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Title:
CIRCUIT PATTERN INSPECTING APPARATUS, MANAGEMENT SYSTEM INCLUDING CIRCUIT PATTERN INSPECTING APPARATUS, AND METHOD FOR INSPECTING CIRCUIT PATTERN
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2010/047073
Kind Code:
A1
Abstract:
The operation rate of a circuit pattern inspecting apparatus is prevented from deteriorating by measuring image noise of the circuit pattern inspecting apparatus and detecting the sign that the apparatus is to be in an abnormal state. Provided is the circuit pattern inspecting apparatus wherein circuit pattern abnormalities are detected by irradiating a substrate having a circuit pattern formed thereon with an electron beam and detecting generated secondary electrons or reflected electrons.  The circuit pattern inspecting apparatus is provided with: an image processing section wherein an image is generated based on the signal intensities of the detected secondary electrons or those of the reflected electrons and the image is displayed for a display apparatus of the interface; and a control section which analyzes the frequency of noise included in the image.

Inventors:
TAKAHASHI HIROYUKI (JP)
GUNJI YASUHIRO (JP)
ITO HIROKAZU (JP)
Application Number:
PCT/JP2009/005431
Publication Date:
April 29, 2010
Filing Date:
October 19, 2009
Export Citation:
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Assignee:
HITACHI HIGH TECH CORP (JP)
TAKAHASHI HIROYUKI (JP)
GUNJI YASUHIRO (JP)
ITO HIROKAZU (JP)
International Classes:
H01L21/66; G01N23/225
Foreign References:
JPH10334845A1998-12-18
JP2003278825A2003-10-02
JP2000057985A2000-02-25
JP2000294185A2000-10-20
JP2007207763A2007-08-16
JPH11154481A1999-06-08
JP2009212320A2009-09-17
JP2009266453A2009-11-12
Attorney, Agent or Firm:
INOUE, MANABU (JP)
Manabu Inoue (JP)
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Claims:
 回路パターンが形成された基板に電子線を照射して発生する二次電子または反射電子を検出し、前記回路パターンの異常を検出する回路パターンの検査装置において、
 検出された前記二次電子または反射電子の信号強度に基づいて画像を生成し、該画像をインターフェースの表示装置へ表示する画像処理部と、
 前記画像に含まれるノイズの周波数解析を行う制御部とを備えたことを特徴とする回路パターンの検査装置。
 請求項1の記載において、前記画像処理部は、前記画像を複数加算して参照画像を生成し、前記制御部は、前記参照画像と前記画像とを比較し位置ずれ量を求め、該位置ずれ量の周波数解析を行うことを特徴とする回路パターンの検査装置。
 請求項1の記載において、前記画像処理部は、予め辞書画像を保存し、前記制御部は、該辞書画像と前記画像とを比較し位置ずれ量を求め、該位置ずれ量の周波数解析を行うことを特徴とする回路パターンの検査装置。
 請求項2から3のいずれかの記載において、前記基板を載置する試料台を備え、該試料台を連続的に移動させながら前記基板に前記電子線を照射することを特徴とする回路パターンの検査装置。
 請求項2から3のいずれかの記載において、前記基板を載置する試料台を備え、該試料台を所望の位置で停止させて前記基板に前記電子線を照射することを特徴とする回路パターンの検査装置。
 請求項1から5のいずれかの記載において、前記周波数解析の結果を表示するマンマシンインターフェースを備えたことを特徴とする回路パターンの検査装置。
 請求項1から6のいずれかの記載において、前記制御装置は、前記画像の直交する2つの座標系それぞれについて前記周波数解析を行うことを特徴とする回路パターンの検査装置。
 複数の回路パターンの検査装置と管理装置とを通信媒体を介して接続した回路パターン検査装置を含む管理システムにおいて、
 前記回路パターンの検査装置は、回路パターンが形成された基板に電子線を照射して発生する二次電子または反射電子を検出して画像を生成し、前記回路パターンの異常を検出するものであり、
