持したまま、磁力強度を全体的に増加させることを特徴とする請求の範囲第1項記載の光軸調整システム。
 光軸の調整を行う光軸調整方法において、
 材質が磁性体の第1の光部品と、材質が非磁性体の第2の光部品と、から構成され、前記第1の光部品と前記第2の光部品とを接続して、光モジュールを形成する場合に、
 複数の電磁石が配置された搭載台に、前記第1の光部品と前記第2の光部品を搭載し、
 前記第1の光部品および前記第2の光部品を通じて信号光を出力させ、
 前記信号光を受光して受光レベルを測定し、
 選択した前記電磁石に対して、電流を供給し、前記電磁石から磁力を発生させ、
 前記搭載台を介して、前記第1の光部品に前記磁力を印加して、前記第1の光部品を前記第2の光部品に吸着させ、
 前記第1の光部品と前記第2の光部品との吸着状態を保ちながら、前記受光レベルが最適値になるように、前記第1の光部品を前記磁力により移動させて、前記第1の光部品と前記第2の光部品との光結合部の光軸調整を行う、
 ことを特徴とする光軸調整方法。
 前記光モジュールが発光モジュールの場合には、前記第1の光部品または前記第2の光部品のいずれかに含まれる発光素子を駆動して、内部で発出した前記信号光を、前記第1の光部品および前記第2の光部品を通じて出力させ、
 前記光モジュールが受光モジュールの場合には、外部で発出した前記信号光を、前記第1の光部品および前記第2の光部品に透過させて、前記第1の光部品および前記第2の光部品を通じて出力させることを特徴とする請求の範囲第5項記載の光軸調整方法。
 前記第1の光部品を前記第2の光部品に吸着させる場合には、複数の前記電磁石に対して、一定レベルの前記電流を供給し、
 前記光軸調整を行う場合には、前記第1の光部品を移動させる方向に位置する前記電磁石に対して、パルス状の前記電流を単調増加させながら供給することを特徴とする請求の範囲第5項記載の光軸調整方法。
 前記光軸調整の完了後、複数の前記電磁石から現在発生している前記磁力のバランスを保持したまま、磁力強度を全体的に増加させることを特徴とする請求の範囲第5項記載の光軸調整方法。
Description:
光軸調整システムおよび光軸調 方法

 本発明は、光軸調整システムおよび光軸 整方法に関し、特に光部品結合部の光軸の 整を行う光軸調整システムおよび光部品結 部の光軸の調整を行う光軸調整方法に関す 。

 近年、インターネットを含むブロードバ ドサービスの普及により、情報通信ネット ークが家庭や企業に浸透し、より高速で大 量のサービスの提供に向けて光通信ネット ークが進展しており、より高品質で信頼性 高い光モジュールの開発が期待されている

 図15は一般的な光モジュールの構成を示 図である。光通信で広く用いられる光モジ ール20は、光ファイバ21a、フェルール21b、レ ンズ付きスリーブ21、ホルダ22、光学素子22a ら構成される。

 光ファイバ21aは、フェルール21bにあらか め固定されている。フェルール21bは、レン 21cが取り付けられているレンズ付きスリー 21に挿入され、光ファイバ21aの先端は、レ ズ21cとの間に一定の距離が保たれて固定さ る。

 中空構造のホルダ22には、内部に光学素 22aが固定されており、光軸の位置合わせが われた後に、ホルダ22の平面上にレンズ付き スリーブ21が溶接固定されて、光モジュール2 0が形成される。なお、光学素子22aが発光素 の場合、光学素子22aから発光したレーザ光 、レンズ21cを介して光ファイバ21aへ集光さ る。

 従来の光モジュールとして、電磁石の磁力 利用して、スライド可能保持具をスライド せて、光導波路を保持する光リレーが提案 れている(例えば、特許文献1参照)。

特開平5-232350号公報(段落番号〔0036〕、 10図)

 図16はレーザ溶接前の光モジュール20の製 造過程を示す図である。光モジュール20の製 時、光ファイバ21aとレンズ付きスリーブ21 のアセンブリ部(光ファイバ21aとレンズ付き リーブ21が一体となった部品)を、ホルダ22 対して、締め付け具であるクランプ5aで把持 して加圧し、レンズ付きスリーブ21とホルダ2 2を接圧させる。

