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Title:
COMPOSITE MATERIAL
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2008/152916
Kind Code:
A1
Abstract:
Disclosed is a composite material obtained by laminating a layer composed of an epoxy resin curable composition and a layer composed of a polyimide. The epoxy resin curable composition contains a polyamide compound having a structure containing a phenolic hydroxy group represented by the general formula (I) or (II) below in a repeating unit. The composite material is preferably produced by applying the epoxy resin curable composition over one or both sides of a film or sheet composed of the polyimide. (In the formula (I), ring A and R each represents an arylene group having 6-18 carbon atoms, an alkylidenediarylene group having 13-25 carbon atoms or the like.) (In the formula (II), ring B represents an arylene group having 6-18 carbon atoms or an alkylidenediaryl group having 13-25 carbon atoms.)

Inventors:
MORI TAKAHIRO (JP)
FUKUDA YOSHIHIRO (JP)
TAKAHATA YOSHINORI (JP)
Application Number:
PCT/JP2008/059869
Publication Date:
December 18, 2008
Filing Date:
May 29, 2008
Export Citation:
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Assignee:
ADEKA CORP (JP)
MORI TAKAHIRO (JP)
FUKUDA YOSHIHIRO (JP)
TAKAHATA YOSHINORI (JP)
International Classes:
B32B27/34; B32B1/08; C08G59/62; C08K5/5399; C08K7/18; C08L63/00; H05K1/03
Domestic Patent References:
WO2006129480A12006-12-07
Foreign References:
JPH09176485A1997-07-08
JP2003082061A2003-03-19
JP2001146546A2001-05-29
JPH11199555A1999-07-27
Attorney, Agent or Firm:
HATORI, Osamu (8-6 Akasaka 1-chome, Minato-k, Tokyo 52, JP)
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Claims:
 (A)繰り返し単位中に、下記一般式(I)又は(II)で表される、フェノール性水酸基を有する構造を有するポリアミド化合物を含有するエポキシ樹脂硬化性組成物からなる層及び(B)ポリイミドからなる層を積層して得られる複合材料。
(式中、環Aは炭素原子数6~18のアリーレン基又は炭素原子数13~25のアルキリデンジアリーレン基を表し、これらの基はハロゲン原子、水酸基又は炭素原子数1~4のアルキル基で置換されていてもよく、Rは炭素原子数2~10のアルキレン基、炭素原子数6~18のシクロアルキレン基、アリーレン基又は炭素原子数13~25のアルキリデンジアリーレン基を表し、これらの基はハロゲン原子、水酸基又は炭素原子数1~4のアルキル基で置換されていてもよい。)
(式中、環Bは炭素原子数6~18のアリーレン基又は炭素原子数13~25のアルキリデンジアリール基を表し、これらの基はハロゲン原子、水酸基又は炭素原子数1~4のアルキル基で置換されていてもよい。)
 前記ポリアミド化合物が、下記一般式(III)又は(IV)で表されるフェノール性水酸基を有する構造を有する請求の範囲第1項記載の複合材料。
(式中、環Aは炭素原子数6~18のアリーレン基又は炭素原子数13~25のアルキリデンジアリーレン基を表し、これらの基はハロゲン原子、水酸基又は炭素原子数1~4のアルキル基で置換されていてもよく、Rは炭素原子数2~10のアルキレン基、炭素原子数6~18のシクロアルキレン基、アリーレン基又は炭素原子数13~25のアルキリデンジアリーレン基を表し、これらの基はハロゲン原子、水酸基又は炭素原子数1~4のアルキル基で置換されていてもよい。nは正数である。)
(式中、環Bは炭素原子数6~18のアリーレン基又は炭素原子数13~25のアルキリデンジアリーレン基を表し、これらの基はハロゲン原子、水酸基又は炭素原子数1~4のアルキル基で置換されていてもよい。mは正数である。)
 前記一般式(I)又は(III)中の環Aが、フェニレン基又はナフチレン基である請求の範囲第1又は2項記載の複合材料。
 前記一般式(I)又は(III)中のRが、フェニレン基又はナフチレン基である請求の範囲第1~3項の何れかに記載の複合材料。
 前記(A)層を形成するエポキシ樹脂硬化性組成物を、前記(B)層であるポリイミドからなるフィルム又はシートの片面又は両面に塗布して前記(A)層を形成してなる、請求の範囲第1~4項の何れかに記載の複合材料。
 膜厚0.1~100μmの前記(A)層と、膜厚0.1~100μmの前記(B)層とからなるプリプレグ化物である請求の範囲第1~5項の何れかに記載の複合材料。
 前記ポリアミド化合物が、エポキシ樹脂硬化性組成物の硬化剤である請求の範囲第1~6項の何れかに記載の複合材料。
 前記(A)層を形成するエポキシ樹脂硬化性組成物が、更に充填剤を含有する請求の範囲第1~7項の何れかに記載の複合材料。
 前記充填剤が、平均粒径0.1~20μmの球状シリカである請求の範囲第8項記載の複合材料。
 前記(A)層を形成するエポキシ樹脂硬化性組成物に、リン系難燃剤を、エポキシ樹脂と硬化剤の配合量の合計100重量部に対して5~100重量部配合してなる請求の範囲第1~9項の何れかに記載の複合材料。
 前記リン系難燃剤が、下記一般式(V)で表されるリン酸アマイド化合物である請求の範囲第10項記載の複合材料。
(式中、R 1 、R 2 及びR 3 は、各々独立して、水素原子、炭素原子数1~8のアルキル基、シクロアルキル基又はハロゲン原子を表し、Z 1 及びZ 2 は、各々独立して、直接結合、炭素原子数1~4のアルキレン基又はアルキリデン基を表し、環Cは炭素原子数6~18のアリーレン基、シクロアルキレン基又はアリーレン-アルキレン(アルキリデン)-アリーレン基を表す。)
Description:
複合材料

 本発明は複合材料に関し、詳しくは、特 のポリアミド化合物を硬化剤として得られ エポキシ樹脂からなる層と、ポリイミドか なる層とを積層して得られる複合材料であ て、該エポキシ樹脂からなる層と該ポリイ ドからなる層との界面における接着性に優 た複合材料に関する。

 プリント配線基板にはその特性からエポ シ樹脂が広く用いられており、近年の小型 量化に伴う高密度化においてもエポキシ樹 による対応が検討されている。

 上記エポキシ樹脂として、2,2-ビス(3,4-エ キシシクロヘキシル)プロパンと酸無水物に よる硬化物(特許文献1参照)や、カルボン酸成 分にフェノール性水酸基を有するポリアミド を配合したエポキシ樹脂(特許文献2、特許文 3及び特許文献4参照)等が提案されている。

 これらのエポキシ樹脂、特にプリプレグ に用いられるエポキシ樹脂には、線膨張を 減して、温度による変形を抑制するために 々の無機フィラーを大量に配合することが なわれている。しかし、無機フィラーを大 に配合すると引張り強度や伸びが低減した 、凝集によりショートして回路の信頼性を なう等の問題がある。

ドイツ特許1099733号明細書

特開2001-31784号公報の特許請求の範囲及 第6頁左欄40行目から第8頁末尾までの実施例

特開2001-49082号公報の特許請求の範囲

特開2005-29720号公報の特許請求の範囲

 本出願人は、上述のような事情に鑑み、特 2006-071416号において、プリント配線基板等 用いる材料として効果的な特定のポリアミ 化合物を配合したエポキシ樹脂組成物を提 している。
 ところで、プリント配線基板においては、 熱膨張性、可とう性、基板強度及び加工性 が要求されるが、これらをすべて満足させ 事は困難である。そこで、低熱膨張高強度 ポリイミドフィルムとポリアミド樹脂、エ キシ樹脂接着層を有する複合材料を開発す ことで、それらの欠点を補うことが検討さ ている。この複合材料には、接着層によっ 成型を可能とすることが要求されている。

 しかし、ポリイミド単体では接着性が無い に複合材料として用いるのは不適当である
 また、ポリイミドの接着剤には可溶化ポリ ミド接着剤、エポキシ樹脂接着剤等がある 、高温を要する硬化プロセスが必要であっ り、接着界面の強度が十分に得られていな ったり、耐吸湿性の悪化等の欠点等を有す 。
 従って、本発明の課題は、ポリイミドフィ ムとポリアミド樹脂、エポキシ樹脂接着層 有する複合材料において、ポリイミド層と ポキシ樹脂層との界面における接着性に優 た複合材料を提供することにある。

 本発明者等は、鋭意検討を重ねた結果、 定のポリアミド化合物を硬化剤として得ら るエポキシ樹脂層及びポリイミド層を積層 て得られる複合材料が上記目的を達成し得 ことを見出し、本願発明に到達した。