 前記管理装置は、前記回路パターンの検査装置で生成された前記画像に含まれるノイズの周波数解析結果と、前記回路パターンの検査装置の稼動状態とを受信し、前記回路パターン検査装置で生成された前記画像に含まれるノイズの時間的変化を表示装置へ表示することを特徴とする回路パターン検査装置を含む管理システム。
 請求項8の記載において、前記管理装置は、前記回路パターンの検査装置で生成された前記画像の周波数解析結果を定期的に取得し、前記回路パターンの検査装置のメンテナンスの内容および時期を算出し、前記表示装置へ表示することを特徴とする回路パターン検査装置を含む管理システム。
 請求項8の記載において、前記管理装置は、前記回路パターンの検査装置での前記画像に含まれる前記ノイズの周波数が、複数の装置で共通している場合と、単独の装置だけの場合とで、区別して前記表示装置へ表示することを特徴とする回路パターン検査装置を含む管理システム。
 回路パターンが形成された基板に電子線を照射して発生する二次電子または反射電子を検出し、前記回路パターンの異常を検出する回路パターンの検査方法において、
 検出された前記二次電子または反射電子の信号強度に基づいて画像を生成し、該画像をインターフェースの表示装置へ表示するとともに、
 前記画像に含まれるノイズの周波数解析を行うことを特徴とする回路パターンの検査方法。
 請求項11の記載において、前記画像を複数加算して参照画像を生成し、前記参照画像と前記画像とを比較し位置ずれ量を求め、該位置ずれ量の周波数解析を行うことを特徴とする回路パターンの検査方法。
 請求項11の記載において、予め辞書画像を保存し、該辞書画像と前記画像とを比較し位置ずれ量を求め、該位置ずれ量の周波数解析を行うことを特徴とする回路パターンの検査方法。
 請求項12から13のいずれかの記載において、前記基板を載置する試料台を連続的に移動させながら前記基板に前記電子線を照射することを特徴とする回路パターンの検査方法。
 請求項12から13のいずれかの記載において、前記基板を載置する試料台を所望の位置で停止させて前記基板に前記電子線を照射することを特徴とする回路パターンの検査方法。
 請求項11から15のいずれかの記載において、マンマシンインターフェースに前記周波数解析の結果を表示することを特徴とする回路パターンの検査方法。
 請求項11から16のいずれかの記載において、前記画像の直交する2つの座標系それぞれについて前記周波数解析を行うことを特徴とする回路パターンの検査方法。
 複数の回路パターンの検査装置と管理装置とを通信媒体を介して接続した回路パターン検査装置を含む管理システムにおける回路パターンの検査方法において、
 前記回路パターンの検査装置により、回路パターンが形成された基板に電子線を照射して発生する二次電子または反射電子を検出して画像を生成し、前記回路パターンの異常を検出し、
 前記管理装置により、前記回路パターンの検査装置で生成された前記画像に含まれるノイズの周波数解析結果と、前記回路パターンの検査装置の稼動状態とを受信し、前記回路パターン検査装置で生成された前記画像に含まれるノイズの時間的変化を表示装置へ表示することを特徴とする回路パターンの検査方法。
 請求項18の記載において、前記管理装置により、前記回路パターンの検査装置で生成された前記画像の周波数解析結果を定期的に取得し、前記回路パターンの検査装置のメンテナンスの内容および時期を算出し、前記表示装置へ表示することを特徴とする回路パターンの検査方法。
 請求項18の記載において、前記管理装置により、前記回路パターンの検査装置での前記画像に含まれる前記ノイズの周波数が、複数の装置で共通している場合と、単独の装置だけの場合とで、区別して前記表示装置へ表示することを特徴とする回路パターンの検査方法。
 回路パターンが形成された試料に電子線を照射して発生する二次信号を検出する電子光学系カラムと、
 検出した二次信号から取得画像を作成し、該取得画像からノイズ成分を除去するように参照画像を作成する画像処理回路と、
 前記取得画像と前記参照画像とを比較して前記取得画像に含まれるノイズ成分を抽出し、周波数解析を実行し、その結果をインターフェースへ表示させるプロセッサとを備えたことを特徴とする回路パターンの検査装置。
 請求項21の記載において、前記周波数解析は、高速フーリエ変換を用いることを特徴とする回路パターンの検査装置。
 回路パターンが形成された試料に電子線を照射して発生する二次信号を検出して取得画像を作成し、該取得画像からノイズ成分を除去するように参照画像を作成し、該取得画像と該参照画像とを比較して該取得画像に含まれるノイズ成分を抽出し、周波数解析を実行し、その結果をインターフェースへ表示させる回路パターンの検査装置と、
 該回路パターンの検査装置の複数から通信網を介して前記周波数解析結果を受信し、時系列的に記憶し、管理する管理装置とを備えたことを特徴とする回路パターン検査装置を含む管理システム。
 請求項23の記載において、前記周波数解析は、高速フーリエ変換を用いることを特徴とする回路パターンの検査装置を含む管理システム。
 請求項23の記載において、前記管理装置は、ディスプレイへ前記複数の回路パターン検査装置の周波数解析結果を時系列的に並べて表示することを特徴とする回路パターン検査装置を含む管理システム。
 請求項23の記載において、前記管理装置は、ディスプレイへ指定されたノイズの周波数の時間的変化を他と区別して強調表示することを特徴とする回路パターン検査装置を含む管理システム。
 請求項23の記載において、前記管理装置は、ディスプレイへ突発的なノイズを他のノイズと区別して強調表示することを特徴とする回路パターン検査装置を含む管理システム。
 回路パターンが形成された試料に電子線を走査して発生する二次信号を検出し、前記回路パターンの欠陥を検出する回路パターンの検査装置において、
 前記二次信号から作成される取得画像を前記電子線の走査の方向に対して直角方向に加算して参照画像を作成する画像処理回路と、
 前記取得画像と前記参照画像とを比較して前記取得画像に含まれるノイズ成分を抽出し、周波数解析を実行し、その結果をインターフェースへ表示させるプロセッサとを備えたことを特徴とする回路パターンの検査装置。
 請求項28の記載において、前記周波数解析は、高速フーリエ変換を用いることを特徴とする回路パターンの検査装置。
Description:
回路パターン検査装置,回路パタ ーン検査装置を含む管理システム、および回 路パターンの検査方法

