Title:
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、および反射型マスクの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP7416342
Kind Code:
B1
Abstract:
反射型マスクブランクは、基板と、ＥＵＶ光を反射する多層反射膜と、前記多層反射膜を保護する保護膜と、前記ＥＵＶ光の位相をシフトさせる位相シフト膜と、をこの順で有する。前記位相シフト膜はＩｒを主成分とするＩｒ系材料からなり、前記保護膜はＲｈを主成分とするＲｈ系材料からなる。
Inventors:
Yuya Nagata
Daijiro Akagi
Kenichi Sasaki
Hiroaki Iwaoka
Daijiro Akagi
Kenichi Sasaki
Hiroaki Iwaoka
Application Number:
JP2023551682A
Publication Date:
January 17, 2024
Filing Date:
June 26, 2023
Export Citation:
Assignee:
AGC Inc.
International Classes:
G03F1/24; C23C14/06; C23C14/14; G03F1/26
Domestic Patent References:
| JP2021101258A |
Foreign References:
| US20210341828 | ||||
| WO2021132111A1 | ||||
| WO2022118762A1 |
Attorney, Agent or Firm:
Tadashige Ito
Tadahiko Ito
Tadahiko Ito