 そして、レンズ付きスリーブ21とホルダ22 とが接触した状態で、ホルダ22上でレンズ付 スリーブ21を移動させて、部品間でのすり わせを行うことで、光学素子22aからの出力 が光ファイバ21aに集光されるように光軸の 置合わせの調整(光軸調整)を行う。光軸調整 後には、レーザ溶接によってレンズ付きスリ ーブ21とホルダ22とを溶接固定する。

 図17は従来の製造工程の問題点を説明す ための図である。従来の製造方法では、ク ンプ5aでレンズ付きスリーブ21をホルダ22に 械的に把持して、すり合わせによって光軸 整を行うが、クランプ5aの機械的な把持力で は、精密に光部品同士を密着させることが難 しいため、光部品間(レンズ付きスリーブ21と ホルダ22間)に隙間が発生しやすかった。

 このため、図17に示すような、光軸調整 に隙間が発生した状態でレーザ溶接を行う 、レーザ溶接は加工部のギャップ裕度が低 ので、たとえ数ミクロン程度の微小な隙間 あっても、レーザ溶接した際に致命的な光 ずれが生じてしまうおそれがあった。すな ち、レーザ溶接前は最適な光軸位置にあっ としても、レーザ溶接を行ったときに最適 置から変動してしまい、光軸ずれが生じて まうといった問題があった。

 また、従来の製造方法では、すり合わせ 光軸を最適な位置に調整しても、その最適 置をクランプ5aによる機械的な把持力だけ 保持するようにしているので、部品加工の 業中に最適位置がずれやすいといった問題 あった。

 さらに、従来の製造方法では、ホルダ22 上部に接続する光部品(ここでは、レンズ付 スリーブ21)に対して、クランプ5aが掴むこ ができるスペースが必要なため、小さい光 品を搭載する場合や複数の光部品を近接し 配置させるような場合などでは、クランプ5a で十分な把持力でしっかり掴むことができな いので、光部品の小型化や配置デザインに対 して制限されてしまうといった問題もあった 。また、把持する2つの光部品間の面が平面 でない場合も、クランプ5aで十分把持するこ とができずにがたついてしまうため、部品形 状に対しても制限されてしまうことになる。

 近年の光モジュールでは、より高機能な 品が主流となってきており、また小型集積 を実現するために、微細な部品を要する複 な構成となる傾向にあるが、このような光 ジュールに対して、わずかでも光軸ずれが ると、特性変動に大きく影響して品質低下 引き起こすことになる。このため、光軸調 の精度をいかに向上させるかが大きな課題 あった。

 本発明はこのような点に鑑みてなされたも であり、光モジュールを製造する際の光軸 整の精度を向上させる光軸調整システムを 供することを目的とする。
 また、本発明の他の目的は、光モジュール 製造する際の光軸調整の精度を向上させる 軸調整方法を提供することである。

 上記課題を解決するために、光軸の調整 行う光軸調整システムが提供される。この 軸調整システムは、複数の電磁石が配置さ て光部品を搭載する搭載台と、選択された 記電磁石に対して、指示された電流を供給 、前記電磁石から磁力を発生させる磁力発 制御部と、前記光部品を通じて信号光を出 させる駆動部と、前記信号光を受光して受 レベルを測定する光受信部と、前記受光レ ルをモニタしながら、前記電磁石の選択指 および電流供給指示を行う制御部と、から 成される。

 ここで、光部品は、材質が磁性体の第1の 光部品と、材質が非磁性体の第2の光部品と から構成される。そして、第1の光部品と第2 の光部品とを接続して、光モジュールを形成 する場合に、磁力発生制御部は、制御部から の指示にもとづいて、搭載台を介して、第1 光部品に磁力を印加して、第1の光部品を第2 の光部品に吸着させる。また、第1の光部品 第2の光部品との吸着状態を保ちながら、受 レベルが最適値になるように、第1の光部品 を磁力により移動させて、第1の光部品と第2 光部品との光結合部の光軸調整を行う。