 即ち、本発明は、(A)繰り返し単位中に、 記一般式(I)又は(II)で表される、フェノール 性水酸基を有する構造を有するポリアミド化 合物を含有するエポキシ樹脂硬化性組成物か らなる層及び(B)ポリイミドからなる層を積層 して得られる複合材料を提供するものである 。

(式中、環Aは炭素原子数6~18のアリーレン基又 は炭素原子数13~25のアルキリデンジアリーレ 基を表し、これらの基はハロゲン原子、水 基又は炭素原子数1~4のアルキル基で置換さ ていてもよく、Rは炭素原子数2~10のアルキ ン基、炭素原子数6~18のシクロアルキレン基 アリーレン基又は炭素原子数13~25のアルキ デンジアリーレン基を表し、これらの基は ロゲン原子、水酸基又は炭素原子数1~4のア キル基で置換されていてもよい。)

(式中、環Bは炭素原子数6~18のアリーレン基又 は炭素原子数13~25のアルキリデンジアリール を表し、これらの基はハロゲン原子、水酸 又は炭素原子数1~4のアルキル基で置換され いてもよい。)

 また、本発明は、前記ポリアミド化合物 、下記一般式(III)又は(IV)で表されるフェノ ル性水酸基を有する構造を有する前記複合 料を提供するものである。

(式中、環Aは炭素原子数6~18のアリーレン基又 は炭素原子数13~25のアルキリデンジアリーレ 基を表し、これらの基はハロゲン原子、水 基又は炭素原子数1~4のアルキル基で置換さ ていてもよく、Rは炭素原子数2~10のアルキ ン基、炭素原子数6~18のシクロアルキレン基 アリーレン基又は炭素原子数13~25のアルキ デンジアリーレン基を表し、これらの基は ロゲン原子、水酸基又は炭素原子数1~4のア キル基で置換されていてもよい。nは正数で る。)

(式中、環Bは炭素原子数6~18のアリーレン基又 は炭素原子数13~25のアルキリデンジアリーレ 基を表し、これらの基はハロゲン原子、水 基又は炭素原子数1~4のアルキル基で置換さ ていてもよい。mは正数である。)

 また、本発明は、前記一般式(I)又は(III) の環Aが、フェニレン基又はナフチレン基で る前記複合材料を提供するものである。

 また、本発明は、前記一般式(I)又は(III) のRが、フェニレン基又はナフチレン基であ 前記複合材料を提供するものである。

 また、本発明は、前記(A)層を形成するエ キシ樹脂硬化性組成物を、前記(B)層である リイミドからなるフィルム又はシートの片 又は両面に塗布して前記(A)層を形成してな 、前記複合材料を提供するものである。

 また、本発明は、膜厚0.1~100μmの前記(A)層 と、膜厚0.1~100μmの前記(B)層とからなるプリ レグ化物である前記複合材料を提供するも である。

 また、本発明は、前記ポリアミド化合物 、エポキシ樹脂硬化性組成物の硬化剤であ 前記複合材料を提供するものである。

 また、本発明は、前記(A)層を形成するエ キシ樹脂硬化性組成物が、更に充填剤を含 する前記複合材料を提供するものである。

 また、本発明は、前記充填剤が、平均粒 0.1~20μmの球状シリカである前記複合材料を 供するものである。

 また、本発明は、前記(A)層を形成するエ キシ樹脂硬化性組成物に、リン系難燃剤を エポキシ樹脂と硬化剤の配合量の合計100重 部に対して5~100重量部配合してなる前記複 材料を提供するものである。

 また、本発明は、前記リン系難燃剤が、 記一般式(V)で表されるリン酸アマイド化合 である前記複合材料を提供するものである

(式中、R 1 、R 2 及びR 3 は、各々独立して、水素原子、炭素原子数1~8 のアルキル基、シクロアルキル基又はハロゲ ン原子を表し、Z 1 及びZ 2 は、各々独立して、直接結合、炭素原子数1~4 のアルキレン基又はアルキリデン基を表し、 環Cは炭素原子数6~18のアリーレン基、シクロ ルキレン基又はアリーレン-アルキレン(ア キリデン)-アリーレン基を表す。)

 以下、本発明の複合材料について詳細に 明する。

 本発明で使用されるポリアミド化合物は その繰り返し単位中に、下記一般式(I)又は( II)で表される構造を有し、その構造中に、フ ェノール性水酸基をアミノ基と隣接する位置 に有していることに特徴がある。

(式中、環Aは炭素原子数6~18のアリーレン基又 は炭素原子数13~25のアルキリデンジアリーレ 基を表し、これらの基はハロゲン原子、水 基又は炭素原子数1~4のアルキル基で置換さ ていてもよく、Rは炭素原子数2~10のアルキ ン基、炭素原子数6~18のシクロアルキレン基 アリーレン基又は炭素原子数13~25のアルキ デンジアリーレン基を表し、これらの基は ロゲン原子、水酸基又は炭素原子数1~4のア キル基で置換されていてもよい。)

(式中、環Bは炭素原子数6~18のアリーレン基又 は炭素原子数13~25のアルキリデンジアリール を表し、これらの基はハロゲン原子、水酸 又は炭素原子数1~4のアルキル基で置換され いてもよい。)

 前記一般式(I)における環A又は前記一般式 (II)における環Bで表される、炭素原子数6~18の アリーレン基としては、1,2-フェニレン基、1, 3-フェニレン基、1,4-フェニレン基、1,5-ナフ レン基、2,5-ナフチレン基、アントラセン-ジ イル、4,4’-ビフェニレン基、4,4’-p-ターフ ニレン基、4,4’-m-ターフェニレン基、2-フル -1,4-オロフェニレン基、2,5-ジメチル-1,4-フェ レン基等が挙げられる。

 前記一般式(I)における環A又は前記一般式 (II)における環Bで表される炭素原子数13~25の ルキリデンジアリーレン基としては、メチ デンジフェニレン基、エチリデンジフェニ ン基、プロピリデンジフェニレン基、イソ ロピリデンジフェニレン基、ヘキサフルオ イソプロピリデンジフェニレン基、プロピ デン-3,3’,5,5’-テトラフルオロジフェニレ 基、フルオレン-9-イリデンジフェニレン基 が挙げられる。

 前記一般式(I)におけるRで表される炭素原 子数2~10のアルキレン基としては、エチレン プロピレン、トリメチレン、テトラメチレ 、2,2-ジメチルトリメチレン、ヘキサメチレ 、オクタメチレン、デカメチレン等が挙げ れる。

 前記一般式(I)におけるRで表される炭素原 子数6~18のシクロアルキレン基としては、シ ロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオク ン、ビシクロヘキサン、ジシクロヘキサン の2価の基が挙げられる。

 前記一般式(I)におけるRで表されるアリー レン基としては、前記の環Aにおけるものと 様の基が挙げられる。

 前記一般式(I)におけるRで表されるアルキ リデンジアリール基としては、前記の環Aに けるものと同様の基が挙げられる。

 本発明で使用される前記一般式(I)のポリ ミド化合物の構造には、フェノール性水酸 と、該フェノール性水酸基に隣接するアミ 基とで、脱水閉環した、下記一般式(VI)の構 造が含まれていてもよい。

(式中、環A及びRは、前記一般式(I)と同様であ る。)

 本発明で使用されるポリアミド化合物は その硬化物の物性(高ガラス転移温度、低線 膨張係数、引張強度、伸び及び可撓性)の点 ら、繰り返し単位中に、前記一般式(I)又は 般式(II)の構造のみのものを含む、下記一般 (III)又は下記一般式(IV)の構造を有するもの 好ましい。

(式中、環Aは炭素原子数6~18のアリーレン基又 は炭素原子数13~25のアルキリデンジアリーレ 基を表し、これらの基はハロゲン原子、水 基又は炭素原子数1~4のアルキル基で置換さ ていてもよく、Rは炭素原子数2~10のアルキ ン基、炭素原子数6~18のシクロアルキレン基 アリーレン基又は炭素原子数13~25のアルキ デンジアリーレン基を表し、これらの基は ロゲン原子、水酸基又は炭素原子数1~4のア キル基で置換されていてもよい。nは正数で る。)

(式中、環Bは炭素原子数6~18のアリーレン基又 は炭素原子数13~25のアルキリデンジアリーレ 基を表し、これらの基はハロゲン原子、水 基又は炭素原子数1~4のアルキル基で置換さ ていてもよい。mは正数である。)

