Title:
めっき装置、および、めっき方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP7285389
Kind Code:
B1
Abstract:
多角形基板にめっきされる膜の面内均一性を向上させる。めっき装置は、めっき槽と、多角形基板を保持するように構成される基板ホルダと、前記基板ホルダに保持された基板と対向するように前記めっき槽内に配置されたアノードと、前記多角形基板の外形に対応した開口を画定するアノードマスクと、を備える。アノードマスクは、前記開口における前記多角形基板の第１辺に対応した第１開口辺の中央部に当該開口の中央に向かって突出する第１凸部を画定する第１マスク部材と、前記開口における前記多角形基板の第２辺に対応した第２開口辺の中央部に当該開口の中央に向かって突出する第２凸部を画定する第２マスク部材と、を有し、前記第１マスク部材と前記第２マスク部材との互いの距離が調整できるように構成される。
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Inventors:
▲高▼橋 直人
Ryosuke Hiwatari
Ryosuke Hiwatari
Application Number:
JP2023502957A
Publication Date:
June 01, 2023
Filing Date:
June 27, 2022
Export Citation:
Assignee:
Ebara Corporation
International Classes:
C25D7/12; C25D17/10; C25D21/12
Domestic Patent References:
| JP2019143217A | ||||
| JP2019056164A | ||||
| JP2000290798A |
Attorney, Agent or Firm:
Toru Miyamae
Yukio Kanegae
Makoto Watanabe
Obata Tosho
Yukio Kanegae
Makoto Watanabe
Obata Tosho
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