 本発明は、半導体装置や液晶等微細な回 パターンを有する基板に電子線を照射して られる画像信号に基づいて、基板の欠陥を 出する回路パターン検査装置,回路パターン 検査装置を含む管理システム、および回路パ ターンの検査方法に関する。

 半導体ウエハの検査を一例として説明す 。半導体装置は、半導体ウエハ上にフォト スクに形成されたパターンをリソグラフィ 処理及びエッチング処理により転写する工 を繰り返すことにより製造される。半導体 置の製造過程において、リソグラフィー処 やエッチング処理その他の良否,異物発生等 は、半導体装置の歩留まりに大きく影響を及 ぼす。したがって、このような製造過程にお ける異常や不良発生を早期にあるいは事前に 検知するために、製造過程の半導体ウエハ上 のパターンを検査する各種装置が用いられて いる。

 半導体ウエハ上のパターンに存在する欠 を検出する方法としては、半導体ウエハに を照射し、光学画像を用いて欠陥を検出す 光学式欠陥検査装置や、半導体ウエハに電 線を照射し、発生する二次電子や反射電子 どの二次信号を検出し、その信号を画像化 て比較画像との差を欠陥として検出する電 線式検査装置が実用化されている。

 上述した電子線式検査装置は、電子線を 射して得られた画像をもとに検査を行う。 たがって、取得した画像にノイズが混入し 場合には、誤った検査結果を出力してしま 。そのため、画像ノイズを低減して、検査 度を高める技術が知られている(例えば、特 許文献1参照)。しかし、低減したノイズの発 原因を究明する技術は開発されていない。 像ノイズが生じる原因としては、機械的,電 気的,外乱などのノイズの混入,装置の故障な さまざまな理由が挙げられる。そのため、 像ノイズの原因を特定することは非常に困 であり、長い時間が必要である。

特開2003-197141号公報

 上述した電子線式検査装置は、電子線を 射して得られた画像をもとに検査を行う。 たがって、取得した画像にノイズが混入し 場合には、誤った検査結果を出力してしま 。画像ノイズが生じる原因としては、機械 ,電気的,外乱などのノイズの混入,装置の故 などさまざまな理由が挙げられる。そのた 、画像ノイズの原因を特定することは非常 困難であり、長い時間が必要である。

 本発明は、回路パターン検査装置の画像 イズを計測し、装置状態が異常となる兆候 察知することで、回路パターン検査装置の 動率の低下を防止することを目的とする。

 上記目的を解決するために、本発明の実 態様は、回路パターンが形成された基板に 子線を照射して発生する二次電子または反 電子を検出し、回路パターンの異常を検出 る回路パターンの検査装置において、検出 れた二次電子または反射電子の信号強度に づいて画像を生成し、該画像をインターフ ースの表示装置へ表示する画像処理部と、 像に含まれるノイズの周波数解析を行う制 部とを備えたことを特徴とする。

 本発明によれば、回路パターン検査装置 画像ノイズを計測し、装置状態が異常とな 兆候を察知することにより、メンテナンス 要否およびその内容を判断することが可能 なり、回路パターン検査装置の稼動率の低 を防止することができる。

回路パターン検査装置の構成を示す縦 面図。 回路パターン検査装置のディスプレイ 表示された画像の一例を示す画面図。 一次電子線の走査方向を示す平面図。 回路パターン検査装置のディスプレイ 表示された画像の一例を示す画面図。 算出した位置ずれ量について、横軸を 置ずれ量δX、縦軸をY座標としてプロットし たグラフ。 高速フーリエ変換(FFT)を用いて周波数 析を行ったグラフ。 回路パターン検査装置が周波数解析を 行する手順を示すフローチャート。 周波数解析の一例を示す画面図。 回路パターン検査装置が周波数解析を 行する手順を示すフローチャート。 複数の回路パターン検査装置を管理す るシステム図。

 以下、本発明の実施例について図面を参 しながら詳細に説明する。

 図1は、電子線を用いた回路パターン検査 装置の構成図であり、主要な構成を略縦断面 図と機能図とで表している。回路パターン検 査装置1は、室内が真空排気される検査室2と 検査室2内に被検査基板9を搬送するための 備室(図示せず)を備えており、この予備室は 検査室2とは独立して真空排気できるように 成されている。また、回路パターン検査装 1は検査室2と予備室の他に画像処理部5から 成されている。