 前記一般式(III)における環Aで表されるア ーレン基としては、前記一般式(I)における のと同様の基が挙げられる。

 前記一般式(III)における環Aで表されるア キリデンジアリーレン基としては、前記一 式(I)におけるものと同様の基が挙げられる

 前記一般式(III)におけるRで表される炭素 子数2~10のアルキレン基としては、前記一般 式(I)におけるものと同様の基が挙げられる。

 前記一般式(III)におけるRで表される炭素 子数6~18のシクロアルキレン基としては、前 記一般式(I)におけるものと同様の基が挙げら れる。

 前記一般式(III)におけるRで表されるアリ レン基としては、前記一般式(I)におけるも と同様の基が挙げられる。

 前記一般式(III)におけるRで表されるアル リデンジアリール基としては、前記一般式( I)におけるものと同様の基が挙げられる。ま 、前記一般式(III)におけるnとしては2~100で るものが、溶媒、エポキシ樹脂、その他配 物との溶解性及び硬化後のフィルム特性の から好ましい。

 前記一般式(IV)における環Bで表されるア ーレン基としては、前記一般式(II)における のと同様の基が挙げられる。

 前記一般式(IV)における環Bで表されるア キリデンジアリーレン基としては、前記一 式(II)におけるものと同様の基が挙げられる また、前記一般式(IV)におけるmとしては2~100 であるものが、溶媒、エポキシ樹脂、その他 配合物との溶解性及び硬化後のフィルム特性 の点から好ましい。

 本発明で使用されるポリアミド化合物とし は、前記一般式(I)又は一般式(III)中の環A及 /又はRがフェニレン基又はナフチレン基で る化合物が好ましい。
 本発明で使用されるポリアミド化合物のよ 具体的な構造としては、例えば、以下のNo.1 ~No.11の構造が挙げられる。ただし、本発明は 以下の構造によりなんら制限を受けるもので はない。

 本発明で使用されるポリアミド化合物は フェノール性水酸基をアミノ基と隣接する 置に有する、フェノール性水酸基含有芳香 ジアミンから得ることができる。すなわち ポリアミド化合物は、フェノール性水酸基 アミノ基と隣接する位置に有する、フェノ ル性水酸基含有芳香族ジアミンと、ジカル ン酸類(各種芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジ カルボン酸等)とを原料として、構成される リアミド化合物である。アミノ基と隣接す 位置につく、フェノール性水酸基の数は、 に限定されず、例えば原料の芳香族ジアミ 1分子について、1個~4個である。

 もちろん本ポリアミド化合物は、フェノ ル性水酸基をアミノ基と隣接する位置に有 るジアミン以外のジアミン化合物(各種芳香 族ジアミン、脂肪族ジアミン等)をさらに原 として、構成成分としてもよいし、フェノ ル性水酸基を含有するジカルボン酸をさら 使用してもかまわない。

 フェノール性水酸基をアミノ基と隣接す 位置に有する、フェノール性水酸基含有芳 族ジアミンの例としては、m-フェニレンジ ミン、p-フェニレンジアミン、m-トリレンジ ミン、4,4'-ジアミノジフェニルエーテル、3, 3'-ジメチル-4,4'-ジアミノジフェニルエーテル 、3,4'-ジアミノジフェニルエーテル、4,4'-ジ ミノジフェニルチオエーテル、3,3'-ジメチル -4,4'-ジアミノジフェニルチオエーテル、3,3'- エトキシ-4,4'-ジアミノジフェニルチオエー ル、3,3'-ジアミノジフェニルチオエーテル 4,4'-ジアミノベンゾフェノン、3,3'-ジメチル- 4,4'-ジアミノベンゾフェノン、3,3'-ジアミノ フェニルメタン、4,4'-ジアミノジフェニルメ タン、3,4'-ジアミノジフェニルメタン、3,3'- メトキシ-4,4'-ジアミノジフェニルチオエー ル、2,2'-ビス(3-アミノフェニル)プロパン、2, 2'-ビス(4-アミノフェニル)プロパン、4,4'-ジア ミノジフェニルスルフォキサイド、4,4'-ジア ノジフェニルスルフォン、ベンチジン、3,3' -ジメチルベンチジン、3,3'-ジメトキシベンチ ジン、3,3'-ジアミノビフェニル、p-キシリレ ジアミン、m-キシリレンジアミン、o-キシリ ンジアミン、2,2'-ビス(3-アミノフェノキシ ェニル)プロパン、2,2'-ビス(4-アミノフェノ シフェニル)プロパン、1,3-ビス(4-アミノフェ ノキシフェニル)ベンゼン、1,3'-ビス(3-アミノ フェノキシフェニル)プロパン、ビス(4-アミ -3-メチルフェニル)メタン、ビス(4-アミノ-3,5 -ジメチルフェニル)メタン、ビス(4-アミノ-3- チルフェニル)メタン、ビス(4-アミノ-3,5-ジ チルフェニル)メタン、ビス(4-アミノ-3-プロ ピルフェニル)メタン、ビス(4-アミノ-3,5-ジプ ロピルフェニル)メタン、2,2'-ビス(3-アミノフ ェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2'-ビス(4- アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン等 芳香族ジアミンの、アミノ基と隣接する位 に、水酸基が1個~4個結合しているものが挙 られる。但し、これらに限定されるもので ない。またこれらは1種又は2種以上混合して 用いても良いし、水酸基の結合していない芳 香族ジアミンと併用してもよい。水酸基の結 合していない芳香族ジアミンの例は上記した ものが挙げられる。

 また、フェノール性水酸基をアミノ基と 接する位置に有する、フェノール性水酸基 有芳香族ジアミンと反応し、本発明のポリ ミド化合物を構成する、ジカルボン酸類の としては、例えば、フタル酸、イソフタル 、テレフタル酸、4,4'-オキシ二安息香酸、4, 4'-ビフェニルジカルボン酸、3,3'-、メチレン 安息香酸、4,4'-メチレン二安息香酸、4,4'-チ オ二安息香酸、3,3'-カルボニル二安息香酸、4 ,4'-カルボニル二安息香酸、4,4'-スルフォニル 二安息香酸、1,5-ナフタレンジカルボン酸、1, 4-ナフタレンジカルボン酸、2,6-ナフタレンジ カルボン酸、1,2-ナフタレンジカルボン酸、5- ヒドロキシイソフタル酸、4-ヒドロキシイソ タル酸、2-ヒドロキシイソフタル酸、3-ヒド ロキシイソフタル酸、2-ヒドロキシテレフタ 酸、2,2'-ビス(3-カルボキシフェニル)ヘキサ ルオロプロパン、2,2'-ビス(4-カルボキシフ ニル)ヘキサフルオロプロパン等が挙げられ が、これらに限定されるものではない。ま これらは1種又は2種以上混合して用いても い。