 本発明の光軸調整システムおよび光軸調整 法により、光軸位置の変動を抑制すること でき、光軸調整の精度を大幅に向上させる とが可能になる。
 本発明の上記および他の目的、特徴および 点は本発明の例として好ましい実施の形態 表す添付の図面と関連した以下の説明によ 明らかになるであろう。

光軸調整システムの原理図である。 搭載台の形状例を示す図である。 電磁石の配置パターン例を示す図であ 。 電磁石の設置位置を示す図である。 電磁石の設置位置を示す図である。 光モジュールが発光モジュールの場合 駆動制御を説明するための図である。 光モジュールが受光モジュールの場合 駆動制御を説明するための図である。 光部品搭載の変形例を示す図である。 光モジュールの製造工程を示すフロー ャートである。 電磁石と磁力発生制御部を示す図であ る。 磁力制御によるスリーブの軌跡を示す 図である。 スリーブとホルダとを吸着させる場合 の磁力制御を説明するための図である。 光軸調整を行う場合の磁力制御を説明 するための図である。 スリーブとホルダ間の接触面が平面状 でない光モジュールを示す図である。 一般的な光モジュールの構成を示す図 である。 レーザ溶接前の光モジュールの製造過 程を示す図である。 従来の製造工程の問題点を説明するた めの図である。

 以下、本発明の実施の形態を図面を参照 て説明する。図1は光軸調整システムの原理 図である。光軸調整システム10は、搭載台11 搭載台可動部12、磁力発生制御部13、駆動部1 4、光受信部15、制御部16から構成されて、光 品結合部の光軸調整を行うシステムである

 搭載台11は、複数の電磁石11aが配置され 、第1の光部品21および第2の光部品22を搭載 る。複数の電磁石11aの配置例については図3 後述する。搭載台可動部12は、制御部16から の指示にもとづき、搭載台11を可動制御する

 磁力発生制御部13は、制御部16で選択され た電磁石11aに対して、制御部16から指示され 電流を供給し、電磁石11aから磁力を発生さ る。駆動部14は、第1の光部品21および第2の 部品22を通じて信号光を出力させる。

 光受信部15は、信号光を受光して受光レ ルを測定する。制御部16は、受光レベルの測 定値をモニタしながら、電磁石11aの選択指示 および電流供給指示を行う。制御部16はパソ ン等に該当する。

 ここで、第1の光部品21は、磁性体の材質 構成され、第2の光部品は、非磁性体の材質 で構成される。そして、光軸調整システム10 よって、第1の光部品21と第2の光部品22との 軸調整を行って光結合した後に、レーザ溶 機30によって、第1の光部品21と第2の光部品2 2とをレーザ溶接して固定接続することで光 ジュール20を形成する。

 このような光モジュール20を形成する場 、磁力発生制御部13は、制御部16からの指示 もとづいて、搭載台11を介して、第1の光部 21に磁力を印加して、第1の光部品21を第2の 部品22に吸着させる。

 また、第1の光部品21と第2の光部品22との 着状態を保ちながら、受光レベルが最適値 なるように、第1の光部品21を磁力により探 移動させて、第1の光部品21と第2の光部品22 の光結合部の光軸調整を行う。動作の詳細 図9のフローチャートで後述する。

 なお、第1の光部品21とは、光ファイバ21a レンズ付きスリーブ21が一体となった光部 に該当し、第2の光部品はホルダ22に該当す ので、以降では、第1の光部品を単にスリー 21と呼び、第2の光部品22をホルダ22と呼ぶ。

 次に搭載台11の形状および電磁石11aの配 について説明する。図2は搭載台11の形状例 示す図である。搭載台11には、ホルダ22のつ 22bよりも小さい孔11bが空いている(電磁石11a は図示せず)。ホルダ22が搭載台11に搭載する には、孔11bにホルダ22が挿入し、つば22bで ルダ22が搭載台11に引っかかるような形で搭 される。

 図3は電磁石11aの配置パターン例を示す図 である。搭載台11に置かれた光モジュール20 、図1のY方向から見た図を示している。ホル ダ22の上部にスリーブ21が置かれ、ホルダ22の 下部には、4つの電磁石11a-1~11a-4が、調整すべ き光軸に対して均等の距離になるように搭載 台11上に配置されている。

