Die vorhegende Erfindung betrifft ein System für eine Projektionsbelichtungsan- lage und eine Projektionsbehchtungsanlage mit einem derartigen System.

Der Inhalt der Prioritätsanmeldung DE 10 2021 201 203.5 wird durch Bezug nahme vollumfän glich mit einbezogen.

Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrohthogra- phieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Be leuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindhchen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Sub strat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.

Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstel lung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen (Engl.: Extreme Ultraviolet, EUV) entwickelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm, verwenden. Bei solchen EUV-Lithographieanlagen müssen wegen der hohen Absorption der meisten Ma terialien von Licht dieser Wellenlänge reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von - wie bisher - brechenden Optiken, das heißt Linsen, eingesetzt wer den.

Die Forderung nach einer hohen numerischen Apertur führt zu größeren Opti ken und somit zu größeren Projektionssystemen, die empfindlich gegenüber me chanischen Anregungen werden. Daher sind weiche Vibrationsisolatoren erfor- derlich. Größere Massen bedingen allerdings steife Federn, so dass die gewichts resultierende Auslenkung keine hohen Spannungen hervorruft. Diese wider sprüchlichen Forderungen machen die Auslegung von klassischen Federsyste men sehr herausfordernd.

Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, ein verbessertes System für eine Projektionsbelichtungsanlage bereitzustehen.

Demgemäß wird ein System für eine Projektionsbelichtungsanlage vorgeschla gen. Das System umfasst ein erstes Bauteil, ein zweites Bauteil, und eine Ent kopplungseinrichtung, die dazu eingerichtet ist, das zweite Bauteil in mehr als einem Freiheitsgrad von mechanischen Anregungen des ersten Bauteils zu ent koppeln, wobei die Entkopplungseinrichtung erste Entkopplungselemente, die eine positive Steifigkeit aufweisen, und zweite Entkopplungselemente, die eine negative Steifigkeit aufweisen, umfasst, und wobei die Entkopplungseinrichtung ein drittes Bauteil, das zwischen dem ersten Bauteil und dem zweiten Bauteil angeordnet ist, umfasst.

Dadurch, dass die ersten Entkopplungselemente mit der positiven Steifigkeit und die zweiten Entkopplungselemente mit der negativen Steifigkeit vorgesehen sind, ist es möglich, um den jeweihgen Freiheitsgrad eine Nuhsteifigkeit zu er reichen. Hierdurch kann eine niedrige Entkopplungsfrequenz auch bei einer größeren Masse ermöglicht werden.

Die Bauteile können behebige Komponenten des Systems sein. Beispielsweise ist das erste Bauteil ein Tragrahmen (Engl. Force Frame) der Projektionsbelich- tungsanlage, und das zweite Bauteil ist ein Sensorrahmen (Engl. Sensor Frame) der Projektionsbelichtungsanlage. Das erste Bauteil kann daher auch als Trag rahmen bezeichnet werden. Das zweite Bauteil kann dementsprechend als Sen sorrahmen bezeichnet werden. Es kann jedoch auch eines der Bauteile ein optisches Element oder dergleichen sein. Prinzipiell kann das System beliebige Komponenten oder Rahmen umfas sen. Das System ist vorzugsweise ein Projektionssystem oder eine Projektionsop tik der Projektionsbelichtungsanlage oder ein Teil eines Projektionssystems. Das System kann jedoch auch ein Beleuchtungssystem oder Teil eines Beleuchtungs systems. Das System kann ein optisches System sein oder als optisches System bezeichnet werden.

Dass die Entkopplungseinrichtung dazu eingerichtet ist, das zweite Bauteil von dem ersten Bauteil zu "entkoppeln" bedeutet vorhegend insbesondere, dass die Entkopplungseinrichtung dazu eingerichtet ist, zu verhindern, dass Bewegun gen, insbesondere Vibrationen oder Schwingungen, die auf das erste Bauteil wirken, auf das zweite Bauteil übertragen werden.

Vorzugsweise ist dem System ein Koordinatensystem mit einer ersten Raum richtung oder c-Richtung, einer zweiten Raumrichtung oder y-Richtung und ei ner dritten Raumrichtung oder z-Richtung zugeordnet. Die erste Raumrichtung kann auch als Tiefenrichtung bezeichnet werden. Die zweite Raumrichtung kann auch als Breitenrichtung oder horizontale Richtung bezeichnet werden. Die drit te Raumrichtung kann auch als Hochrichtung oder vertikale Richtung bezeich net werden.

Dem Koordinatensystem sind sechs Freiheitsgrade zugeordnet, wobei jeweils ein linearer oder translatorischer Freiheitsgrad entlang beziehungsweise entgegen einer der zuvor genannten Raumrichtung vorgesehen ist. Somit ergeben sich drei translatorische Freiheitsgrade. Ferner ist um jede Raumrichtung ein rotato rischer Freiheitsgrad, also eine Drehung, vorgesehen. Somit ergeben sich drei rotatorische Freiheitsgrade. Insgesamt sind daher sechs Freiheitsgrade vorgese hen. Die Entkopplungseinrichtung ist dabei dazu eingerichtet, nicht in genau einem, sondern in mehr als einem Freiheitsgrad, das heißt in zumindest zwei Freiheits graden, eine Entkopplung des zweiten Bauteils von dem ersten Bauteil zu er möglichen. Diese beiden Freiheitsgrade können beispielsweise ein translatori scher Freiheitsgrad und ein rotatorischer Freiheitsgrad sein. Bei dem translato rischen Freiheitsgrad wird beispielsweise das erste Bauteil durch eine mechani sche Anregung von außen translatorisch gegenüber dem zweiten Bauteil bewegt. Die mechanischen Anregungen können auf das erste Bauteil wirkende Schwin gungen oder Vibrationen sein. Bei dem rotatorischen Freiheitsgrad vollzieht das erste Bauteil beispielsweise eine Kipp- oder Rotationsbewegung bezüghch des zweiten Bauteils.

Darunter, dass die ersten Entkopplungselemente eine "positive" Steifigkeit auf weisen, ist vorhegend zu verstehen, dass die ersten Entkopplungselemente bei einer Verformung oder Auslenkung derselben eine Kraft erzeugen, welche der Verformung oder der Auslenkung entgegenwirkt. Beispielsweise erzeugt eine Schraubenfeder, die gelängt wird, eine Kraft, die dieser Längenänderung entge genwirkt.

Im Gegensatz hierzu ist unter einer "negativen" Steifigkeit die Eigenschaft zu verstehen, dass die zweiten Entkopplungselemente bei einer Verformung oder Auslenkung derselben eine Kraft erzeugen, welche in Richtung der Verformung oder Auslenkung wirkt. Beispielsweise weist eine vorgespannte Druckfeder eine derartige negative Steifigkeit auf. Bei einer Längung einer derartigen vorge spannten Druckfeder erzeugt diese eine Kraft, die in Richtung der Längenände rung wirkt. Auch vorgespannte Blattfedern oder zwei Magnetelemente, die ent weder mit Ihren Südpolen oder Nordpolen einander zugewandt sind, weisen eine negative Steifigkeit auf. Die negative Steifigkeit und die positive Steifigkeit he- ben sich insbesondere auf, so dass die Entkopplungseinrichtung eine Nullsteifig ^¬ keit aufweist.