 前記(A)層を形成するエポキシ樹脂硬化性組 物に用いられるエポキシ樹脂としては、特 制限されず、公知の芳香族エポキシ化合物 脂環族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化 物等が用いられる。芳香族エポキシ化合物 しては、例えば、ハイドロキノン、レゾル ノール、ビスフェノールA、ビスフェノール F、4,4’-ジヒドロキシビフェニル、ノボラッ 、テトラブロモビスフェノールA、2,2-ビス(4 -ヒドロキシフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオ ロプロパン等の多価フェノールのグリシジル エーテル化合物が挙げられる。脂環族エポキ シ化合物としては、少なくとも1個以上の脂 族環を有する多価アルコールのポリグリシ ルエーテル又はシクロヘキセンやシクロペ テン環含有化合物を酸化剤でエポキシ化す ことによって得られるシクロヘキセンオキ イドやシクロペンテンオキサイド含有化合 が挙げられる。例えば、水素添加ビスフェ ールAジグリシジルエーテル、3,4-エポキシシ クロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキ ルカルボキシレート、3,4-エポキシ-1-メチル シクロヘキシル-3,4-エポキシ-1-メチルヘキサ カルボキシレート、6-メチル-3,4-エポキシシ クロヘキシメチル-6-メチル-3,4-エポキシシク ヘキサンカルボキシレート、3,4-エポキシ-3- メチルシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシ-3- チルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4- エポキシ-5-メチルシクロヘキシルメチル-3,4- ポキシ-5-メチルシクロヘキサンカルボキシ ート、ビス(3,4-エポキシシクロヘキシルメ ル)アジペート、メチレンビス(3,4-エポキシ クロヘキサン)、2,2-ビス(3,4-エポキシシクロ キシル)プロパン、ジシクロペンタジエンジ エポキサイド、エチレンビス(3,4-エポキシシ ロヘキサンカルボキシレート)、エポキシヘ キサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘ キサヒドロフタル酸ジ-2-エチルへキシル等が 挙げられる。脂肪族エポキシ化合物としては 、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレン オキサイド付加物のポリグリシジルエーテル 、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエス テル、グリシジルアクリレート又はグリシジ ルメタクリレートのビニル重合により合成し たホモポリマー、グリシジルアクリレート又 はグリシジルメタクリレートとその他のビニ ルモノマーとのビニル重合により合成したコ ポリマー等が挙げられる。代表的な化合物と して、1,4-ブタンジオールジグリシジルエー ル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエー ル、グリセリンのトリグリシジルエーテル トリメチロールプロパンのトリグリシジル ーテル、ソルビトールのテトラグリシジル ーテル、ジペンタエリスリトールのヘキサ リシジルエーテル、ポリエチレングリコー のジグリシジルエーテル、ポリプロピレン リコールのジグリシジルエーテル等の多価 ルコールのグリシジルエーテル、またプロ レングリコール、トリメチロールプロパン グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1種 又は2種以上のアルキレンオキサイドを付加 ることにより得られるポリエーテルポリオ ルのポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖 塩基酸のジグリシジルエステルが挙げられ 。さらに、脂肪族高級アルコールのモノグ シジルエーテルやフェノール、クレゾール ブチルフェノール、また、これらにアルキ ンオキサイドを付加することによって得ら るポリエーテルアルコールのモノグリシジ エーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステ 、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン オクチル、エポキシステアリン酸ブチル、 ポキシ化ポリブタジエン等が挙げられる。
 前記(A)層を形成するエポキシ樹脂硬化性組 物において、本ポリアミド化合物はエポキ 樹脂の硬化剤として作用する。該(A)層を形 するエポキシ樹脂硬化性組成物における本 リアミド化合物(硬化剤)の使用量は、特に 定されず、通常は、エポキシ化合物の全エ キシモル数と硬化剤の官能基数の比が0.9/1.0~ 1.0/0.9であるが、好ましくは、エポキシ化合 の使用量が前記(A)層を形成するエポキシ樹 硬化性組成物において10~80重量%、硬化剤の 用量が前記(A)層を形成するエポキシ樹脂硬 性組成物において5~90重量%となる範囲から、 上記の比を満足するように選択する。また、 フッ素置換された硬化剤は吸水率の低いエポ キシ樹脂なるので好ましいが、フッ素置換化 合物は一般に高価であり、他の特性値等も含 め、用途に応じて適宜選択される。

 さらに、前記(A)層を形成するエポキシ樹 硬化性組成物には、本ポリアミド化合物以 のエポキシ樹脂硬化剤を用いることもでき 。他の硬化剤と組み合わせて使用すること 得られる硬化性組成物の粘度や硬化特性、 た、硬化後の物性等を制御することが期待 きる。他の硬化剤としては、潜在性硬化剤 ポリアミン化合物、ポリフェノール化合物 びカチオン系光開始剤等が挙げられる。こ ら他の硬化剤は、全硬化剤中、好ましくは0 .1~40重量%、さらに好ましくは0.1~10重量%とな ように用いる。

 前記潜在性硬化剤としては、ジシアンジ ミド、ヒドラジド、イミダゾール化合物、 ミンアダクト、スルホニウム塩、オニウム 、ケチミン、酸無水物、三級アミン等が挙 られる。これら潜在性硬化剤は、一液型の 化性組成物を与え、取り扱いが容易なので ましい。

 前記酸無水物としては、例えば、フタル 無水物、トリメリット酸無水物、ピロメリ ト酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物 ヘキサヒドロフタル酸無水物、マレイン酸 水物、コハク酸無水物、2,2-ビス(3,4-ジカル キシフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプ パン二無水物等が挙げられる。

 前記ポリアミン化合物としては、例えば、 チレンジアミン、ジエチレントリアミン、 リエチレンテトラミン等の脂肪族ポリアミ 、メンセンジアミン、イソホロンジアミン ビス(4-アミノ-3-メチルシクロヘキシル)メタ ン、ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、3,9- ビス(3-アミノプロピル)2,4,8,10-テトラオキサ ピロ[5,5]ウンデカン等の脂環族ポリアミン、 m-キシレンジアミン等の芳香環を有する脂肪 アミン、m-フェニレンジアミン、2,2-ビス(4- ミノフェニル)プロパン、ジアミノジフェニ ルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、α, α-ビス(4-アミノフェニル)-p-ジイソプロピル ンゼン、2,2-ビス(4-アミノフェニル)-1,1,1,3,3,3 -ヘキサフルオロプロパン等の芳香族ポリア ンが挙げられる。
 前記ポリフェノール化合物としては、例え 、フェノールノボラック、o-クレゾールノ ラック、t-ブチルフェノールノボラック、ジ シクロペンタジエンクレゾール、テルペンジ フェノール、テルペンジカテコール、1,1,3-ト リス(3-第三ブチル-4-ヒドロキシ-6-メチルフェ ニル)ブタン、ブチリデンビス(3-第三ブチル-4 -ヒドロキシ-6-メチルフェニル)、2,2-ビス(4-ヒ ドロキシフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ ロパン等が挙げられる。フェノールノボラ クは得られるエポキシ樹脂の電気特性、機 強度が積層板に適しているので好ましい。

 前記イミダゾール化合物としては、例え 2-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾ ール、2-ウンデシルイミダゾール、2-ヘプタ シルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミ ダゾール、1-ベンジル-2-フェニルイミダゾー 、1-ベンジル-2-メチルイミダゾール、1-シア ノエチル-2-メチルイミダゾール、1-シアノエ ル-2-フェニルイミダゾール、1-シアノエチ -2-ウンデシルイミダゾール、2,4-ジアミノ-6(2 '-メチルイミダゾール(1'))エチル-s-トリアジ 、2,4-ジアミノ-6(2'-ウンデシルイミダゾール( 1'))エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6(2'-エ ル,4-メチルイミダゾール(1'))エチル-s-トリ ジン、2,4-ジアミノ-6(2'-メチルイミダゾール( 1'))エチル-s-トリアジン・イソシアヌル酸付 物、2-メチルイミダゾールイソシアヌル酸の 2:3付加物、2-フェニルイミダゾールイソシア ル酸付加物、2-フェニル-3,5-ジヒドロキシメ チルイミダゾール、2-フェニル-4-ヒドロキシ チル-5-メチルイミダゾール、1-シアノエチ -2-フェニル-3,5-ジシアノエトキシメチルイミ ダゾールの各種イミダゾール類、及び、それ らイミダゾール類とフタル酸、イソフタル酸 、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリ ット酸、ナフタレンジカルボン酸、マレイン 酸、蓚酸等の多価カルボン酸との塩類が挙げ られる。

 本発明で使用し得るカチオン系光開始剤と 、エネルギー線照射によりカチオン重合を 始させる物質を放出させることが可能な化 物であり、特に好ましいものは、照射によ てルイス酸を放出するオニウム塩である複 又はその誘導体である。かかる化合物の代 的なものとしては、下記の一般式、
 [A] m+ [B] m-
で表される陽イオンと陰イオンの塩を挙げる ことができる。
 ここで陽イオン[A] m+ は、オニウムであるのが好ましく、その構造 は、例えば、下記の一般式、
 [(R 11 ) a Q] m+
で表すことができる。

 前記一般式において、R 11 は炭素数が1~60であり、炭素原子以外の原子 いくつ含んでもよい有機の基である。aは1~5 整数である。a個のR 11 は各々独立で、同一でも異なっていてもよい 。また、少なくとも1つは、芳香環を有する 記の如き有機の基であることが好ましい。Q S、N、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、I、Br、Cl、F びN=Nからなる群から選ばれる原子或いは原 団である。また、陽イオン[A] m+ 中のQの原子価をqとしたとき、m=a-qなる関係 成り立つことが必要である(但し、N=Nは原子 0として扱う)。

 また、陰イオン[B] m- は、ハロゲン化物錯体であるのが好ましく、 その構造は、例えば、下記一般式、
[LX b ] m-
で表すことができる。

 前記一般式において、Lはハロゲン化物錯体 の中心原子である金属又は半金属(Metalloid)で り、B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、In、Ti Zn、Sc、V、Cr、Mn、Co等である。Xはハロゲン 子である。bは3~7の整数である。また、陰イ ン[B] m- 中のLの原子価をpとしたとき、m=b-pなる関係 成り立つことが必要である。

 前記一般式で表される陰イオン[LX b ] m- の具体例としては、テトラフルオロボレート (BF 4 ) - 、ヘキサフルオロフォスフェート(PF 6 ) - 、ヘキサフルオロアンチモネート(SbF 6 ) - 、ヘキサフルオロアルセネート(AsF 6 ) - 、ヘキサクロロアンチモネート(SbCl 6 ) - 等が挙げられる。