 検査室2内は大別して、電子光学系カラム 3,試料室8,光学顕微鏡室4から構成されている 電子光学系カラム3は、電子銃10,引き出し電 極11,コンデンサレンズ12,ブランキング偏向器 13,絞り14,走査偏向器15,対物レンズ16,反射板17, E×B偏向器18,二次電子検出器20から構成され、 一次電子線19を被検査基板9へ照射するととも に、被検査基板から発生した二次電子を検出 する。

 試料室8は、試料台30,Xステージ31,Yステー 32,回転ステージ33,位置モニタ測長器34,被検 基板高さ測定器35から構成されている。

 光学顕微鏡室4は、検査室2の室内におけ 電子光学系カラム3の近傍であって、互いに 響を及ぼさない程度離れた位置に配置され いる。光学顕微鏡室4は、光源40,光学レンズ 41,CCDカメラ42により構成されている。電子光 系カラム3と光学顕微鏡室4の間の距離は既 であり、Xステージ31、又はYステージ32が、 子光学系カラム3と光学顕微鏡室4の間の既知 の距離を往復移動するようになっている。

 二次電子検出部7は、二次電子検出器20か の出力信号を増幅するプリアンプ21,増幅信 をアナログからデジタルへ変換するAD変換 22を備え、それぞれを駆動するためのプリア ンプ駆動電源27,AD変換器駆動電源28,逆バイア 電源29と、これらに電気を供給する高圧電 26を備える。増幅されたデジタル信号は、光 変換手段23で光信号に変換され、光伝送手段2 4を通って電気変換手段25で電気信号に変換さ れ、画像処理部5の記憶部45へ送られる。なお 、図示していないが、CCDカメラ42で取得した 学画像も同様にして、画像処理部5へ送られ る。

 画像処理部5は、記憶部45,画像処理回路46, 欠陥データバッファ47,演算部48,全体制御部49 ら構成されている。記憶部45に記憶された 号は、画像処理回路46で画像化されるととも に、特定位置だけ離れた画像同士の位置合わ せ,信号レベルの規格化,ノイズ信号を除去す ための各種画像処理を施し、画像信号を比 演算する。演算部48は比較演算された差画 信号の絶対値を所定のしきい値と比較し、 定のしきい値よりも差画像信号レベルが大 い場合に欠陥候補と判定し、インターフェ ス6にその位置や欠陥数等を送る。全体制御 49はこれらの画像処理や演算を制御し、状 を補正制御回路61へ送信する。電子線画像あ るいは光学画像は、インターフェース6の画 表示部56に表示される。

 回路パターン検査装置1の各部の動作命令 及び動作条件は、インターフェース6から指 命令が入力され、画像処理部5の全体制御部4 9から補正制御回路61へ送られる。インターフ ェース6では、一次電子線19の発生時の加速電 圧,偏向幅,偏向速度,二次電子検出部7の信号 り込みタイミング,Xステージ31やYステージ32 移動速度等の条件が、目的に応じて任意に るいは選択して設定できる。インターフェ ス6は、例えば、ディスプレイの機能を有し 、マップ表示部55には、検出された複数の欠 の分布が、ウエハを模式的に表したマップ 上に記号化されて表示される。画像取得指 領域57は、検出された欠陥ごと、あるいは 域ごとに電子線画像あるいは光学画像を取 する指示を出す部分である。画像処理指示 域58は、取得した画像の明るさ調整やコント ラスト調整を指示する部分である。処理条件 設定指示部59は、一次電子線19を被検査基板9 照射するときの偏向幅,偏向速度,対物レン の焦点距離,焦点深度などの各種条件を設定 る部分である。

 補正制御回路61は、一次電子線19の発生時 の加速電圧,偏向幅,偏向速度,二次電子検出部 7の信号取り込みタイミング,Xステージ31やYス テージ32の移動速度等が、画像処理部5の全体 制御部49から送られた指示命令に従うように 御する。また、位置モニタ測長器34,被検査 板高さ測定器35の信号から被検査基板9の位 や高さをモニタし、その結果から補正信号 生成し、走査信号発生器43や対物レンズ電 44に補正信号を送り、一次電子線19が常に正 い位置に照射されるように偏向幅,偏向速度 ,対物レンズの焦点距離を変える。

 電子銃10には、拡散補給型の熱電界放出 子源が使用されている。この電子銃10を用い ることにより、従来の例えばタングステン・ フィラメント電子源や、冷電界放出型電子源 に比べて安定した電子線電流を確保すること ができるため、明るさ変動の少ない電子線画 像が得られる。また、この電子銃10により電 線電流を大きく設定することができるため 後述するような高速検査を実現できる。