Gemäß einer Ausführungsform ist die Entkopplungseinrichtung dazu eingerich ^¬ tet, das zweite Bauteil in sechs Freiheitsgraden von mechanischen Anregungen des ersten Bauteils zu entkoppeln.

Die Entkopplungseinrichtung kann auch dazu eingerichtet sein, das zweite Bau ^¬ teil nur in drei, vier oder fünf Freiheitsgraden von mechanischen Anregungen des ersten Bauteils zu entkoppeln. Die Entkopplungseinrichtung ist jedoch für eine Entkopplung von zumindest zwei Freiheitsgraden geeignet.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind die ersten Entkopplungselemente Federelemente, wobei die zweiten Entkopplungselemente Magnetelemente oder vorgespannte Federelemente sind.

Die ersten Entkopplungselemente können beispielsweise Schraubenfedern, Blattfedern oder Blattfederpakete sein. Insbesondere sind die ersten Entkopp ^¬ lungselemente Druckfedern. Die zweiten Entkopplungselemente sind beispiels ^¬ weise Magnetelemente in Form von Permanentmagneten. Alternativ können die zweiten Entkopplungselemente auch vorgespannte Schraubenfedern, Tellerfe ^¬ dern oder Tellerfederpakete sein. Besonders bevorzugt sind die zweiten Entkopp ^¬ lungselemente vorgespannte Schraubenfedern. "Vorgespannt" bedeutet insbe ^¬ sondere, dass die Federelemente unter einer Vorspannung montiert sind. Im Falle von vorgespannten Druckfedern sind diese beispielsweise zusammenge ^¬ drückt oder komprimiert.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind die zweiten Entkopplungselemente paarweise angeordnet. Insbesondere sind die zweiten Entkopplungselemente dann paarweise angeord net, wenn diese als Magnetelemente ausgebildet sind. Dabei sind immer zwei Magnetelemente zu einem Magnetelementpaar zusammengefasst. Die Magne telemente eines Magnetelementpaares sind derart angeordnet, dass entweder deren Nordpole oder deren Südpole einander zugewandt angeordnet sind, so dass die Magnetelemente eines Magnetelementpaares einander abstoßen. Zwi schen den Magnetelementen eines Magnetelementpaares ist dementsprechend ein Luftspalt angeordnet.

Die Entkopplungseinrichtung umfasst ein drittes Bauteil, das zwischen dem ers ten Bauteil und dem zweiten Bauteil angeordnet ist.

Das dritte Bauteil kann auch als Zwischenbauteil oder Zwischenrahmen be zeichnet werden. Vorzugsweise ist das dritte Bauteil mit dem ersten Bauteil wirkverbunden, wobei das zweite Bauteil mit dem dritten Bauteil wirkverbun den ist.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind die ersten Entkopplungselemente und die zweiten Entkopplungselemente zwischen dem ersten Bauteil und dem dritten Bauteil angeordnet.

Vorzugsweise sind die als Federelemente ausgebildeten ersten Entkopplungs elemente derart angeordnet, dass diese entlang der dritten Raumrichtung oder z-Richtung orientiert sind. Beispielsweise sind vier erste Entkopplungselemente vorgesehen, welche an Ecken des dritten Bauteils platziert sind. Dabei sind die ersten Entkopplungselemente vorzugsweise zwischen dem dritten Bauteil und horizontal angeordneten Arm ab schnitten des ersten Bauteils platziert.

Die zweiten Entkopplungselemente sind für den Fall, dass diese als Magnetele mente ausgebildet sind, derart angeordnet, dass die Magnetelementpaare eines Magnetelementpaares sich entlang der zweiten Raumrichtung oder y-Richtung betrachtet abstoßen. Die Magnetelementpaare sind entlang der zweiten Raum richtung betrachtet beidseits an dem dritten Bauteil platziert. Ein Magnetele ment jedes Magnetelementpaares ist fest mit dem ersten Bauteil verbunden. Für den Fall, dass die zweiten Entkopplungselemente vorgespannte Federelemente sind, sind diese Federelemente mit Hilfe von Druckstäben mit dem dritten Bau teil gekoppelt. Die Druckstäbe sind mit Hilfe von Festkörper gelenken zum einen mit dem dritten Bauteil und zum anderen mit dem jeweiligen vorgespannten Federelement verbunden.

In einem unausgelenkten Zustand des ersten Bauteils oder des dritten Bauteils befinden sich die zweiten Entkopplungselemente in einem Gleichgewichtszu stand. Das heißt, die zweiten Entkopplungselemente, die beidseits des dritten Bauteils angeordnet sind, erzeugen nur in der zweiten Raumrichtung oder y- Richtung wirkende Kräfte, die sich gegenseitig aufheben, da die Magnetele mentpaare beidseits des dritten Bauteils angeordnet sind.

Sobald die zweiten Entkopplungselemente aus dem Gleichgewichtszustand gera ten, beispielsweise bei einer schwingungsbedingten Auslenkung des ersten Bau teils gegenüber dem dritten Bauteil, bringen die zweiten Entkopplungselemente Kräfte auf das dritte Bauteil auf, welche gegen von den ersten Kopplungsele menten auf das dritte Bauteil aufgebrachten Kräften wirken. Die Kräfte der ers ten Entkopplungselemente und der zweiten Kopplungselemente heben sich ge genseitig auf, so dass eine kraftfreie Auslenkung des dritten Bauteils gegenüber dem ersten Bauteil und umgekehrt möglich ist.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist das zweite Bauteil mit Hilfe von dritten Entkopplungselementen, die eine Entkopplung des zweiten Bauteils von dem dritten Bauteil in einer horizontalen Richtung bewirken, an dem dritten Bauteil aufgehängt. Die horizontale Richtung entspricht, wie zuvor erwähnt der zweiten Raumrich- tung beziehungsweise der y-Richtung. "Aufgehängt" bedeutet vorliegend insbe sondere, dass die Entkopplungselemente keine Druckkräfte, sondern nur Zug kräfte übertragen können. Beispielsweise übertragen die dritten Entkopplungs- elemente eine Gewichtskraft des zweiten Bauteils auf das dritte Bauteil.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind die dritten Entkopplungselemente Zugseile.

Die Zugseile können parallelogrammartig angeordnet sein. Beispielsweise sind zumindest drei Zugseile vorgesehen. Es können auch vier Zugseile vorgesehen sein. Die Zugseile können beispielsweise Stahlseile oder Kunststoffseile sein. Auch Ketten können als Zugseile fungieren.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind die dritten Entkopplungselemente Zugstäbe, wobei die dritten Entkopplungselemente eine positive Steifigkeit auf weisen.

Die dritten Entkopplungselemente sind vorzugsweise jeweils mit Hilfe von Fest körpergelenken mit dem zweiten Bauteil und dem dritten Bauteil verbunden.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst das System ferner vierte Ent kopplungselemente, die jeweils zwischen dem zweiten Bauteil und dem dritten Bauteil sowie zwischen dem zweiten Bauteil und dem ersten Bauteil angeordnet sind, wobei die vierten Entkopplungselemente eine negative Steifigkeit aufwei sen.