 また、陰イオン[B] m- は、
 [LX b-1 (OH)] m-
で表される構造のものも好ましく用いること ができる。L、X、bは上記と同様である。また 、その他用いることができる陰イオンとして は、過塩素酸イオン(ClO 4 ) - 、トリフルオロメチル亜硫酸イオン(CF 3 SO 3 ) - 、フルオロスルホン酸イオン(FSO 3 ) - 、トルエンスルホン酸陰イオン、トリニトロ ベンゼンスルホン酸陰イオン等が挙げられる 。

 本発明では、この様なオニウム塩の中でも 下記のイ)~ハ)の芳香族オニウム塩を使用す のが特に有効である。これらの中から、そ 1種を単独で、又は2種以上を混合して使用 ることができる。
 イ)フェニルジアゾニウムヘキサフルオロホ スフェート、4-メトキシフェニルジアゾニウ ヘキサフルオロアンチモネート、4-メチル ェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフ ート等のアリールジアゾニウム塩
 ロ)ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロ アンチモネート、ジ(4-メチルフェニル)ヨー ニウムヘキサフルオロホスフェート、ジ(4-te rt-ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフル ロホスフェート等のジアリールヨードニウ 塩
 ハ)トリフェニルスルホニウムヘキサフルオ ロアンチモネート、トリス(4-メトキシフェニ ル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェー 、ジフェニル-4-チオフェノキシフェニルス ホニウムヘキサフルオロアンチモネート、 フェニル-4-チオフェノキシフェニルスルホ ウムヘキサフルオロホスフェート、4,4'-ビス (ジフェニルスルフォニオ)フェニルスルフィ -ビス-ヘキサフルオロアンチモネート、4,4'- ビス(ジフェニルスルフォニオ)フェニルスル ィド-ビス-ヘキサフルオロホスフェート、4, 4'-ビス[ジ(β-ヒドロキシエトキシ)フェニルス ルホニオ]フェニルスルフィド-ビス-ヘキサフ ルオロアンチモネート、4,4'-ビス[ジ(β-ヒド キシエトキシ)フェニルスルホニオ]フェニル スルフィド-ビス-ヘキサフルオロホスフェー 、4-[4'-(ベンゾイル)フェニルチオ]フェニル- ジ-(4-フルオロフェニル)スルホニウムヘキサ ルオロアンチモネート、4-[4'-(ベンゾイル) ェニルチオ]フェニル-ジ-(4-フルオロフェニ )スルホニウムヘキサフルオロホスフェート のトリアリールスルホニウム塩等が好まし 。

 また、その他のカチオン系光開始剤として ましいものは、(η 5 -2,4-シクロペンタジエン-1-イル)〔(1,2,3,4,5,6,- )-(1-メチルエチル)ベンゼン〕-アイアン-ヘキ サフルオロホスフェート等の鉄-アレーン錯 や、トリス(アセチルアセトナト)アルミニウ ム、トリス(エチルアセトナトアセタト)アル ニウム、トリス(サリチルアルデヒダト)ア ミニウム等のアルミニウム錯体とトリフェ ルシラノール等のシラノール類との混合物 も挙げられる。

 これらのカチオン系光開始剤の中でも実 面と光感度の観点から、芳香族ヨードニウ 塩、芳香族スルホニウム塩又は鉄-アレーン 錯体を用いることが好ましい。

 これらのカチオン系光開始剤は、安息香酸 又は第三級アミン系等の公知の光重合促進 の1種又は2種以上と組み合わせて用いても い。前記カチオン系光開始剤は、前記(A)層 形成するエポキシ樹脂硬化性組成物中、0.1~3 0重量%含有していることが好ましい。0.1重量% 未満では添加効果が得られないことがあり、 30重量%より多いと硬化物の機械強度が低下す ることがある。
 前記カチオン系光開始剤を用いる場合の重 に用いる光源としては、高圧水銀灯、メタ ハライドランプ、キセノンランプ等の公知 光源を用い、紫外線、電子線、X線、放射線 、高周波等の活性エネルギー線の照射により 前記カチオン系光開始剤からルイス酸を放出 することで、上記エポキシ化合物を硬化させ る。前記光源としては、400nm以下の波長を有 る光源が有効である。

 前記(A)層を形成するエポキシ樹脂硬化性 成物には、リン系難燃剤等の難燃剤を配合 ることができる。該難燃剤の配合量は、エ キシ樹脂と硬化剤の配合量の合計100重量部 対して、好ましくは5~100重量部、より好ま くは5~20重量部である。該難燃剤としては、 記一般式(V)で表されるリン酸アマイド化合 が好ましい。

(式中、R 1 、R 2 及びR 3 は、各々独立して、水素原子、炭素原子数1~8 のアルキル基、シクロアルキル基又はハロゲ ン原子を表し、Z 1 及びZ 2 は、各々独立して、直接結合、炭素原子数1~4 のアルキレン基又はアルキリデン基を表し、 環Cは炭素原子数6~18のアリーレン基、シクロ ルキレン基又はアリーレン-アルキレン(ア キリデン)-アリーレン基を表す。)

 前記(A)層を形成するエポキシ樹脂硬化性組 物は、充填剤を使用せずとも、その硬化物 物性(高ガラス転移温度、低線膨張係数、引 張強度、伸び及び可とう性)は優れたもので るが、さらに充填剤(フィラー)を好ましく用 いることもできる。
 前記充填剤としては、ガラス繊維、ホウ酸 ルミニウムウィスカー、窒化ホウ素ウィス ー、チタン酸カリウムウィスカー、酸化チ ンウィスカー等の繊維状充填剤や、シリカ 溶融シリカ、アルミナ等の球状充填剤を用 ることが好ましく、特に、硬化物の物性(高 ガラス転移温度、低線膨張係数、引張強度、 伸び及び可とう性)の点から球状シリカ又は 状の溶融シリカが好ましい。もちろん、繊 状、球状の形態に限らない、シリカ、アル ナ、ホウ酸アルミ、窒化アルミ、窒化ホウ 、チタン酸カリウム、酸化チタン等も用い こともでき、その他、充填剤として、タル 、マイカ、炭酸カルシウム、ガラスフレー 、ガラスビーズ、ガラスバルーン、ケイ酸 ルシウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリ ム、マグネシア、フェライト、各種金属微 子、黒鉛、カーボンや、炭素繊維、ガラス 維、ボロン繊維、シリコンカーバイト繊維 アルミナ繊維、シリカアルミナ繊維等の無 系繊維、アラミド繊維、ポリエステル繊維 セルロース繊維、炭素繊維等の有機系繊維 が挙げられる。

 前記繊維状充填剤は長軸方向の長さやア ペクト比を用途に応じて適宜選択すること 好ましく、球状充填剤は真球状で粒径が小 いものが好ましく、特に平均粒径が0.1~20μm 範囲内のものが好ましい。

 前記(A)層を形成するエポキシ樹脂硬化性 成物中の、前記充填剤の含有量は、硬化物 物性の点から、0.1~25重量%が好ましく、10~15 量%がより好ましい。

 本発明で用いられるエポキシ樹脂硬化性 成物には、必要に応じて、他の添加物を加 ることができる。例えば天然ワックス類、 成ワックス類及び長鎖脂肪族酸の金属塩類 の可塑剤、酸アミド類、エステル類、パラ ィン類等の離型剤、ニトリルゴム、ブタジ ンゴム等の応力緩和剤、三酸化アンチモン 五酸化アンチモン、酸化錫、水酸化錫、酸 モリブデン、硼酸亜鉛、メタ硼酸バリウム 赤燐、水酸化アルミニウム、水酸化マグネ ウム、アルミン酸カルシウム等の無機難燃 、テトラブロモビスフェノールA、テトラブ ロモ無水フタル酸、ヘキサブロモベンゼン、 ブロム化フェノールノボラック等の臭素系難 燃剤、前記した以外のリン系難燃剤、シラン 系カップリング剤、チタネート系カップリン グ剤、アルミニウム系カップリング剤等のカ ップリング剤、染料や顔料等の着色剤、酸化 安定剤、光安定剤、耐湿性向上剤、チキソト ロピー付与剤、希釈剤、消泡剤、他の各種の 樹脂、粘着付与剤、帯電防止剤、滑剤、紫外 線吸収剤、さらには、アルコール類、エーテ ル類、アセタール類、ケトン類、エステル類 、アルコールエステル類、ケトンアルコール 類、エーテルアルコール類、ケトンエーテル 類、ケトンエステル類やエステルエーテル類 、芳香族系溶剤等の有機溶剤等を配合するこ ともできる。前記(A)層を形成するエポキシ樹 脂硬化性組成物中の、これら他の添加物の含 有量は、好ましくは合計で5重量%以下とする