 一次電子線19は、電子銃10と引き出し電極 11との間に電圧を印加することで電子銃10か 引き出される。一次電子線19の加速は、電子 銃10に高電圧の負の電位を印加することで決 る。これにより、一次電子線19はその電位 相当するエネルギーで試料台30の方向に進み 、コンデンサレンズ12で収束され、さらに対 レンズ16により細く絞られて試料台30に搭載 された被検査基板9に照射される。

 ブランキング偏向器13,走査偏向器15は、 ランキング信号及び走査信号を発生する走 信号発生器43により制御される。ブランキン グ偏向器13は、一次電子線19が絞り14の開口部 を通過しないように一次電子線19を偏向し、 次電子線19の被検査基板9への照射を防ぐこ ができる。一次電子線19は対物レンズ16によ り細く絞られているので、走査偏向器15によ 、被検査基板9上で走査される。

 自動検査装置では検査速度が速いことが必 となる。従って、通常のSEMのようにpAオー ーの電子線電流の電子線を低速で走査した 、多数回の走査及び各々の画像の重ね合せ 行わない。また、絶縁材料への帯電を抑制 るためにも、電子線走査は高速で一回ある は数回程度にする必要がある。そこで本実 例では、通常のSEMに比べ約100倍以上の、例 ば100nAの大電流電子線を一回のみ走査するこ とにより画像を形成する構成とした。また、 走査幅は例えば100μmとし、1画素は0.1μm 2 とし、1回の走査を1μsの走査時間で行うよう した。

 対物レンズ16には、対物レンズ電源44が接 続されている。コンデンサレンズ12にも図示 ないレンズ電源が接続されている。そして これらのレンズ強度は、レンズ電源の電圧 変えることによって、補正制御回路61で調 される。

 被検査基板9には、リターディング電源36 より負の電圧を印加できるようになってい 。リターディング電源36の電圧を調節する とにより、一次電子線19を減速させ、電子銃 10の電位を変えずに被検査基板9への電子線照 射エネルギーを調節することができる。

 Xステージ31,Yステージ32の上には被検査基 板9が搭載されている。検査実行時には、Xス ージ31,Yステージ32を静止させ、一次電子線1 9を二次元で走査する方法と、Xステージ31を 止させ、Yステージ32をY方向に連続して一定 度で移動させながら一次電子線19をX方向に 査する方法とがある。ある特定の比較的小 い領域を検査する場合には、前者のステー を静止させて検査する方法が、比較的広い 域を検査するときは、後者のステージを連 的に一定速度で移動して検査する方法が有 である。

 Xステージ31またはYステージ32の一方を連 的に移動させながら、被検査基板9の画像を 取得する場合、ステージの移動方向に対して 略直角方向に一次電子線19を走査し、一次電 線19の走査、及びステージの移動と同期し 、被検査基板9から発生した二次電子を二次 子検出器20で検出する。被検査基板9上に一 電子線19を照射することによって発生した 次電子は、被検査基板9に印加された電圧に り加速される。被検査基板9の上方に、E×B 向器18が配置され、これにより加速された二 次電子は所定の方向へ偏向される。E×B偏向 18に印加する電圧で磁界の強度を変え、偏向 量を調整することができる。また、E×B偏向 18の電磁界は、被検査基板9に印加した電圧 連動させて可変させることができる。E×B偏 器18により偏向された二次電子は、所定の 件で反射板17に衝突する。この反射板17は、 検査基板9に照射する一次電子線19の走査偏 器15による高精度な偏向を維持するための ールドパイプを兼ね、円錐形状をしている この反射板17に加速された二次電子が衝突す ると、反射板17からは、数Vから50eVのエネル ーを持つ第二の二次電子が発生する。

 位置モニタ測長器34として、本実施例で レーザ干渉を原理とした測長計をX方向とY方 向の両方に用い、Xステージ31、及びYステー 32の位置を一次電子線19の照射中でも測定可 とし、その測定値を補正制御回路61に送信 れるように構成されている。また、Xステー 31,Yステージ32,回転ステージ33の各駆動モー の回転数も、駆動モータのドライバ回路か 補正制御回路61に送信されるように構成さ ている。補正制御回路61は、これらのデータ に基づいて一次電子線19が照射されている領 や位置が正確に把握できるようになってお 、測定値と制御値のずれを演算して、一次 子線19の照射位置の位置ずれを補正する。 た、一次電子線19を照射した領域の座標を記 憶できるようになっている。