Die Zugstäbe können in der horizontalen Richtung geringe Querkräfte übertra gen. Um diese zu kompensieren sind die vierten Entkopplungselemente vorgese- hen. Dadurch, dass die dritten Entkopplungselemente eine positive Steifigkeit und die vierten Entkopplungselemente eine negative Steifigkeit aufweisen, ergibt sich entlang der horizontalen Richtung oder y-Richtung eine Nullsteifig keit. Es ist somit auch eine ausreichende Entkopplung des zweiten Bauteils von dem ersten Bauteil in der horizontalen Richtung möglich.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind die vierten Entkopplungselemente Magnetelemente.

Vorzugsweise sind die Magnetelemente paarartig in Magnetelementpaaren an geordnet. Die Magnetelemente eines Magnetelementpaares sind derart angeord net, dass entweder deren Südpole oder deren Nordpole einander gegenüberlie gend angeordnet sind, so dass sich die Magnetelemente des jeweiligen Magne telementpaares gegenseitig abstoßen. Beispielsweise ist entlang der z-Richtung betrachtet ein Magnetelementpaar zwischen dem zweiten Bauteil und dem drit ten Bauteil angeordnet. Ein zweites Magnetelementpaar ist entlang der z- Richtung betrachtet zwischen dem zweiten Bauteil und dem ersten Bauteil plat ziert.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst das System ferner ein viertes Bauteil, das zwischen dem ersten Bauteil und den vierten Entkopplungselemen ten, die zwischen dem zweiten Bauteil und dem ersten Bauteil angeordnet sind, angeordnet ist, wobei das vierte Bauteil mit Hilfe von fünften Entkopplungsele menten von dem ersten Bauteil entkoppelt ist.

Mit Hilfe der fünften Entkopplungselemente kann somit verhindert werden, dass Anregungen des ersten Bauteils auf dasjenige vierte Entkopplungselement aufgebracht werden, welches dem ersten Bauteil zugeordnet ist. Das vierte Bau teil kann beispielsweise plattenförmig sein. Vorzugsweise sind vier fünfte Ent- kopplungselemente vorgesehen, welche das vierte Bauteil an dem ersten Bauteil lagern.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind die fünften Entkopplungselemente Federelemente.

Vorzugsweise sind die fünften Entkopplungselemente Druckfedern. Für die fünf ten Entkopplungselemente werden vorzugsweise besonders weiche Federelemen te eingesetzt.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind die ersten Entkopplungselemente dazu eingerichtet, bei einer Auslenkung derselben erste Kräfte auf das dritte Bauteil aufzubringen, welche entgegen einer Auslenkungsrichtung der ersten Entkopplungselemente orientiert sind, wobei die zweiten Entkopplungselemente dazu eingerichtet sind, bei einer Auslenkung derselben zweite Kräfte auf das dritte Bauteil aufzubringen, welche in einer Auslenkungsrichtung der zweiten Entkopplungselemente orientiert sind, und wobei sich die ersten Kräfte und die zweiten Kräfte gegenseitig aufheben, so dass das dritte Bauteil kraftfrei aus lenkbar ist.

Die Auslenkung des dritten Bauteils gegenüber dem ersten Bauteil kann dadurch erfolgen, dass sich das erste Bauteil, beispielsweise vibrationsbedingt, gegenüber dem dritten Bauteil bewegt und/oder verkippt. Wie zuvor erwähnt, befinden sich die zweiten Entkopplungselemente zunächst in einem Gleichge wichtszustand, in welchem diese entlang der y-Richtung wirkende gegensinnig orientierte Kräfte auf das dritte Bauteil aufbringen. Diese Kräfte heben sich ge genseitig auf. Sobald das dritte Bauteil ausgelenkt wird, beispielsweise durch ein Verdrehen des ersten Bauteils gegenüber dem dritten Bauteil, geraten die zweiten Entkopplungselemente aus ihrer Gleichgewichtslage, wodurch diese schräg orientierte Kräfte auf das dritte Bauteil aufbringen, welche in einen hori- zontalen Kraftanteil und in einen vertikalen Kraftanteil zerlegbar sind. Bei der Auslenkung des ersten Bauteils werden auch die ersten Entkopplungselemente verformt, so dass diese ebenfalls Kräfte auf das dritte Bauteil aufbringen. Die Kräfte der ersten Entkopplungselemente wirken stets entlang der z-Richtung. Diese von den ersten Entkopplungselementen aufgebrachten Kräfte wirken ent gegen der vertikalen Kraftanteile der von den zweiten Entkopplungselementen aufgebrachten Kräfte. Die vertikalen Kraftanteile sowie die von den ersten Ent kopplungselementen aufgebrachten Kräfte heben sich gegenseitig auf. Ferner heben sich auch die horizontalen Kraftanteile der schräg wirkenden Kräfte der zweiten Entkopplungselemente gegenseitig auf. Hierdurch ist die kraftfreie Aus lenkbarkeit des dritten Bauteils gegeben.

Ferner wird eine Projektionsbelichtungsanlage mit zumindest einem derartigen System vor geschlagen.

Die Projektionsbelichtungsanlage kann eine EUV-Lithographieanlage oder eine DUV-Lithographieanlage sein. EUV steht für "Extreme Ultraviolet" und be zeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. DUV steht für "Deep Ultraviolet" und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm.

"Ein" ist vorliegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die genann te Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichun gen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteihges angegeben ist. Die für das System beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für die vorgeschlagene Projektionsbelichtungsanlage entsprechend und umgekehrt.

Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht expli zit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausfüh rungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegen stand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungs beispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzug ten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.

Fig. 1 zeigt einen schematischen Meridionalschnitt einer Projektionsbelich- tungsanlage für die EUV-Projektionslithographie;

Fig. 2 zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform eines Systems für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß Fig. Y,

Fig. 3 zeigt eine weitere schematische Ansicht des Systems gemäß Fig. 2;

Fig. 4 zeigt schematisch Kräfte, die auf ein Zwischenbauteil des Systems gemäß Fig. 1 wirken;

Fig. 5 zeigt eine weitere schematische Ansicht des Systems gemäß Fig. Y,

Fig. 6 zeigt schematisch Kräfte, die auf ein Zwischenbauteil des Systems gemäß Fig. 5 wirken; Fig. 7 zeigt eine schematische Ansicht einer weiteren Ausführungsform eines Systems für die Projektionsbehchtungsanlage gemäß Fig. L

Fig. 8 zeigt eine weitere schematische Ansicht des Systems gemäß Fig. T,

Fig. 9 zeigt schematisch Kräfte, die auf ein Zwischenbauteil des Systems gemäß Fig. 7 wirken; und

Fig. 10 zeigt eine schematische Ansicht einer weiteren Ausführungsform eines Systems für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß Fig. 1.

In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Be zugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendi gerweise maßstabsgerecht sind.

Fig. 1 zeigt eine Ausführungsform einer Projektionsbehchtungsanlage 1 (Litho graphieanlage). Eine Ausführung eines Beleuchtungssystems 2 der Projektions belichtungsanlage 1 hat neben einer Licht- beziehungsweise Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objekt ebene 6. Bei einer alternativen Ausführung kann die Lichtquelle 3 auch als ein zum sonstigen Beleuchtungssystem 2 separates Modul bereitgestellt sein. In die sem Fall umfasst das Beleuchtungssystem 2 die Lichtquelle 3 nicht.

Belichtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverla- gerungsantrieb 9, insbesondere in einer Scanrichtung, verlagerbar. In der Fig. 1 ist zur Erläuterung ein kartesisches Koordinatensystem mit einer c-Richtung x, einer y-Richtung y und einer z-Richtung z eingezeichnet. Die x- Richtung x verläuft senkrecht zur Zeichenebene hinein. Die y-Richtung y ver läuft horizontal und die z-Richtung z verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in der Fig. 1 längs der y-Richtung y. Die z-Richtung z verläuft senkrecht zur Ob jektebene 6.

Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine Projektionsoptik 10. Die Pro jektionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in ei ner Bildebene 12. Die Bildebene 12 verläuft parallel zur Objektebene 6. Alterna tiv ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12 möglich.

Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y-Richtung y verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Retikelverlagerungsan trieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Wafer- verlagerungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen.

Bei der Lichtquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Licht quelle 3 emittiert insbesondere EUV- Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung 16 hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwi schen 5 nm und 30 nm. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (Engl7 Laser Produced Plasma, mit Hilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (Engl7 Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Licht- quelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (Engl.: Free-Electron- Laser, FEL) handeln.

Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Lichtquelle 3 ausgeht, wird von ei nem Kollektor 17 gebündelt. Bei dem Kollektor 17 kann es sich um einen Kollek tor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexions flächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 17 kann im streifenden Einfall (Engl.: Grazing Incidence, Gl), also mit Einfallswinkeln größer als 45°, oder im normalen Einfall (Normal Incidence, NI), also mit Ein fallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt wer den. Der Kollektor 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht struktu riert und/oder beschichtet sein.

Nach dem Kollektor 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Lichtquelle 3 und den Kollektor 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen.

Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strah lengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spie gel mit einer über die reine Umlenkungs Wirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzhch kann der Umlenkspiegel 19 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungs strahlung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 20 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 an geordnet ist, die zur Objektebene 6 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 20 um- fasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 21, welche im auch als Feldfa- cetten bezeichnet werden können. Von diesen ersten Facetten 21 sind in der Fig. 1 nur beispielhaft einige dargestellt.

Die ersten Facetten 21 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 21 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein.

Wie beispielsweise aus der DE 10 2008 009 600 Al bekannt ist, können die ers ten Facetten 21 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbe sondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Fa cettenspiegel 20 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die DE 10 2008 009 600 Al verwiesen.

Zwischen dem Kollektor 17 und dem Umlenkspiegel 19 verläuft die Beleuch tungsstrahlung 16 horizontal, also längs der y-Richtung y.

Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Sofern der zweite Facettenspiegel 22 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 22 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 20 und dem zweiten Facettenspiegel 22 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der US 2006/0132747 Al, der EP 1 614 008 Bl und der US 6,573,978. Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23. Die zweiten Facetten 23 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet.

Bei den zweiten Facetten 23 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facet ten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein kön nen, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die DE 10 2008 009 600 Al verwiesen.

Die zweiten Facetten 23 können plane oder alternativ konvex oder konkav ge krümmte Reflexionsflächen aufweisen.

Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Wabenkondensor (Engl.: Fly‘s Eye Integra tor) bezeichnet.

Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist, anzuordnen. Insbesondere kann der zweite Facettenspiegel 22 gegenüber einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 verkippt angeordnet sein, wie es zum Beispiel in der DE 10 2017220 586 Al beschrieben ist.

Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungs strahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5.

Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Ob jektfeld 5 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbil- düng der ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufwei sen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 angeord net sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (NPSpiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (GPSpiegel, Grazing Incidence Spiegel) um fassen.

Die Beleuchtungsoptik 4 hat bei der Ausführung, die in der Fig. 1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 17 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 19, den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.

Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann der Umlenkspiegel 19 auch entfahen, so dass die Beleuchtungsoptik 4 nach dem KoUektor 17 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.

Die Abbildung der ersten Facetten 21 mittels der zweiten Facetten 23 bezie hungsweise mit den zweiten Facetten 23 und einer Übertragungsoptik in die Ob jektebene 6 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.

Die Projektionsoptik 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durch nummeriert sind.

Bei dem in der Fig. 1 dargestehten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 10 sechs Spiegel Ml bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer an deren Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuch- tungsstrahhmg 16. Die Projektionsoptik 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die bei spielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann.

Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotations symmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, hochreflektierende Beschichtungen für die Be leuchtungsstrahlung 16 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer- Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Sili zium, gestaltet sein.

Die Projektionsoptik 10 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung y zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 5 und einer y- Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 11. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y- Richtung y kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebe ne 6 und der Bildebene 12.

Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe ßx, ßy in x- und y- Richtung x, y auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe ßx, ßy der Projektionsoptik 10 liegen bevorzugt bei (ßx, ßy) = (+/- 0,25, /+- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaß- stab ß bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab ß bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr.

Die Projektionsoptik 10 führt somit in c-Richtung x, das heißt in Richtung senk recht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 4 1. Die Projektionsoptik 10 führt in y-Richtung y, das heißt in Scanrichtung, zu ei ner Verkleinerung von 8J.

Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung x, y, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich.

Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung x, y im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 11 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 10, unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwi schenbilder in x- und y-Richtung x, y sind bekannt aus der US 2018/0074303 Al.

Jeweils eine der zweiten Facetten 23 ist genau einer der ersten Facetten 21 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der ersten Facetten 21 in eine Vielzahl an Objektfeldern 5 zerlegt. Die ersten Facetten 21 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten zweiten Facetten 23.

Die ersten Facetten 21 werden jeweils von einer zugeordneten zweiten Facette 23 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 auf das Retikel 7 abgebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist insbesondere möghchst ho mogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuch tungskanäle erreicht werden.

Durch eine Anordnung der zweiten Facetten 23 kann geometrisch die Ausleuch tung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 definiert werden. Durch Aus- wähl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der zweiten Facetten 23, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting oder Beleuchtungspupillenfüllung bezeichnet.

Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuch teter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden.

Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objekt feldes 5 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 be schrieben.

Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein.

Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 lässt sich regelmäßig mit dem zwei ten Facettenspiegel 22 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projek tionsoptik 10, welche das Zentrum des zweiten Facettenspiegels 22 telezentrisch auf den Wafer 13 abbildet, schneiden sich die Apertur strahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.

Es kann sein, dass die Projektionsoptik 10 unterschiedliche Lagen der Ein trittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bau element der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Retikel 7 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.

Bei der in der Fig. 1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuch ^¬ tungsoptik 4 ist der zweite Facettenspiegel 22 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 konjugierten Fläche angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zur Objektebene 6 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 19 defi ^¬ niert ist. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 22 definiert ist.

Fig. 2 und Fig. 3 zeigen jeweils eine schematische Ansicht einer Ausführungs ^¬ form eines Systems lOOAfür die Projektionsbelichtungsanlage 1. Das System 100A kann beispielsweise eine wie zuvor erläuterte Projektionsoptik 10 oder Teil der Projektionsoptik 10 sein. Dem System 100A ist ein wie zuvor erwähntes Ko ^¬ ordinatensystem mit einer ersten Raumrichtung oder c-Richtung x, einer zwei ^¬ ten Raumrichtung oder y-Richtung y und einer dritten Raumrichtung oder z- Richtung z zugeordnet.

Das System 100A umfasst ein erstes Bauteil 102 und ein zweites Bauteil 104.

