Title:
処理チャンバ用の高周波フィルタシステム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2022512914
Kind Code:
A
Abstract:
基板処理チャンバ用の高周波（ＲＦ）フィルタシステムは、処理チャンバの第１の要素に結合された第１のＲＦフィルタと、処理チャンバの第１の要素に結合された第２のＲＦフィルタとを備える。各ＲＦフィルタは、第１の周波数を拒絶するように構成された第１のフィルタステージと、第１のフィルタステージに結合され、第２の周波数を拒絶するように構成された第２のフィルタステージと、第２のフィルタステージに結合され、第１の周波数を拒絶するように構成された第３のフィルタステージとを含む。更に、第１のフィルタステージは、第１のインダクタ及び第１の静電容量を含み、第２のフィルタステージは、第２のインダクタ及び第２の静電容量を含み、第３のフィルタステージは、第３のインダクタ及び第３の静電容量を含む。【選択図】図２
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Inventors:
Nguyen, Andrew
Chaffin, Michael Gee.
Liu, Le
Rayaros, Anilkumar
Chaffin, Michael Gee.
Liu, Le
Rayaros, Anilkumar
Application Number:
JP2021524024A
Publication Date:
February 07, 2022
Filing Date:
October 09, 2019
Export Citation:
Assignee:
APPLIED MATERIALS,INCORPORATED
International Classes:
H01L21/3065; H01L21/31
Attorney, Agent or Firm:
Sonoda/Kobayashi Patent Business Corporation
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