Title:
洗浄装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024017100
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】湾曲したワークの下面全面を短時間で効率よく洗浄すること。【解決手段】湾曲したウェーハ（ワーク）Ｗの下面に洗浄ブラシ７１を接触させて該ウェーハを洗浄する洗浄装置１は、ウェーハＷの上面中央部分を吸引保持する吸引パッド６４と、該吸引パッド６４が吸引保持したウェーハＷの下面に接触する洗浄ブラシ７１と、吸引パッド６４と洗浄ブラシ７１を相対的に水平移動させる水平移動機構８０と、吸引パッド６４と洗浄ブラシ７１とを垂直な方向に相対的に昇降させる昇降機構９０と、制御部１００と、を備え、制御部１００は、吸引パッド６４と洗浄ブラシ７１とを相対的に水平移動させ、洗浄ブラシ７１に対するウェーハＷの水平方向位置に対して予め設定された該ウェーハＷの下面高さ情報に基づいて、吸引パッド６４と洗浄ブラシ７１とを相対的に昇降させてウェーハＷの下面に洗浄ブラシ７１を接触させ続けて該ウェーハＷの下面を洗浄する。【選択図】図２
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Inventors:
Shota Nakano
Application Number:
JP2022119517A
Publication Date:
February 08, 2024
Filing Date:
July 27, 2022
Export Citation:
Assignee:
Disco Co., Ltd.
International Classes:
H01L21/304; B24B55/06; H01L21/683
Attorney, Agent or Firm:
Patent Attorney Corporation Tokyo Alpa Patent Office