Die Bauteile 102, 104 können beliebige Komponenten der Projektionsoptik 10 sein. Nachfolgend wird davon ausgegangen, dass das erste Bauteil 102 ein Trag ^¬ rahmen (Engl.: Force Frame) ist. Das erste Bauteil 102 wird daher nachfolgend als Tragrahmen bezeichnet. Das zweite Bauteil 104 ist ein Sensorrahmen (Engl.: Sensor Frame) und wird nachfolgend als solcher bezeichnet. Der Sensorrahmen 104 kann eine Sensorik (nicht gezeigt) tragen.

Der Tragrahmen 102 weist eine im Wesenthchen U-förmige Struktur auf, die sich entlang der c-Richtung x erstreckt. Der Tragrahmen 102 kann jedoch jede beliebige Geometrie aufweisen. Der Tragrahmen 102 umfasst einen Basisab- schnitt 106 und zwei Wandabschnitte 108, 110, die seitlich an dem Basisab ^¬ schnitt 106 vorgesehen sind. Aus den Wandabschnitten 108, 110 ragen jeweils Armabschnitte 112, 114 heraus, die sich in Richtung des jeweils gegenüberlie ^¬ genden Wandabschnitts 108, 110 erstrecken.

Der Sensorrahmen 104 ist stark vereinfacht als blockförmiges oder quaderförmi ^¬ ges Bauteil dargestellt. Der Sensorrahmen 104 kann jedoch jede beliebige Geo ^¬ metrie aufweisen. Der Sensorrahmen 104 ist innerhalb des Tragrahmens 102 angeordnet. Das heißt, der Tragrahmen 102 umgibt den Sensorrahmen 104 zu ^¬ mindest abschnittsweise.

Das System 100A umfasst eine Entkopplungseinrichtung 200A, die geeignet ist, zu verhindern, dass eine mechanische Anregung des Tragrahmens 102 von au ^¬ ßen auf den Sensorrahmen 104 übertragen wird. Die Entkopplungseinrichtung 200A entkoppelt somit den Sensorrahmen 104 von dem Tragrahmen 102. Die Entkopplungseinrichtung 200A umfasst ein Zwischenbauteil 202, welches in ei ^¬ nen Kraftpfad zwischen den Tragrahmen 102 und den Sensorrahmen 104 ge ^¬ schaltet ist. Das Zwischenbauteil 202 ist blockförmig oder quaderförmig. Das Zwischenbauteil 202 kann jedoch jede behebige Geometrie aufweisen. Im vorlie ^¬ genden Fall ist das Zwischenbauteil 202 ein Zwischenrahmen und wird nachfol ^¬ gend auch so bezeichnet.

Der Zwischenrahmen 202 ist mit Hilfe von biegeweichen dritten Entkopplungs ^¬ elementen 204, 206 mit dem Sensorrahmen 104 gekoppelt. Die dritten Entkopp ^¬ lungselemente 204, 206 können als Seile oder Zugseile bezeichnet werden. "Bie ^¬ geweich" in diesem Zusammenhang bedeutet, dass die dritten Entkopplungsele ^¬ mente 204, 206 nur entgegen der z-Richtung z orientierte Zugkräfte, beispiels ^¬ weise resultierend aus einer Gewichtskraft des Sensorrahmens 104, übertragen können. In den übrigen Richtungen x, y können keine Kräfte übertragen werden. Es können beispielsweise vier dritte Entkopplungselemente 204, 206 vorgesehen sein, die entlang der y-Richtung y und entlang der c-Richtung x voneinander be- abstandet angeordnet sind. Es können jedoch auch nur drei dritte Entkopp- lungselemente 204, 206 vorgesehen sein.

Die dritten Entkopplungselemente 204, 206 sind an Anbindungspunkten 208,

210 an den Zwischenrahmen 202 angebunden. Die Anbindungspunkte 208, 210 sind entlang der y-Richtung y voneinander beabstandet platziert. Ferner sind die dritten Entkopplungselemente 204, 206 mit Hilfe von Anbindungspunkten 211, 214 an den Sensorrahmen 104 angebunden. Es sind noch weitere Anbin ^¬ dungspunkte (nicht gezeigt) vorgesehen, die entlang der c-Richtung x betrachtet von den Anbindungspunkten 208, 210 beabstandet angeordnet sind. Die dritten Entkopplungselemente 204, 206 können Seile, insbesondere Stahlseile oder Kunststoffseile, sein, welche in den Zwischenrahmen 202 und den Sensorrahmen 104 eingehängt sind.

Die Entkopplungseinrichtung 200A umfasst ferner erste Entkopplungselemente 216, 218, die zwischen dem Zwischenrahmen 202 und dem Tragrahmen 102 an ^¬ geordnet sind. Die ersten Entkopplungselemente 216, 218 sind Federelemente und können auch als solche bezeichnet werden. Vorzugsweise sind vier erste Entkopplungselemente 216, 218 vorgesehen, wobei für den Fall, dass der Zwi ^¬ schenrahmen 202 viereckig ist, an jeder Ecke des Zwischenrahmens 202 ein ers ^¬ tes Entkopplungselement 216, 218 angebracht ist. Die ersten Entkopplungsele ^¬ mente 216, 218 sind zwischen den Armabschnitten 112, 114 des Tragrahmens 102 und dem Zwischenrahmen 202 platziert. Die Armabschnitte 112, 114 tragen also die ersten Entkopplungselemente 216, 218. Auf den ersten Entkopplungs ^¬ elementen 216, 218 lastet eine Gewichtskraft des Zwischenrahmens 202 und die zuvor erwähnte Gewichtskraft des Sensorrahmens 104, die über die dritten Ent ^¬ kopplungselemente 204, 206 auf den Zwischenrahmen 202 übertragen wird. Die ersten Entkopplungselemente 216, 218 sind Schraubenfedern. Die ersten Entkopplungselemente 216, 218 können jedoch auch Tellerfedern oder Tellerfe derpakete sein. Die ersten Entkopplungselemente 216, 218 sind zum einen ent lang der z-Richtung z auseinanderziehbar und zum anderen entgegen der z- Richtung z komprimierbar. Die ersten Entkopplungselemente 216, 218 können Druckfedern sein. Der Begriff "Druckfedern" schließt jedoch nicht aus, dass die ersten Entkopplungselemente 216, 218 auch auseinandergezogen werden kön nen.

Die Entkopplungseinrichtung 200A weist zweite Entkopplungselemente 220,

222, 224, 226 auf. Die zweiten Entkopplungselemente 220, 222, 224, 226 sind Magnetelemente und können auch als solche bezeichnet werden. Die zweiten Entkopplungselemente 220, 222, 224, 226 sind Permanentmagnete. Die zweiten Entkopplungselemente 220, 222, 224, 226 sind in Form von Magnetelementpaa ren 228, 230 beidseits des Zwischenrahmens 202 platziert. Der Zwischenrahmen 202 ist entlang der y-Richtung y betrachtet zwischen den zweiten Entkopplungs elementen 222, 224 platziert. Dabei bilden die zweiten Entkopplungselemente 220, 222 ein erstes Magnetelementpaar 228. Die zweiten Entkopplungselemente 224, 226 bilden ein zweites Magnetelementpaar 230.