 被検査基板高さ測定器35には、光学式測 器、例えばレーザ干渉測定器や反射光の位 で変化を測定する反射光式測定器が使用さ る。例えば、スリットを通過した細長い白 光を透明な窓越しに被検査基板9に照射し、 射光の位置を位置検出モニタにて検出し、 置の変動から高さの変化量を算出する方式 知られている。被検査基板高さ測定器35は Xステージ31,Yステージ32に搭載され、被検査 板9の高さを測定する。被検査基板高さ測定 器35の測定データに基づいて、一次電子線19 細く絞るための対物レンズ16の焦点距離がダ イナミックに補正され、一次電子線19の焦点 被検査領域に合わせるようになっている。 た、被検査基板9の反りや高さ歪みを一次電 子線19の照射前に予め測定し、そのデータに づいて対物レンズ16の検査領域毎の補正条 を設定するように構成することも可能であ 。

 以上説明した電子線を用いた回路パター 検査装置において、取得した検査画像にノ ズが混入した場合、取得画像同士の差画像 被検査対象には存在しない異常信号が生じ 。この異常信号が検査しきい値を超えた場 、欠陥ではないのに欠陥と判定されて虚報 なる。したがって、取得画像のノイズを抑 ることは、高精度の検査を行うために非常 重要な課題である。

 ここで、取得画像に混入するノイズの原 に関して検討する。ノイズの要因は、一次 子線偏向信号や二次電子信号に混入する電 的ノイズと、機械的な振動による機械的ノ ズに大別される。電気的ノイズのノイズ発 源には、走査信号発生器43や対物レンズ電 44などの一次電子線の被検査基板上の照射位 置に影響を与える部位と、二次電子検出器20 プリアンプ21などの二次電子信号の信号強 に影響を与える部位とが挙げられる。電気 ノイズの要因は、電源ノイズと、検出器や 御基板など装置を構成するユニットが出力 るノイズとが大半を占め、また、これらの イズの経時変化は小さい。よって、装置固 のノイズ量であるため、その大きさをほぼ 確に把握することができる。

 一方、機械的ノイズの要因は機械的振動 ある。電子線を用いた回路パターン検査装 では、実効的なスループットを確保するた にステージを連続的に移動させながら画像 取得する方法が必要不可欠である。そのた 、ステージの加減速が振動源となり、電子 学系カラム3や試料室8に機械振動が発生す ことが問題となる。試料台の加減速に伴う 械振動が検査画像に影響しないように考慮 て、ステージは設計されているが、可動部 磨耗や機械的な劣化により、経時変化が生 ることは避けられない。

 機械的ノイズの周波数は、振動している 位が持つ固有振動数およびその高調波と等 くなるという特徴がある。したがって、検 画像に混入したノイズの周波数およびその 動方向を把握することで、振動部位を把握 ることが可能になる。一般的に、機械的ノ ズの周波数は数kHz以下である。さらに、振 する部位によっては、振動方向が決まる場 が多いので、画像ノイズの振動方向を把握 ることはノイズ源の特定に有効である。し がって、検査画像に混入するノイズを解析 ることにより、その原因を特定し、適切な ンテナンスを行うことにより、装置の稼働 を向上させることが可能である。また、機 的ノイズには、装置周辺の環境に起因する 磁ノイズや床振動などの外乱ノイズもある で、これらの振動と分離する必要がある。

 図2,図4は、回路パターン検査装置のディ プレイに表示された画像の一例を示す画面 である。また、図3は、一次電子線の走査方 向を示す平面図である。図2に示す取得画像 、長手方向がY方向であるラインアンドスペ スパターンの画像であるが、一定周期Fのノ イズが混入している状況を示している。なお 、図3に示すX方向の走査周期を、ライン周期T Lとする。

 つぎに、取得した画像に対して画像処理 5の画像処理回路46で画像処理を行い、参照 像を算出する。参照画像は、ノイズ解析を う方向のノイズを除去した画像とする。本 施例では、X方向のノイズ解析を行うため、 図2に示す取得画像をY方向に加算し、X方向の ノイズを除去し、図4に示すような参照画像 作成する。

 つぎに、画像処理部5の全体制御部49は、 2に示す取得画像と、図4に示す参照画像の 関演算を行い、取得画像と参照画像の間のX 向の位置ずれ量を算出する。位置ずれ量は 取得画像をX方向で分割し、分割した各領域 について、走査ライン毎の位置ずれ量を算出 するようにする。

 図5は、算出した位置ずれ量について、横 軸を位置ずれ量δX、縦軸をY座標としてプロ トしたグラフである。このグラフの軌跡が 像に含まれているノイズである。また、図4 示す参照画像の作成を、Y方向の走査と同時 に行っているため、図5の横軸はY座標と同時 時刻を表している。したがって、図5に示す グラフは、ライン周期TL毎のノイズ量を表す とになる。言い換えれば、画像ノイズを周 TLにてサンプリングした時系列データであ 。