 前記(B)層を形成するポリイミドは特に制 されるものではないが、例えば、テトラカ ボン酸無水物成分とジアミン成分とを有機 媒中で反応させてポリアミド酸溶液を経て ることができるものである。

 前記ジアミン成分としては、例えば、1,2- フェニレンジアミン、1,3-フェニレンジアミ 、1,4-フェニレンジアミン、3,3'-ジアミノビ ェニル、3,4'-ジアミノビフェニル、4,4'-ジア ノビフェニル、3,3"-ジアミノテルフェニル 4,4"-ジアミノテルフェニル、3,3"'-ジアミノク ァテルフェニル、4,4"'-ジアミノクァテルフェ ニル、3,3""-ジアミノキンクフェニル、4,4""-ジ アミノキンクフェニル、オキシ-3,3'-ジアニリ ン、オキシ-4,4'-ジアニリン、チオ-3,3'-ジアニ リン、チオ-4,4'-ジアニリン、スルホニル-3,3'- ジアニリン、スルホニル-4,4'-ジアニリン、メ チレン-3,3'-ジアニリン、メチレン-4,4'-ジアニ リン、1,2-エチレン-3,3'-ジアニリン、1,2-エチ ン-4,4'-ジアニリン、1,1-エチリデン-3,3'-ジア ニリン、1,1-エチリデン-4,4'-ジアニリン、1,3- ロピリデン-3,3'-ジアニリン、1,3-プロピリデ ン-4,4'-ジアニリン、2,2-プロピリデン-3,3'-ジ ニリン、2,2-プロピリデン-4,4'-ジアニリン、 フルオロメチレン-3,3'-ジアニリン、ジフル ロメチレン-4,4'-ジアニリン、1,1,2,2-テトラ ルオロ-1,2-エチレン-3,3'-ジアニリン、1,1,2,2- トラフルオロ-1,2-エチレン-4,4'-ジアニリン 2,2,2-トリフルオロ-1,1-エチリデン-3,3'-ジアニ リン、2,2,2-トリフルオロ-1,1-エチリデン-4,4'- アニリン、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2,2-プ ピリデン-3,3'-ジアニリン、1,1,1,3,3,3-ヘキサ ルオロ-2,2-プロピリデン-4,4'-ジアニリン、1,1 ,2,2,3,3-ヘキサフルオロ-1,3-プロピレン-3,3'-ジ ニリン、1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロ-1,3-プロ レン-4,4'-ジアニリン、1,3-ビス(3-アミノフェ キシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキ )ベンゼン、1,3-ビス(3-アミノフェニルチオ) ンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェニルチオ)ベン ゼン、1,3-ビス(3-アミノフェニルスルホニル) ンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェニルスルホニ ル)ベンゼン、1,3-ビス[2-(3-アミノフェニル)-2- プロピル]ベンゼン、1,3-ビス[2-(4-アミノフェ ル)-2-プロピル]ベンゼン、1,3-ビス[2-(3-アミ フェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロ ル]ベンゼン、1,3-ビス[2-(4-アミノフェニル)-1 ,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピル]ベンゼン 、1,4-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4- ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス( 3-アミノフェニルチオ)ベンゼン、1,4-ビス(4- ミノフェニルチオ)ベンゼン、1,4-ビス(3-アミ ノフェニルスルホニル)ベンゼン、1,4-ビス(4- ミノフェニルスルホニル)ベンゼン、1,4-ビ [2-(3-アミノフェニル)-2-プロピル]ベンゼン、 1,4-ビス[2-(4-アミノフェニル)-2-プロピル]ベン ゼン、1,4-ビス[2-(3-アミノフェニル)-1,1,1,3,3,3- ヘキサフルオロ-2-プロピル]ベンゼン、1,4-ビ [2-(4-アミノフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフル ロ-2-プロピル]ベンゼン、4,4'-ビス(3-アミノ ェノキシ)ビフェニル、4,4'-ビス(4-アミノフ ノキシ)ビフェニル、ビス[4-(3-アミノフェノ シ)フェニル]エーテル、ビス[4-(4-アミノフ ノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4-(3-アミノ フェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(4-ア ノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2-ビス[ 4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2, 2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロ ン、2,2-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル ]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス [4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘ キサフルオロプロパン、5-フルオロ-1,3-フェ レンジアミン、2-フルオロ-1,4-フェニレンジ ミン、2,5-ジフルオロ-1,4-フェニレンジアミ 、2,4,5,6-ヘキサフルオロ-1,3-フェニレンジア ミン、2,3,5,6-ヘキサフルオロ-1,4-フェニレン アミン、3,3'-ジアミノ-5,5'-ジフルオロビフェ ニル、4,4'-ジアミノ-2,2'-ジフルオロビフェニ 、4,4'-ジアミノ-3,3'-ジフルオロビフェニル 3,3'-ジアミノ-2,2',4,4',5,5',6,6'-オクタフルオロ ビフェニル、4,4'-ジアミノ-2,2',3,3',5,5',6,6'-オ タフルオロビフェニル、オキシ-5,5'-ビス(3- ルオロアニリン)、オキシ-4,4'-ビス(2-フルオ ロアニリン)、オキシ-4,4'-ビス(3-フルオロア リン)、スルホニル-5,5'-ビス(3-フルオロアニ ン)、スルホニル-4,4'-ビス(2-フルオロアニリ ン)、スルホニル-4,4'-ビス(3-フルオロアニリ )、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)-5-フルオロ ンゼン、1,3-ビス(3-アミノ-5-フルオロフェノ シ)ベンゼン、1,3-ビス(3-アミノ-5-フルオロ ェノキシ)-5-フルオロベンゼン、5-(トリフル ロメチル)-1,3-フェニレンジアミン、2-(トリ ルオロメチル)-1,4-フェニレンジアミン、2,5- ビス(トリフルオロメチル)-1,4-フェニレンジ ミン、2,2'-ビス(トリフルオロメチル)-4,4'-ジ ミノビフェニル、3,3'-ビス(トリフルオロメ ル)-4,4'-ジアミノビフェニル、オキシ-5,5'-ビ ス[3-(トリフルオロメチル)アニリン]、オキシ -4,4'-ビス[2-(トリフルオロメチル)アニリン]、 オキシ-4,4'-ビス[3-(トリフルオロメチル)アニ ン]、スルホニル-5,5'-ビス[3-(トリフルオロ チル)アニリン]、スルホニル-4,4'-ビス[2-(ト フルオロメチル)アニリン]、スルホニル-4,4'- ビス[3-(トリフルオロメチル)アニリン]、1,3- ス(3-アミノフェノキシ)-5-(トリフルオロメチ ル)ベンゼン、1,3-ビス[3-アミノ-5-(トリフルオ ロメチル)フェノキシ]ベンゼン、1,3-ビス[3-ア ミノ-5-(トリフルオロメチル)フェノキシ]-5-( リフルオロメチル)ベンゼン、3,3'-ビス(トリ ルオロメチル)-5,5'-ジアミノビフェニル、ビ ス(3-アミノフェノキシ)ジメチルシラン、ビ (4-アミノフェノキシ)ジメチルシラン、1,3-ビ ス(3-アミノフェニル)-1,1,3,3-テトラメチルジ ロキサン、1,3-ビス(4-アミノフェニル)-1,1,3,3- テトラメチルジシロキサン、メチレンジアミ ン、1,2-エタンジアミン、1,3-プロパンジアミ 、1,4-ブタンジアミン、1,5-ペンタンジアミ 、1,6-ヘキサンジアミン、1,7-ヘプタンジアミ ン、1,8-オクタンジアミン、1,9-ノナンジアミ 、1,10-デカンジアミン、1,2-ビス(3-アミノプ ポキシ)エタン、1,3-ジアミノシクロヘキサ 、1,4-ジアミノシクロヘキサン、ビス(3-アミ シクロヘキシル)メタン、ビス(4-アミノシク ロヘキシル)メタン、1,2-ビス(3-アミノシクロ キシル)エタン、1,2-ビス(4-アミノシクロヘ シル)エタン、2,2-ビス(3-アミノシクロヘキシ ル)プロパン、2,2-ビス(4-アミノシクロヘキシ )プロパン、ビス(3-アミノシクロヘキシル) ーテル、ビス(4-アミノシクロヘキシル)エー ル、ビス(3-アミノシクロヘキシル)スルホン 、ビス(4-アミノシクロヘキシル)スルホン、2, 2-ビス(3-アミノシクロヘキシル)-1,1,1,3,3,3-ヘ サフルオロプロパン、2,2-ビス(4-アミノシク ヘキシル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパ 、1,3-キシリレンジアミン、1,4-キシリレンジ アミン、1,8-ジアミノナフタレン、2,7-ジアミ ナフタレン、2,6-ジアミノナフタレン、2,5- アミノピリジン、2,6-ジアミノピリジン、2,5- ジアミノピラジン、2,4-ジアミノ-s-トリアジ 、1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1, 4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4-ビ (3-アミノプロピルジメチルシリル)ベンゼン 及び1,3-ビス(3-アミノプロピル)-1,1,3,3-テトラ ェニルジシロキサン等が挙げられる。