Die zweiten Entkopplungselemente 220, 226 sind fest mit dem Tragrahmen 102 verbunden. Die zweiten Entkopplungselemente 222, 224 sind fest mit dem Zwi schenrahmen 202 verbunden. Dabei ist zwischen den zweiten Entkopplungsele menten 220, 222 und den zweiten Entkopplungselementen 224, 226 jeweils ein Luftspalt 232, 234 vorgesehen. Jedes zweite Entkopplungselement 220, 222, 224, 226 weist einen Nordpol N und einen Südpol S auf. Die zweiten Entkopplungs elemente 220, 222, 224, 226 sind derart platziert, dass der Nordpol N und der Südpol S entlang der y-Richtung y betrachtet nebeneinander angeordnet sind. Die zweiten Entkopplungselemente 220, 222, 224, 226 jedes Magnetelementpaa res 228, 230 sind dabei derart angeordnet, dass die Südpole S einander zuge- wandt angeordnet sind. Die zweiten Entkopplungselemente 220, 222, 224, 226 jedes Magnetelementpaares 228, 230 stoßen sich somit ab.

Die Funktionalität der Entkopplungseinrichtung 200A wird nachfolgend erläu ^¬ tert. Die Fig. 2 zeigt das System 100A in einer Gleichgewichtslage, in dem der Tragrahmen 102 nicht ausgelenkt ist. In der Gleichgewichtslage sind die Südpo ^¬ le S der zweiten Entkopplungselemente 220, 222, 224, 226 einander gegenüber ^¬ liegend platziert. Die Fig. 3 zeigt das System 100A in einem ausgelenkten Zu ^¬ stand. In dem ausgelenkten Zustand wird der Tragrahmen 102, beispielsweise durch Vibrationen, ausgelenkt, wie in der Fig. 3 mit Hilfe eines Pfeils 236 ange ^¬ deutet ist. Der Tragrahmen 102 bewegt sich aufgrund seiner Auslenkung in der Orientierung der Fig. 3 entgegen der z-Richtung z nach unten.

Aufgrund seiner Massenträgheit verbleibt der Zwischenrahmen 202 zunächst in seiner Ausgangsposition, wodurch sich der Tragrahmen 102 von dem Zwischen ^¬ rahmen 202 wegbewegt und die ersten Entkopplungselemente 216, 218 gelängt werden. Das Längen der ersten Entkopplungselemente 216, 218 bewirkt, dass jedes erste Entkopplungselement 216, 218 eine Kraft F216, F218 auf den Zwi ^¬ schenrahmen 202 aufbringt. Die Kräfte F216, F218 sind entgegen der z-Richtung z orientiert. Die Kräfte F216, F218 wirken also entgegen der Auslenkung der ersten Entkopplungselemente 216, 218.

Bei dem Auslenken des Tragrahmens 102 werden die dem Tragrahmen 102 zu ^¬ geordneten zweiten Entkopplungselemente 220, 226 gegenüber den zweiten Entkopplungselementen 222, 224, die dem Zwischenrahmen 202 zugeordnet sind, ausgelenkt. Es werden auf den Zwischenrahmen 202 wirkende Kräfte F222, F224 erzeugt, welche schräg zu den Kräften F216, F218 orientiert sind.

Fig. 4 zeigt sehr stark schematisiert die auf den Zwischenrahmen 202 wirkenden Kräfte F216, F218, F222, F224. Wie zuvor erwähnt, wirken die Kräfte F216, F218 entgegen der z-Richtung z. Die schräg wirkenden Kräfte F222, F224 lassen sich jeweils in einen horizontalen Kraftanteil F222h, F224h und in einen verti kalen Kraftanteil F222v, F224v zerlegen. Die horizontalen Kraftanteile F222h, F224h wirken entgegen und in der y-Richtung y. Die horizontalen Kraftanteile F222h, F224h sind gleich groß und wirken gegensinnig, so dass sich die horizon talen Kraftanteile F222h, F224h gegenseitig aufheben. In horizontaler Richtung beziehungsweise entlang und entgegen der y-Richtung y ist der Zwischenrahmen 202 also kraftfrei.

Die vertikalen Kraftanteile F222v, F224v wirken entlang der z-Richtung z und damit entgegen den Kräften F216, F218. Die vertikalen Kraftanteile F222v, F224v und die Kräfte F216, F218 sind gleich groß. Die vertikalen Kraftanteile F222v, F224v und die Kräfte F216, F218 heben sich somit auf. Der Zwischen rahmen 202 ist demnach stets kraftfrei. Aus dieser Kraftfreiheit resultiert eine sehr geringe Eigenfrequenz.

Die ersten Entkopplungselemente 216, 218 weisen in der z-Richtung z betrachtet eine positive Steifigkeit auf. Das heißt, dass die Kräfte F216, F218 entgegen ei ner Auslenkungsrichtung der ersten Entkopplungselemente 216, 218 bezie hungsweise entgegen einer Auslenkungsrichtung des Zwischenrahmens 202 ge genüber dem Tragrahmen 102 oder umgekehrt orientiert sind. Die Magnetele mentpaare 228, 230 weisen im Gegensatz hierzu in der z-Richtung z betrachtet eine negative Steifigkeit auf.

Das heißt, dass die Kräfte F222, F224, insbesondere die vertikalen Kraftanteile F222v, F224v, in einer Auslenkungsrichtung des Zwischenrahmens 202 gegen über dem Tragrahmen 102 orientiert sind. Es ergibt sich dadurch in der z- Richtung z eine Nullsteifigkeit der Entkopplungseinrichtung 200A. In horizonta ler Richtung beziehungsweise in der y-Richtung y kann mit Hilfe einer Paral- lelanordnung der dritten Entkopplungselemente 204, 206 in Form von Seilen eine sehr niedrige Entkopplungsfrequenz erreicht werden.

Fig. 5 zeigt eine weitere Ansicht des Systems 100A, wobei der Tragrahmen 102 in diesem Fall durch eine Verdrehung beziehungsweise eine Verkippung gegen ^¬ über dem Sensorrahmen 104 angeregt wird, wie mit Hilfe eines Pfeils 236 ange ^¬ deutet ist. Bei der Verdrehung des Tragrahmens 102 wird das erste Entkopp ^¬ lungselement 216 komprimiert und das erste Entkopplungselement 218 gelängt. Hierdurch bringt das erste Entkopplungselement 216 eine in der z-Richtung z wirkende Kraft F216 auf den Zwischenrahmen 202 auf. Das erste Entkopp ^¬ lungselement 218 bringt eine entgegen der z-Richtung z wirkende Kraft F218 auf den Zwischenrahmen 202 auf. Die Kräfte F216, F218 sind einander entge ^¬ gengesetzt orientiert.

Das zweite Entkopplungselement 222 bringt eine in der Orientierung der Fig. 5 schräg nach rechts unten orientierte Kraft F222 auf den Zwischenrahmen 202 auf. Entsprechend bringt das zweite Entkopplungselement 224 eine in der Ori ^¬ entierung der Fig. 5 schräg nach links oben orientierte Kraft F224 auf den Zwi ^¬ schenrahmen 202 auf.