 つぎに、図5に示すグラフに示されたノイ ズ量の時系列データの周波数解析を行う。図 6は、高速フーリエ変換(FFT)を用いて周波数解 析を行ったグラフである。横軸は周波数f、 軸は信号の大きさPである。図6に示されるよ うに、周波数解析を行った結果、特定の周波 数Fにピーク601を持っている。なお、本実施 では高速フーリエ変換を用いて周波数解析 行ったが、他の手法を用いてもかまわない 以上の手順で、X方向のノイズの周波数解析 可能であるが、Y方向のノイズの周波数解析 も同様の方法で実施できる。

 以上のノイズの周波数解析を、回路パタ ン検査装置に自動的に実行させるようにす と有益である。図7は、回路パターン検査装 置が周波数解析を実行する手順を示すフロー チャートである。画像処理部5の各プロセッ に図7に示す手順を実行させる。図7において 、画像を取得し(ステップ701)、画像処理回路4 6のプロセッサは、この取得画像からノイズ 除去した参照画像を算出する(ステップ702)。 つぎに、演算部48のプロセッサは、参照画像 取得画像との相関演算を行って、位置ずれ を算出する(ステップ703)。つぎに、全体制 部49のプロセッサは、算出した位置ずれ量か ら周波数解析を行う(ステップ704)。最後に、 波数解析結果をインターフェース6に表示す る。

 図8は、周波数解析の一例を示す画面図で ある。画面の全体は、回路パターン検査装置 のインターフェース6に表示される画面の一 であり、画面の左側には、被検査基板9であ 半導体ウエハの模式図が表示されている。 ンターフェース6の画面の右側の領域には、 図5、および図6に示す周波数解析結果が表示 れ、オペレータが画像のノイズの発生原因 究明するための有益なデータを提供してい 。

 上記のような方法を用いることで、画像 含まれるノイズ成分の周波数およびノイズ 方向を把握することが可能となる。ここで 握できた画像ノイズの周波数およびその方 から、回路パターン検査装置の性能を劣化 せているノイズ源を特定するための手がか を得ることができる。

 なお、上述の手法を用いる場合、参照画 は取得画像からノイズを除去するため画像 算を行う。そのため、ピッチが均一なドッ パターンや、加算する方向に周期性を持つ ターン、あるいはラインアンドスペースパ ーンのように、加算する方向が常に同じパ ーンであることが必要である。

 また、本実施例では、画像の位置ずれ量 算出する方法として、参照画像を取得画像 ら算出する方法としたが、取得画像のパタ ンについて理想的な画像を、辞書画像とし あらかじめ準備しておき、辞書画像と実際 取得した取得画像とから位置ずれ量を算出 る方法や取得画像の特定の部分を基準とし そこからの位置ずれ量を算出する方法など の方法を採用してもよい。

 次に、回路パターン検査装置の管理方法 ついて記述する。検査装置の検査画像に含 れるノイズ成分には、機械的ノイズのよう 経時変化を持つノイズと、外乱ノイズのよ に装置の設置環境に依存するノイズとがあ 。これらのノイズ量が増加した場合、検査 像に含まれるノイズも増加する。そのため 回路パターン検査装置の性能を安定して維 するためには、正常時の画像ノイズ量およ その周波数をあらかじめ把握しておくこと 必要である。また、機械的ノイズに関して 、ステージの移動が振動源となることが考 られるので、ステージの移動の有無、それ れの条件でノイズ量およびその周波数を、 め取得しておく。さらに、機械的ノイズに しては、回路パターン検査装置を構成する 械部品の固有振動数を事前に把握しておく とが必要である。

 図9は、回路パターン検査装置が周波数解 析を実行する手順を示すフローチャートであ る。はじめに、ステージを連続移動させなが ら1次元画像を取得し、1次元画像の周波数解 を行う(ステップ901)。つぎに、ステージを 止させた状態にて2次元画像を取得し、2次元 画像の周波数解析を行う(ステップ902)。1次元 画像,2次元画像それぞれの周波数解析結果を 較し、ピーク周波数を比較する(ステップ903 )。比較の結果、1次元画像のみに特徴的なピ クが発生している場合は、ステージ移動を 震源とする機械的ノイズが発生しているこ が考えられる。この場合は、1次元画像に含 まれるピーク周波数と一致する固有振動数を 持つ部位が振動している可能性が高い。した がって、ピーク周波数と、機械的ノイズ源と 思われる部位の固有振動数とを比較する(ス ップ904)。その結果、この周波数解析結果を とに振動していると考えられる部位の特定 よび対策を実施する(ステップ905)。