 図4、図5は電磁石11aの設置位置を示す図 ある。図4は搭載台11の上面に電磁石11aが設 する図であり、図5は搭載台11の下面に電磁 11aが設置する図である。

 搭載台11が磁力を透過しない材質で構成 れる場合は、図4のように、電磁石11aは、搭 台11の上面に設置される。また、搭載台11が 磁力を透過する材質で構成される場合は、図 5のように、電磁石11aを搭載台11の下面に設置 するようにしてもよい。

 次に駆動部14について説明する。図6は光 ジュール20が発光モジュールの場合の駆動 御を説明するための図である。ホルダ22内部 の光学素子が発光素子22a-1ならば、光モジュ ル20は発光モジュールとなる。

 この場合、駆動部14では、制御部16からの 指示にもとづき、発光素子22a-1を駆動させて ホルダ22内部で発出した信号光を、ホルダ22 およびスリーブ21を通じて出力させる。すな ち、ホルダ22内の発光素子22a-1からの発出光 を、スリーブ21内のレンズ21cおよび光ファイ 21aを介して外部へ出力させる。

 図7は光モジュール20が受光モジュールの 合の駆動制御を説明するための図である。 ルダ22内部の光学素子が受光素子22a-2ならば 、光モジュール20は受光モジュールとなる。

 受光モジュールの場合は、駆動部14は、 御部16からの指示にもとづき、自ら信号光を 発出し、その信号光をスリーブ21からホルダ2 2へ透過させる。すなわち、駆動部14から出力 された信号光は、スリーブ21内の光ファイバ2 1aおよびレンズ21cと、ホルダ22の受光素子22a-2 を流れて外部へ出力する。

 次に光部品搭載の変形例について説明す 。図8は光部品搭載の変形例を示す図である 。図2の説明では、搭載台11にはホルダ22が挿 される孔11bが空いており、孔11bにホルダ22 挿入して、つば22bでホルダ22が搭載台11に引 かかるような形で搭載されるとしたが、こ ような搭載の仕方でなくてもかまわない。

 例えば、つば22bのないホルダ22に対して 、孔11bのない単に板状の搭載台11にホルダ22 載せて、ホルダ22が移動しないようにホル 22と搭載台11を治具などで固定する。そして ホルダ22の上にスリーブ21を載せて、磁力で スリーブ21を移動させてもよい。

 図8に示すように、搭載台11につば22bのな ホルダ22を搭載し、治具6でホルダ22と搭載 11を固定する。そして、ホルダ22の上にスリ ブ21を載せて、搭載台11の下面に取り付けた 電磁石11aの磁力によって、スリーブ21をホル 22上で移動させることができる。

 なお、ホルダ22内にある光学素子を駆動制 するために、駆動部14とホルダ22とを接続す 場合、必要であれば搭載台11の該当接続箇 付近に孔を空けておく。
 また、ホルダ22に受光素子が含まれる場合 は、駆動部14から与えた信号光が下方から出 力するように、搭載台11の光軸位置付近には 信号光が外部へ出力できるような孔を空け おく。このような形状変形は、搭載台11に して任意に行うものである。

 次に光モジュール20の製造工程として、 軸調整システム10の動作を含めて説明する。 図9は光モジュール20の製造工程を示すフロー チャートである。なお、電磁石11aの配置は図 3の配置パターンとする。

 〔S1〕ホルダ22の上部にスリーブ21を載せ 、これらの光部品を搭載台11の上に搭載す 。なお、スリーブ21は、磁性体の材質で構成 されるので、例えば、インバー、またはステ ンレスではSUS430、SUS410、SF20などの材質を使 する。また、ホルダ22は、非磁性体の材質で 構成されるので、例えば、ステンレスのSUS304 を使用する。

 〔S2〕磁力発生制御部13は、制御部16の指 にもとづき、電磁石11a-1~11a-4に対して、電 を供給し、電磁石11a-1~11a-4から磁力を発生さ せる。そして、搭載台11を介して、スリーブ2 1に磁力を印加して、スリーブ21をホルダ22に 着させる(スリーブ21とホルダ22は、搭載台11 を介して、磁力によって下方に引っ張られる ことになる)。