Fig. 6 zeigt sehr stark schematisiert die auf den Zwischenrahmen 202 wirkenden Kräfte F216, F218, F222, F224. Wie zuvor erwähnt, wirkt die Kraft F216 in der z-Richtung z. Die Kraft F218 wirkt entgegen der z-Richtung z und damit auch entgegen der Kraft F216. Die schräg wirkenden Kräfte F222, F224 lassen sich jeweils in einen horizontalen Kraftanteil F222h, F224h und in einen vertikalen Kraftanteil F222v, F224v zerlegen. Die horizontalen Kraftanteile F222h, F224h wirken entgegen und in der y-Richtung y. Die horizontalen Kraftanteile F222h, F224h sind gleich groß und wirken gegensinnig, so dass sich die horizontalen Kraftanteile F222h, F224H gegenseitig aufheben. In horizontaler Richtung be- ziehungsweise entlang und entgegen der y-Richtung y ist der Zwischenrahmen 202 also kraftfrei.

Der vertikale Kraftanteile F222v wirkt entgegen der z-Richtung z. Der vertikale Kraftanteil F224v wirkt entlang der z-Richtung z. Der vertikale Kraftanteil F222v und die Kraft F216 heben sich gegenseitig auf. Dementsprechend heben sich auch der vertikale Kraftanteil F224v und die Kraft F218 gegenseitig auf.

Der Zwischenrahmen 202 ist also kraftfrei. Es ergibt sich somit auch bei der Verdrehung des Tragrahmens 102 eine Nullsteifigkeit der Entkopplungseinrich ^¬ tung 200A.

Fig. 7 und Fig. 8 zeigen jeweils eine schematische Ansicht einer weiteren Aus ^¬ führungsform eines Systems 100B für die Projektionsbelichtungsanlage 1. Das System 100B entspricht von seinem Aufbau her im Wesentlichen dem des opti ^¬ schen Systems 100A. Daher wird nachfolgend nur auf Unterschiede zwischen den Systemen 100A, 100B eingegangen. Das System 100B unterscheidet sich von dem System 100A nur dadurch, dass das System 100B eine weitere Ausfüh ^¬ rungsform einer Entkopplungseinrichtung 200B aufweist.

Die Entkopplungseinrichtung 200B umfasst ein wie zuvor erläuterten Zwischen ^¬ rahmen 202, der sich über die ersten Entkopplungselemente 216, 218 an einen wie zuvor erläuterten Tragrahmen 102 abstützt. Ferner weist die Entkopplungs ^¬ einrichtung 200B zweite Entkopplungselemente 238, 240 in Form von Federele ^¬ menten auf, welche senkrecht zu den ersten Entkopplungselementen 216, 218 orientiert sind. Die zweiten Entkopplungselemente 238, 240 sind Schraubenfe ^¬ dern. Die zweiten Entkopplungselemente 238, 240 können jedoch auch Tellerfe ^¬ dern oder Tellerfederpakete sein. Die zweiten Entkopplungselemente 238, 240 sind vorgespannte Druckfedern. Die zweiten Entkopplungselemente 238, 240 können auch als Federelemente bezeichnet werden. Zwischen den zweiten Entkopplungselementen 238, 240 und dem Zwischenrah men 202 sind Druckstäbe 242, 244 vorgesehen, die jeweils eine Druckkraft von den zweiten Entkopplungselementen 238, 240 auf den Zwischenrahmen 202 auf bringen können. Der Druckstab 242 ist über ein Festkörper gelenk 246 an das zweite Entkopplungselement 238 und über ein Festkörper gelenk 248 an den Zwischenrahmen 202 angebunden. Dementsprechend ist der Druckstab 244 über ein Festkörper gelenk 250 an den Zwischenrahmen 202 und über ein Festkörper gelenk 252 an das zweite Entkopplungselement 240 angebunden. Unter einem "Festkörper gelenk" ist vorliegend Bereich eines Bauteils zu verstehen, welcher eine Relativbewegung zwischen zwei Starrkörperbereichen durch Biegung er laubt.

Die Funktionahtät der Entkopplungseinrichtung 200B wird nachfolgend erläu tert. Die Fig. 7 zeigt das System 100B in einer Gleichgewichtslage, in dem der Tragrahmen 102 nicht ausgelenkt ist. In der Gleichgewichtslage sind die Druckstäbe 242, 244 horizontal angeordnet und verlaufen somit entlang der y- Richtung y. Die zweiten Entkopplungselemente 238, 240 bringen über die Druckstäbe 242, 244 Druckkräfte auf den Zwischenrahmen 202 auf, die gleich groß und entgegengesetzt orientiert sind, so dass diese sich aufheben.

Die Fig. 8 zeigt das System 100B in einem ausgelenkten Zustand. In dem ausge lenkten Zustand wird der Tragrahmen 102, beispielsweise durch Vibrationen, ausgelenkt, wie in der Fig. 8 mit Hilfe eines Pfeils 236 angedeutet ist. Der Trag rahmen 102 bewegt sich aufgrund seiner Auslenkung in der Orientierung der Fig. 8 entgegen der z-Richtung z nach unten.

Aufgrund seiner Massenträgheit verbleibt der Zwischenrahmen 202 zunächst in seiner Ausgangsposition, wodurch sich der Tragrahmen 102 von dem Zwischen rahmen 202 wegbewegt und die ersten Entkopplungselemente 216, 218 gelängt werden. Das Längen der ersten Entkopplungselemente 216, 218 bewirkt, dass jedes erste Entkopplungselement 216, 218 eine Kraft F216, F218 auf den Zwi schenrahmen 202 aufbringt. Die Kräfte F216, F218 sind entgegen der z-Richtung z orientiert. Die Kräfte F216, F218 wirken also entgegen der Auslenkung der ersten Entkopplungselemente 216, 218.

Bei dem Auslenken des Tragrahmens 102 werden die Druckstäbe 242, 244 aus gelenkt. Es werden auf den Zwischenrahmen 202 wirkende Kräfte F238, F240 erzeugt, welche schräg zu den Kräften F216, F218 orientiert sind.

Fig. 9 zeigt sehr stark schematisiert die auf den Zwischenrahmen 202 wirkenden Kräfte F216, F218, F238, F240. Wie zuvor erwähnt, wirken die Kräfte F216,

F218 entgegen der z-Richtung z. Die schräg wirkenden Kräfte F238, F240 lassen sich jeweils in einen horizontalen Kraftanteil F238h, F240h und in einen verti kalen Kraftanteil F238v, F240v zerlegen. Die horizontalen Kraftanteile F238h, F240h wirken entgegen und in der y-Richtung y. Die horizontalen Kraftanteile F238h, F240h sind gleich groß und wirken gegensinnig, so dass sich die horizon talen Kraftanteile F238h, F240h gegenseitig aufheben. In horizontaler Richtung beziehungsweise entlang und entgegen der y-Richtung y ist der Zwischenrahmen 202 also kraftfrei.

Die vertikalen Kraftanteile F238v, F250v wirken entlang der z-Richtung z und damit entgegen den Kräften F216, F218. Die vertikalen Kraftanteile F238v, F240v und die Kräfte F216, F218 sind gleich groß. Die vertikalen Kraftanteile F238v, F240v und die Kräfte F216, F218 heben sich somit auf. Der Zwischen rahmen 202 ist demnach stets kraftfrei. Aus dieser Kraftfreiheit resultiert eine sehr geringe Eigenfrequenz.

