The manufacturing method of a metal mask, and a metal mask

Japanese Patent JP5909749

B1

【課題】ビッカース硬度が無電解めっき法で作製されたものと同程度であり、従来の電気ニッケルめっき法で作製されたものより印刷耐久性が高いメタルマスク、及びその製造方法を提供する【解決手段】めっき浴に、ジメチルアミンボランを含むアルキルアミンボランを０．１〜３．０ｍＭ添加し、めっきの電流密度を０．５〜３ＡＳＤの範囲に設定して電気めっきをする。これにより、ビッカース硬度５００〜９００ＨＶのニッケルめっき皮膜が得られ、これをメタルマスク素材として使用することで、印刷耐久性の高いメタルマスクが得られる。【選択図】 なし

WO/1997/040213	ELECTROFORMING METHOD, ELECTROFORMING MANDREL AND ELECTROFORMED PRODUCT
JPH07150270	METALLIC POROUS MATERIAL, ITS PRODUCTION AND ELECTRODE FOR BATTERY USING THE SAME
WO/2016/129534	METHOD FOR MANUFACTURING DEPOSITION MASK, AND DEPOSITION MASK

Yoshihiro Taniguchi
Hideki Chiba
Sato honest
Mizoo

JP2015124218A

April 27, 2016

June 19, 2015

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Process Lab Micron Co., Ltd.

C25D1/08; B41C1/14; B41N1/24; C25D1/00; H05K3/34

JP2007015360A	2007-01-25
JP2003138397A	2003-05-14
JP2009233948A	2009-10-15

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