 なお、吸着状態とする場合には、電磁石1 1a-1~11a-4には所定の電流を流し、吸着に必要 磁力をあらかじめ発生させておき、ホルダ22 に対するスリーブ21の取り付け位置が、光結 の最適位置近傍となるように、電磁石11a-1~1 1a-4のそれぞれが発する磁力の強弱バランス 前もって調整しておく。

 〔S3〕光モジュール20が発光モジュールの場 合は、ステップS4へいき、受光モジュールの 合は、ステップS5へいく。
 〔S4〕発光モジュールの場合は、駆動部14は 、制御部16からの指示にもとづき、ホルダ22 部に含まれる発光素子を駆動して、ホルダ22 内部で発出した信号光を、ホルダ22およびス ーブ21を通じて出力させる。

 〔S5〕受光モジュールの場合は、駆動部14は 、制御部16からの指示にもとづき、自ら信号 を発出し、その信号光をスリーブ21からホ ダ22へ透過させる。
 〔S6〕光受信部15は、光モジュール20内部を 過出力した信号光を受光して受光レベルを 定し、測定値を制御部16へ送信する。

 ここで、光モジュール20が発光モジュー の場合は、図6で示したように、信号光は、 ルダ22からスリーブ21の順に通過して、スリ ーブ21の上部から出力するので、光受信部15 、スリーブ21の上部から出力した信号光を受 光する。

 また、光モジュール20が受光モジュール 場合は、図7で示したように、信号光は、ス ーブ21からホルダ22の順に通過して、ホルダ 22の下部から出力するので、光受信部15は、 ルダ22の下部から出力した信号光を受光する 。

 〔S7〕磁力発生制御部13は、制御部16の指 にもとづき、スリーブ21とホルダ22との吸着 状態を保ちながら(スリーブ21とホルダ22とを り合わせながら)、受光レベルの測定値が最 適値になるように、電磁石11a-1~11a-4の磁力強 および磁力発生パターンを個別に制御して スリーブ21を磁力により探索移動させて、 リーブ21とホルダ22との光結合部の光軸調整 行う。

 〔S8〕光軸調整が完了したら(受光レベルが 適値となったら)、ステップS9へいき、そう なければステップS7へ戻る。
 〔S9〕光軸調整の完了後、磁力発生制御部13 は、複数の電磁石11a-1~11a-4から現在発生して る磁力のバランスを保持したまま、磁力強 を全体的に増加させ、ホルダ22に対するス ーブ21の位置を強力に固定する。

 このステップS9の制御により、スリーブ21と ホルダ22とを最適位置で強力に密着させるこ ができるので、光部品間に隙間が発生する とを抑制することができる。
 〔S10〕レーザ溶接機30は、受光レベルの測 値が最適値となった、すなわち光軸ずれの いスリーブ21の位置で、スリーブ21およびホ ダ22とのレーザ溶接を行って固定接続し、 モジュール20を形成する。

 なお、搭載台11は、制御部16からの指示に もとづき、搭載台可動部12からの可動制御信 により、吸着工程や光軸調整の工程時、ま はレーザ溶接の工程時において、必要に応 て垂直方向および水平方向などの任意の方 に可動することができる。

 次に磁力制御について説明する。図10は 磁石11aと磁力発生制御部13を示す図である。 電磁石11aにはコイル13aが巻かれ、コイル13aの 先端には磁力発生制御部13が接続する。磁力 生制御部13は、制御部16から指示された電流 をコイル13aに流して、電磁石11aから発生する 磁力の強弱を調整する。

 図11は磁力制御によるスリーブ21の軌跡を 示す図である。スリーブ21を磁力によって移 させる場合には、移動方向にある電磁石だ から磁力を発生させるのではなく、移動方 とは逆方向にある電磁石からも弱めの磁力 発生させておく。これにより、スリーブ21 移動させている時に、スリーブ21が転倒しな いように制御することができる。特にスリー ブ21が細く倒れやすい形状のような場合には 効である。

 図11ではスリーブ21を電磁石11a-1の方向へ 動させる最も単純な例を示しており、この 合、電磁石11a-1から発生する磁力f1でスリー ブ21を図の上方向へ移動させるが、反対方向 位置する電磁石11a-3からも磁力f2を発生させ て(f1>f2)、スリーブ21を移動させる。