 一方、1次元画像,2次元画像の周波数解析 果に共通するピークが生じている場合は、 気的ノイズまたは真空ポンプや床の振動を 震源とする機械的ノイズが画像ノイズの原 である可能性が高い。したがって、ピーク 波数と、電気的ノイズ源と思われる電気的 イズの周波数、または機械的ノイズ源と思 れる部位の固有振動数とを比較する(ステッ プ906)。その結果、周波数解析結果を手掛か にノイズ源を調査し、対策を実施する(ステ プ907)。ノイズ源の調査、対策を実施後に再 度、1次元画像,2次元画像を取得し、周波数解 析を行い(ステップ901,902)、ステップ903で1次 画像,2次元画像の周波数解析結果のピークを 確認し、ノイズ源の対策の効果を確認する。 以上の手順を用いることにより、画像に含ま れるノイズを定量的に把握することが可能と なる。さらに効率よく画像ノイズのノイズ源 の特定をすることが可能となる。

 図9に述べた画像ノイズの解析を定期的に 行い、結果を図8に示したインターフェース6 表示させて、オペレータが確認できるよう すると、時間が経過するにつれて発生する イズの早期発見ができ、はやい対策を講じ ことができる。

 画像にノイズがある場合、検査結果に対 る影響度を検討し、即時対応が必要である を判断する。即時対応が必要な場合は、ノ ズの周波数および振動方向を手がかりに対 を行う。対策が十分か否かは、対策後のノ ズ量を調べることにより判断することが可 である。

 一方、オペレータが即時対応が必要でな と判断した場合は、定期的なノイズ量の取 を継続して回路パターン検査装置を運用す 。機械的ノイズには、使用時間経過に従っ 、可動部の磨耗によって増加するものがあ 。この場合、磨耗している部品の固有振動 のノイズが徐々に増加していることが予想 れる。したがって、磨耗する部品の固有振 数に相当するノイズ量から、対象部品の磨 を推測することが可能である。そこで、画 ノイズを定期的に取得し、統計的に解析す ことで、磨耗部品の交換時期を事前に把握 ることが可能となり、適切なメンテナンス 行い、回路パターン検査装置を長時間安定 て稼働させることが可能となる。

 上記手順を自動化し、定期的に画像ノイ を把握する機能を持たせることにより、画 ノイズの経時変化を把握することが可能と る。さらに、装置構成部品の固有振動数、 気的ノイズ源となる周波数をノイズ源デー ベースとして用意し、ピーク周波数とノイ 源データベースと照合することにより、オ レータが行っていた判断を自動で行うこと 可能となる。

 図10は、複数の回路パターン検査装置を 理するシステム図である。管理装置1001が、 数の回路パターン検査装置1002,1003,1004と、 ーカルエリアネットワーク等の通信網1005で 続されている。

 複数の回路パターン検査装置1002,1003,1004 、それぞれが自動的に画像ノイズの周波数 析を定期的に実行する。また、その解析結 と装置状態とが、通信網1005を介して管理装 1001へ送信され、時系列的に記憶される。

 管理装置1001は、複数の回路パターン検査 装置の周波数解析結果を統計的に処理し、表 示する機能を備えているので、オペレータは 、ノイズ量の時間的変化の有無を確認し、装 置状態の管理を行うことができる。例えば、 管理装置1001に設けられたディスプレイに、 数の回路パターン検査装置の周波数解析結 を時系列的に並べて表示する。さらに、管 装置1001が自動的に、指定されたノイズの周 数の時間的変化を色分けなどで他と区別し 強調表示すると、オペレータは直ちに変化 認識することができる。また、管理装置1001 は、装置毎の周波数解析結果の時間的変化と 装置毎の稼動状態とから、装置に必要なメン テナンスの内容および時期を算出して、ディ スプレイへ表示させることで、装置の不具合 を早期に発見して対策することができる。

 複数の回路パターン検査装置を集中管理 ることによって、原因の特定ができる場合 ある。電気的ノイズ、および機械的ノイズ 装置固有のノイズであるため複数の装置が 時に増加することは考えにくい。したがっ 、複数の回路パターン検査装置に共通して ある特定の周波数を持つ画像ノイズが突発 に増加した場合、この画像ノイズ量が変化 た原因は、床振動や装置周辺の電磁波ノイ などを原因とする外乱ノイズに起因してい と想定できる。管理装置1001は、この突発的 なノイズを、他のノイズと区別して強調表示 することにより、オペレータは容易に突発的 なノイズを認識することができる。このよう に、複数の回路パターン検査装置を集中管理 することにより、個別の装置の異常のみなら ず、原因が外乱かどうかまで含めて管理を行 うことが可能となる。

 本発明によれば、検査装置の画像ノイズ 計測し、装置状態が異常となる兆候を察知 ることにより、メンテナンスの要否および の内容を判断することが可能となり、検査 置の稼動率の低下を防止することができる

1 回路パターン検査装置
5 画像処理部
6 インターフェース
9 被検査基板
19 一次電子線
34 位置モニタ測長器
46 画像処理回路
47 欠陥データバッファ
49 全体制御部
55 マップ表示部
56 画像表示部
61 補正制御回路
1001 管理装置
1005 通信網