Die ersten Entkopplungselemente 216, 218 weisen in der z-Richtung z betrachtet eine positive Steifigkeit auf. Das heißt, dass die Kräfte F216, F218 entgegen ei ner Auslenkungsrichtung der ersten Entkopplungselemente 216, 218 bezie- hungsweise entgegen einer Auslenkungsrichtung des Zwischenrahmens 202 ge ^¬ genüber dem Tragrahmen 102 orientiert sind. Die vorgespannten zweiten Ent ^¬ kopplungselemente 238, 240 weisen hingegen eine negative Steifigkeit auf. Das heißt, dass die Kräfte F238, F240, insbesondere die vertikalen Kraftanteile F238v, F240v, in einer Auslenkungsrichtung des Zwischenrahmens 202 gegen ^¬ über dem Tragrahmen 102 orientiert sind. Es ergibt sich dadurch in der z- Richtung z eine Nullsteifigkeit der Entkopplungseinrichtung 200A. Gleiches gilt für eine Verdrehung des Tragrahmens 102, wie es in den Fig. 5 und 6 dargestellt ist.

Fig. 10 zeigt eine schematische Ansicht einer weiteren Ausführungsform eines Systems 100C für die Projektionsbehchtungsanlage 1. Das System 100C ent ^¬ spricht von seinem Aufbau her im Wesentlichen dem des optischen Systems 100A. Daher wird nachfolgend nur auf Unterschiede zwischen den Systemen 100A, 100C eingegangen.

Das System 100C umfasst eine Entkopplungseinrichtung 200C, die von ihrem Aufbau her im Wesenthchen mit dem der Entkopplungseinrichtung 200A über ^¬ einstimmt. Das System 100C umfasst im Gegensatz zu dem System 100A keine dritten Entkopplungselemente 204, 206 in Form von Seilen, mit denen der Sen ^¬ sorrahmen 104 an dem Zwischenrahmen 202 aufgehängt ist. Vielmehr sind drit ^¬ te Entkopplungselemente 254, 256 in Form von Zugstäben vorgesehen, welche über Festkörper gelenke 258, 260 mit dem Zwischenrahmen 202 und über Fest ^¬ körpergelenke 262, 264 mit dem Sensorrahmen 104 gekoppelt sind. Es können beispielsweise vier dritte Entkopplungselemente 254, 256 vorgesehen sein. Die dritten Entkopplungselemente 254, 256 können auch als Zugstäbe bezeichnet werden.

Da über die Festkörper gelenke 258, 260, 262, 264 geringe horizontale Kräfte übertragbar sind, ist zusätzlich eine Lagerung des Sensorrahmens 104 mit Hilfe von vierten Entkopplungselementen 266, 268, 270, 272 vorgesehen. Die vierten Entkopplungselemente 266, 268, 270, 272 sind Magnetelemente und können auch als solche bezeichnet werden. Dabei ist das vierte Entkopplungselement 266 an dem Zwischenrahmen 202 angebracht. Das vierte Entkopplungselement 268 ist an dem Sensorrahmen 104 angebracht. Die vierten Entkopplungselemen ^¬ te 266, 268 bilden ein Magnetelementpaar 274. Die vierten Entkopplungsele ^¬ mente 266, 268 sind dabei derart platziert, dass deren Südpole S oder Nordpole N einander gegenüberhegend angeordnet sind.

Das vierte Entkopplungselement 270 ist an dem Zwischenrahmen 202 ange ^¬ bracht. Das vierte Entkopplungselement 272 ist an einem plattenförmigen Bau ^¬ teil 276 angebracht, welches zwischen dem Tragrahmen 102 und dem Zwischen ^¬ rahmen 104 platziert ist. Das Bauteil 276 ist über sehr weiche fünfte Entkopp ^¬ lungselemente 278, 280 von dem Tragrahmen 102 entkoppelt. Die vierten Ent ^¬ kopplungselemente 270, 272 bilden ein Magnetelementpaar 282. Die vierten Entkopplungselemente 270, 272 sind dabei derart platziert, dass deren Südpole S oder Nordpole N einander gegenüberliegend angeordnet sind.

Mit Hilfe der dritten Entkopplungselemente 254, 256 kann eine Parallelo ^¬ grammführung verwirkhcht werden. Zum Erreichen einer wie zuvor erläuterten Nullsteifigkeit in horizontaler Richtung wird diese Parallelogrammführung mit den Magnetelementpaaren 274, 282 kombiniert. Mit Hilfe der Magnetelement ^¬ paare 274, 282 kann eine Kopplung des Zwischenrahmens 202 mit dem Trag ^¬ rahmen 102 verhindert werden. Die Funktion des Systems 100C entspricht an ^¬ sonsten der Funktion des Systems 100A.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen beschrie ^¬ ben wurde, ist sie vielfältig modifizierbar. BEZUGSZEICHENLISTE

1 Projektionsbelichtungsanlage

2 B eleuchtun gs System

3 Lichtquelle

4 B eleuchtun gsop tik

5 Objektfeld

6 Objektebene

7 Retikel

8 Retikelhalter

9 Retikelverlagerungsantrieb

10 Projektionsoptik 11 Bildfeld 12 Bildebene

13 Wafer

14 Waferhalter

15 W aferverlagerungsan trieb

16 B eleuchtun gsstr ahlun g

17 Kollektor

18 Zwischenfokusebene

19 Umlenkspiegel

20 erster Facettenspiegel 21 erste F acette 22 zweiter Facettenspiegel 23 zweite F acette

100A System

100B System

100C System

102 Bauteil/Tragrahmen

104 Bauteil/Sensorrahmen 106 Basis ab schnitt

108 Wandabschnitt

110 Wandabschnitt

112 Arm ab schnitt

114 Arm ab schnitt

200A Entkopplungseinrichtung

200B Entkopplungseinrichtung

200C Entkopplungseinrichtung

202 Bauteil/Zwischenrahmen

204 Entkopplungselement

206 Entkopplungselement

208 Anbin dun gsp unkt

210 Anbindungspunkt

212 Anbin dun gsp unkt

214 Anbin dun gsp unkt

216 Entkopplungselement

218 Entkopplungselement

220 Entkopplungselement

222 Entkopplungselement

224 Entkopplungselement

226 Entkopplungselement

228 Magnetelementp aar

230 Magnetelementp aar

232 Luftspalt

234 Luftspalt

236 Pfeil

238 Entkopplungselement

240 Entkopplungselement

242 Druckstab

244 Druckstab 246 F estkörp er gelenk

248 F estkörp er gelenk

250 F estkörp er gelenk

252 F estkörp er gelenk

254 Entkopplungselement

256 Entkopplungselement

258 F estkörp er gelenk

260 F estkörp er gelenk

262 F estkörp er gelenk

264 F estkörp er gelenk

266 Entkopplungselement

268 Entkopplungselement

270 Entkopplungselement

272 Entkopplungselement

274 Magnetelementp aar

276 Bauteil

278 Entkopplungselement

280 Entkopplungselement

282 Magnetelementp aar

F216 Kraft

F218 Kraft

F222 Kraft

F222h horizontaler Kraftanteil

F222v vertikaler Kraftanteil

F224 Kraft

F224h horizontaler Kraftanteil

F224v vertikaler Kraftanteil

F238 Kraft

F238h horizontaler Kraftanteil F238v vertikaler Kraftanteil

F240 Kraft F240h horizontaler Kraftanteil F240v vertikaler Kraftanteil Ml Spiegel M2 Spiegel M3 Spiegel M4 Spiegel M5 Spiegel M6 Spiegel N Nordpol S Südpol x x-Richtung y y-Richtung z z- Richtung