 このように、スリーブ21を一定方向へ移 させる場合、移動方向に引っ張る合成磁力 f1、逆方向に引っ張る合成磁力をf2とすれば f1>f2となるような磁力の発生制御を行っ 、スリーブ21の転倒を防止しながらゆっくり 移動させる。

 図12はスリーブ21とホルダ22とを吸着させ 場合の磁力制御を説明するための図である 縦軸は電流、横軸は時間である。磁力発生 御部13は、スリーブ21をホルダ22に吸着させ 場合には、電磁石11a-1~11a-4に対して、図12に 示すような、吸着に必要な一定レベルの電流 を供給する。そして、供給した電流にもとづ く磁力を電磁石11a-1~11a-4から発生させて、ス ーブ21とホルダ22とを一定の吸着状態に保持 させる。

 図13は光軸調整を行う場合の磁力制御を 明するための図である。縦軸は電流、横軸 時間である。磁力発生制御部13は、光軸調整 を行う場合、スリーブ21を移動させる方向に 置する電磁石11aに対して、図13に示すよう 、パルス状の電流を単調増加させながら供 する。

 そして、供給した電流にもとづく磁力を 磁石11a-1~11a-4から発生させて、スリーブ21を 、移動と停止を繰り返しながら所定位置まで 移動させる。所定位置に到達した場合は、一 定レベルの電流を供給してその位置で保持す る(例えば、光軸調整時に、図11のように、ス リーブ21を電磁石11a-1方向へ移動させる際に 、電磁石11a-1に対して図13のような電流が印 される)。

 このように、パルス状の電流値を単調増 させながら与えることで、段階的に細かく リーブ21を目的位置に移動させることがで 、光軸調整の精度を確保することが可能に る。

 以上説明したように、光軸調整システム1 0によれば、磁性体材質の第1の光部品と、非 性体材質の第2の光部品と、から構成される 光モジュールを形成する場合に、第1の光部 と、第2の光部品を搭載台に搭載し、搭載台 介して、第1の光部品に磁力を印加して、第 1の光部品を第2の光部品に吸着させる。そし 、第1の光部品と第2の光部品との吸着状態 保ちながら、受光レベルが最適値になるよ に、第1の光部品を磁力により探索移動させ 、第1の光部品と第2の光部品との結合部の 軸調整を行う構成とした。

 これにより、従来のクランプによる機械 な把持力で光部品間をすり合わせて光軸調 を行う場合に比べて、光軸位置の変動(光軸 ずれ)を抑制することができ、光軸調整の精 を大幅に向上させることが可能になる。

 また、光軸調整システム10による磁力に る光軸調整では、クランプが掴むことがで るスペースが光部品に不要なため、小さい 部品を搭載する場合や複数の光部品を近接 て配置させるような場合などにも対応する とが可能である。

 さらに、スリーブ21とホルダ22間の面が平 面状でない場合にも、精度よく光軸調整を行 うことができる。図14はスリーブとホルダ間 接触面が平面状でない光モジュールを示す である。図14に示すように、ホルダ22-1の上 が凸形状であり、スリーブ21-1の下面が凹形 状のような場合、従来のクランプによる把持 では精密に把持固定することは難しい。

 これに対し、光軸調整システム10では、 力によって光部品を引っ張り、かつ移動し 固定するので、凹凸形状のような接触面に しても、精密に光軸調整を行って光部品同 を密着固定することができ、光部品形状に して制限されることがない。これにより、 械的機構で把持しづらい光部品に対しても 易に高精度の光軸調整精度を得ることが可 である。

 上記については単に本発明の原理を示す のである。さらに、多数の変形、変更が当 者にとって可能であり、本発明は上記に示 、説明した正確な構成および応用例に限定 れるものではなく、対応するすべての変形 および均等物は、添付の請求項およびその 等物による本発明の範囲とみなされる。

符号の説明

 10 光軸調整システム
 11 搭載台
 11a 電磁石
 12 搭載台可動部
 13 磁力発生制御部
 14 駆動部
 15 光受信部
 16 制御部
 20 光モジュール
 21 第1の光部品
 22 第2の光部品