 前記テトラカルボン酸成分としては、例 ば、ピロメリト酸二無水物、3-フルオロピ メリト酸二無水物、3,6-ジフルオロピロメリ 酸二無水物、3-(トリフルオロメチル)ピロメ リト酸二無水物、3,6-ビス(トリフルオロメチ )ピロメリト酸二無水物、1,2,3,4-ベンゼンテ ラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'-ベンゾフェ ノンテトラカルボン酸二無水物、2,2',3,3'-ベ ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3', 4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3 ,3",4,4"-テルフェニルテトラカルボン酸二無水 物、3,3"',4,4"'-クァテルフェニルテトラカルボ ン酸二無水物、3,3"",4,4""-キンクフェニルテト ラカルボン酸二無水物、2,2',3,3'-ビフェニル トラカルボン酸二無水物、メチレン-4,4'-ジ タル酸二無水物、1,1-エチリデン-4,4'-ジフタ 酸二無水物、2,2-プロピリデン-4,4'-ジフタル 酸二無水物、1,2-エチレン-4,4'-ジフタル酸二 水物、1,3-トリメチレン-4,4'-ジフタル酸二無 物、1,4-テトラメチレン-4,4'-ジフタル酸二無 水物、1,5-ペンタメチレン-4,4'-ジフタル酸二 水物、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2,2-プロピリ デン-4,4'-ジフタル酸二無水物、ジフルオロメ チレン-4,4'-ジフタル酸二無水物、1,1,2,2-テト フルオロ-1,2-エチレン-4,4'-ジフタル酸二無 物、1,1,2,2,3,3-ヘキサフルオロ-1,3-トリメチレ ン-4,4'-ジフタル酸二無水物、1,1,2,2,3,3,4,4-オ タフルオロ-1,4-テトラメチレン-4,4'-ジフタル 酸二無水物、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-デカフルオロ-1,5 -ペンタメチレン-4,4'-ジフタル酸二無水物、 キシ-4,4'-ジフタル酸二無水物、チオ-4,4'-ジ タル酸二無水物、スルホニル-4,4'-ジフタル 二無水物、1,3-ビス(3,4-ジカルボキシフェニ )ベンゼン二無水物、1,4-ビス(3,4-ジカルボキ フェニル)ベンゼン二無水物、1,3-ビス(3,4-ジ カルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、1, 4-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン 無水物、1,3-ビス[2-(3,4-ジカルボキシフェニ )-2-プロピル]ベンゼン二無水物、1,4-ビス[2-( 3,4-ジカルボキシフェニル)-2-プロピル]ベンゼ ン二無水物、ビス[3-(3,4-ジカルボキシフェノ シ)フェニル]メタン二無水物、ビス[4-(3,4-ジ カルボキシフェノキシ)フェニル]メタン二無 物、2,2-ビス[3-(3,4-ジカルボキシフェノキシ) フェニル]プロパン二無水物、2,2-ビス[4-(3,4- カルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二 無水物、2,2-ビス[3-(3,4-ジカルボキシフェノキ シ)フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパ ン二無水物、2,2-ビス[4-(3,4-ジカルボキシフェ ノキシ)フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプ ロパン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェ キシ)ジメチルシラン二無水物、1,3-ビス(3,4- ジカルボキシフェニル)-1,1,3,3-テトラメチル シロキサン二無水物、2,3,6,7-ナフタレンテト ラカルボン酸二無水物、1,4,5,8-ナフタレンテ ラカルボン酸二無水物、1,2,5,6-ナフタレン トラカルボン酸二無水物、3,4,9,10-ペリレン トラカルボン酸二無水物、2,3,6,7-アントラセ ンテトラカルボン酸二無水物、1,2,7,8-フェナ トレンテトラカルボン酸二無水物、エチレ テトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-ブタン トラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロブタ ンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタ ンテトラカルボン酸二無水物、シクロヘキサ ン-1,2,3,4-テトラカルボン酸二無水物、シクロ ヘキサン-1,2,4,5-テトラカルボン酸二無水物、 3,3',4,4'-ビシクロヘキシルテトラカルボン酸 無水物、カルボニル-4,4'-ビス(シクロヘキサ -1,2-ジカルボン酸)二無水物、メチレン-4,4'- ス(シクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸)二無水 物、1,2-エチレン-4,4'-ビス(シクロヘキサン-1,2 -ジカルボン酸)二無水物、1,1-エチリデン-4,4'- ビス(シクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸)二無 物、2,2-プロピリデン-4,4'-ビス(シクロヘキサ ン-1,2-ジカルボン酸)二無水物、1,1,1,3,3,3-ヘキ サフルオロ-2,2-プロピリデン-4,4'-ビス(シクロ ヘキサン-1,2-ジカルボン酸)二無水物、オキシ -4,4'-ビス(シクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸) 無水物、チオ-4,4'-ビス(シクロヘキサン-1,2- カルボン酸)二無水物、スルホニル-4,4'-ビス( シクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸)二無水物、 2,2'-ジフルオロ-3,3',4,4'-ビフェニルテトラカ ボン酸二無水物、5,5'-ジフルオロ-3,3',4,4'-ビ ェニルテトラカルボン酸二無水物、6,6'-ジ ルオロ-3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸 二無水物、2,2',5,5',6,6'-ヘキサフルオロ-3,3',4,4 '-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2' -ビス(トリフルオロメチル)-3,3',4,4'-ビフェニ テトラカルボン酸二無水物、5,5'-ビス(トリ ルオロメチル)-3,3',4,4'-ビフェニルテトラカ ボン酸二無水物、6,6'-ビス(トリフルオロメ ル)-3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二 水物、2,2',5,5'-テトラキス(トリフルオロメ ル)-3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二 水物、2,2',6,6'-テトラキス(トリフルオロメチ ル)-3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無 水物、5,5',6,6'-テトラキス(トリフルオロメチ )-3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無 物、2,2',5,5',6,6'-ヘキサキス(トリフルオロメ チル)-3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二 無水物、オキシ-4,4'-ビス(3-フルオロフタル酸 )二無水物、オキシ-4,4'-ビス(5-フルオロフタ 酸)二無水物、オキシ-4,4'-ビス(6-フルオロフ ル酸)二無水物、オキシ-4,4'-ビス(3,5,6-トリ ルオロフタル酸)二無水物、オキシ-4,4'-ビス[ 3-(トリフルオロメチル)フタル酸]二無水物、 キシ-4,4'-ビス[5-(トリフルオロメチル)フタ 酸]二無水物、オキシ-4,4'-ビス[6-(トリフルオ ロメチル)フタル酸]二無水物、オキシ-4,4'-ビ [3,5-ビス(トリフルオロメチル)フタル酸]二 水物、オキシ-4,4'-ビス[3,6-ビス(トリフルオ メチル)フタル酸]二無水物、オキシ-4,4'-ビス [5,6-ビス(トリフルオロメチル)フタル酸]二無 物、オキシ-4,4'-ビス[3,5,6-トリス(トリフル ロメチル)フタル酸]二無水物、スルホニル-4, 4'-ビス(3-フルオロフタル酸)二無水物、スル ニル-4,4'-ビス(5-フルオロフタル酸)二無水物 スルホニル-4,4'-ビス(6-フルオロフタル酸)二 無水物、スルホニル-4,4'-ビス(3,5,6-トリフル ロフタル酸)二無水物、スルホニル-4,4'-ビス[ 3-(トリフルオロメチル)フタル酸]二無水物、 ルホニル-4,4'-ビス[5-(トリフルオロメチル) タル酸]二無水物、スルホニル-4,4'-ビス[6-(ト リフルオロメチル)フタル酸]二無水物、スル ニル-4,4'-ビス[3,5-ビス(トリフルオロメチル) フタル酸]二無水物、スルホニル-4,4'-ビス[3,6- ビス(トリフルオロメチル)フタル酸]二無水物 、スルホニル-4,4'-ビス[5,6-ビス(トリフルオロ メチル)フタル酸]二無水物、スルホニル-4,4'- ス[3,5,6-トリス(トリフルオロメチル)フタル ]二無水物、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2,2-プ ピリデン-4,4'-ビス(3-フルオロフタル酸)二無 水物、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2,2-プロピリ ン-4,4'-ビス(5-フルオロフタル酸)二無水物、 1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2,2-プロピリデン-4,4 '-ビス(6-フルオロフタル酸)二無水物、1,1,1,3,3 ,3-ヘキサフルオロ-2,2-プロピリデン-4,4'-ビス( 3,5,6-トリフルオロフタル酸)二無水物、1,1,1,3, 3,3-ヘキサフルオロ-2,2-プロピリデン-4,4'-ビス [3-(トリフルオロメチル)フタル酸]二無水物、 1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2,2-プロピリデン-4,4 '-ビス[5-(トリフルオロメチル)フタル酸]二無 物、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2,2-プロピリ ン-4,4'-ビス[6-(トリフルオロメチル)フタル酸 ]二無水物、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2,2-プロ ピリデン-4,4'-ビス[3,5-ビス(トリフルオロメチ ル)フタル酸]二無水物、1,1,1,3,3,3-ヘキサフル ロ-2,2-プロピリデン-4,4'-ビス[3,6-ビス(トリ ルオロメチル)フタル酸]二無水物、1,1,1,3,3,3- ヘキサフルオロ-2,2-プロピリデン-4,4'-ビス[5,6 -ビス(トリフルオロメチル)フタル酸]二無水 、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2,2-プロピリデン -4,4'-ビス[3,5,6-トリス(トリフルオロメチル)フ タル酸]二無水物、9-フェニル-9-(トリフルオ メチル)キサンテン-2,3,6,7-テトラカルボン酸 無水物、9,9-ビス(トリフルオロメチル)キサ テン-2,3,6,7-テトラカルボン酸二無水物及び シクロ[2,2,2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカル ボン酸二無水物等が挙げられる。

 前記ポリアミド酸を得るためには、有機 媒中、前記ジアミン成分の使用量が、前記 トラカルボン酸無水物成分のモル数に対す 比として、好ましくは0.90~1.10であり、より ましくは0.95~1.05で反応させてポリアミド酸 することが好ましい。

 このポリアミド酸においては、ポリマー 末端を封止することが好ましい。末端封止 を用いて封止する場合、その末端封止剤と ては無水フタル酸及びその置換体、ヘキサ ドロ無水フタル酸及びその置換体、無水コ ク酸及びその置換体、アミン成分としては ニリン及びその置換体が挙げられるがこれ 限るものではない。

 前記有機溶媒としては、ジメチルスルホ シド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメ ルアセトアミド、N-メチルピロリドン及び1,3 -ジメチルイミダゾリジノン等が用いられる これらの溶媒は、単独で或いは2種以上組み わせて使用することができる。

 前記ポリアミド酸溶液は、好ましくは、 形分濃度1~15重量%、より好ましくは3~10重量% のポリアミド酸の溶液が調製される。

 上記得られたポリアミド酸溶液を賦形し 加熱脱水することによって前記(B)層を形成 るポリイミドのフィルム又はシートを作成 ることができる。

 前記(B)層を形成するポリイミドは上記方 によって特に制限されるものではなく、通 知られた方法で製造することができ、さら 通常市販されているものを組成物として使 することもできる。このような市販品とし は、例えば、宇部興産 「ユーピレックス 、東レ・デュポン「カプトン」、カネカ 「 アピカル」等が挙げられる。

 前記(A)層を形成するエポキシ硬化性樹脂組 物と前記(B)層を形成するポリイミドとから 発明の複合材料を製造する方法は、例えば 以下の1)~3)の方法が挙げられる。
 1)ポリイミドフィルム又はシートにエポキ 樹脂硬化性樹脂組成物を任意の厚みで塗布 、熱乾燥又はUV照射によってB-ステージ状態 したプリプレグを得る方法。
 2)ポリエチレンテレフタレート、ポリエー ルスルホン等のキャリヤーフィルム上にエ キシ樹脂硬化性組成物を任意の厚みで塗布 、熱乾燥又はUV照射によってB-ステージ状態 したドライフィルムを作成し、使用前にポ イミドフィルムへ熱転写ラミネートしプリ レグを得る方法。
 3)積層成型時に2)で作成したドライフィルム とポリイミドを一括積層する方法。

 前記(A)層であるエポキシ樹脂層及び前記( B)層であるポリイミド層の膜厚は任意である 、好ましくは、共に0.1~100μmである。

 以上述べた前記(A)層を形成するエポキシ樹 硬化性組成物は、これをN-メチルピロリド 、プロピレングリコールモノメチルエーテ 等の好適な有機溶媒で希釈してワニスとな 、これを前記(B)層であるポリイミドからな フィルムに塗布させ、加熱するという通常 方法によりプリプレグを製造することがで る。また、このプリプレグを複数枚重ね合 せ、その積層構造の片面又は両面に銅箔を ね合わせた後、これを通常の条件で加熱・ 圧することにより、ポリイミド・ポリアミ ・エポキシ樹脂複合体を得ることができる このとき、銅箔を用いなければ、積層板が られる。また、該銅張積層板(内層板)に回路 を形成し、ついで銅箔をエッチング処理した 後、内層板の少なくとも片面にプリプレグ及 び銅箔を重ね合わせ、これを例えば170℃、40k g/cm 2 の圧力で90分間加熱・加圧するという通常の 法により、多層板を製造することができる さらに、該銅張積層板若しくは該多層板に ルーホールを形成し、スルーホールメッキ 行った後、所定の回路を形成するという通 の方法により、プリント配線板を製造する とができる。

 前記(A)層及び前記(B)層からなる本発明の 合材料は、多層プリント配線版、半導体イ ターポーザー、半導体パッシベーション膜 の電気・電子材料絶縁樹脂、航空宇宙用耐 複合材料等の用途に使用することができる

 以下に合成例及び実施例により本発明を 細に説明する。ただし、以下の実施例等に り本発明はなんら制限を受けるものではな 。

〔合成例1〕実施ポリマー(No.1の構造を有す るポリアミドの合成)

 2,4-ジアミノフェノール5.49g(0.045モル)をN-メ ルピロリドン(以下、NMPともいう)40g及びピ ジン15.33gの混合物に溶かした溶液に、イソ タロイルクロライド10.05g(0.0495モル)をNMP40gに 溶かした溶液を-15~0℃で滴下した。-15~0℃を 持したまま2時間反応させ、さらに室温で2時 間反応させた。この反応溶液を、約2リット のイオン交換水で再沈後、ろ過して150℃で3 間減圧乾燥して白色粉末(実施ポリマー1)15g( 収率79.1%)を得た。
 得られた化合物は、赤外吸収スペクトルに りアミド結合の形成を確認し、ゲルパーミ ーションクロマトグラフにより重量平均分 量の7000のポリマーであることを確認した。
 また、分析により粘度は270cps(25℃、30重量%N MP溶液)でOH当量は289g/eqであった。

〔合成例2~17〕
 合成例1と同様にして下記の実施ポリマー2~1 7を合成した。得られた実施ポリマーの重量 均分子量、粘度及びOH当量を下記に示す。

〔実施例1~10〕
 前記合成例で得られた実施ポリマーを用い 表1又は表2に記載の配合により、前記(A)層 形成するエポキシ樹脂硬化性組成物をそれ れ調製した。配合量は重量部を示す。前記(B )層であるポリイミドからなるフィルム(厚み2 5μm)に、前記エポキシ樹脂硬化性樹脂組成物 15μmの厚みで塗布し、熱乾燥によってB-ステ ージ状態にしたプリプレグを得た。得られた プリプレグをガラスエポキシ基板に真空熱プ レスで180℃、1時間貼付硬化し、密着強度測 用試験片を得た。
PCTP フィルムピール強度はJIS-C6481に基づき1cm 幅パターンの90度剥離試験によって調べた。
 同様に、80℃温水(イオン交換水)に24時間浸 した後の測定と、室温でプロピレンカーボ ート(PC)に24時間浸漬した後の測定とを行な た。

〔比較例1~5〕
 表3に記載の配合により、エポキシ樹脂硬化 性組成物を調製した以外は、実施例1と同様 して、密着強度測定用試験片を得た。得ら た試験片を実施例1と同様にして評価した。

 本発明の複合材料は、ポリイミドとポリ ミド樹脂、エポキシ樹脂からなり、ポリイ ド層とエポキシ樹脂層との界面における接 性に優れた複合材料であり、多層プリント 線版、半導体インターポーザー、半導体パ シベーション膜等の電気・電子材料絶縁樹 、航空宇宙用耐熱複合材料等を提供するこ ができる。




 
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