以下、本発明の実施形態を図面を用いて� ��明する。図面や以下の記述中で示す内容は� ��例示であって、本発明の範囲は、図面や以� ��の記述中で示すものに限定されない。以下� ��実施形態では、カラー表示用のAC駆動型の3� ��極面放電型PDPを例にとって説明を進める。

1.PDP
 図1及び図2を用いて本発明の一実施形態のPD Pについて説明する。図1は、本実施形態のPDP� ��構造を示す斜視図である。図2は、図1中の� �面側基板構体1を部分的に切り出し、上下を� ��転させた斜視図である。

 本実施形態のPDPは、放電ガスを封入して� ��成された放電空間を介して対向する前面側� ��板構体1と背面側基板構体9を備える。

 前面側基板構体1は、前面基板1a上に配置� ��れた複数の表示電極2X、2Yと、この表示電極 2X、2Yを被覆する誘電体層3と、この誘電体層3 を被覆する保護層4を備え、保護層4は、MgO膜4 a上に配向の揃った複数のMgO単結晶4bが付着さ れて構成される。

 背面側基板構体9は、背面基板9a上に配置さ� ��たデータ電極8と、アドレス電極(データ電� �とも呼ばれる)8を覆う誘電体層7と、誘電体� �7の上でアドレス電極8の両側に配置された隔 壁5と、隔壁5の側面及び誘電体層7の表面に形 成された蛍光体層6を備える。
 以下、各構成要素について詳細に説明する� ��

1-1.前面基板、表示電極、誘電体層、保護膜(� ��面側基板構体)
 前面基板1aの種類は、特に限定されず、前� �基板1aは、例えば、ガラス基板等の透明基板 からなる。

 前面基板1aの内側面には、水平方向に延� �る複数の表示電極2Xと表示電極2Yとが平行に� ��置されている。隣接する表示電極2Xと表示� �極2Yとの間がすべて表示ラインになる。なお 、このPDPは、表示電極2Xと表示電極2Yとが等� �隔に配置され、隣接する表示電極2Xと表示電 極2Yとの間がすべて表示ラインになる、いわ� ��るALIS構造のPDPであるが、対になる表示電極 2Xと表示電極2Yとが放電の発生しない間隔(非� ��電ギャップ)を隔てて配置された構造のPDPで あっても、本発明を適用することができる。

 各表示電極2X、2Yは、ITO、SnO ₂ などからなる透明電極10と、例えばAg、Au、Al� ��Cu、Crおよびそれらの積層体(例えばCr/Cu/Crの 積層構造)などからなる金属製のバス電極11と から構成されている。表示電極2X、2Yは、Ag、 Auについてはスクリーン印刷のような厚膜形� ��技術を用い、その他の金属については蒸着� ��やスパッタ法などの薄膜形成技術とエッチ� ��グ技術とを用いることにより、所定の本数� ��厚さ、幅および間隔で形成することができ� ��。透明電極10は主に放電に寄与し、蛍光体� �発光を前面基板1a側から見ることができるよ うに光透過性である。バス電極11は主に放電� ��の電流を流すため、低抵抗性であることが� ��ましい。透明電極10及びバス電極11の形状は 、特に限定されず、ストレート形、T字形又� �梯子形等の何れであってもよい。透明電極10 とバス電極11の形状は、同じであっても互い� ��異なっていてもよい。例えば、透明電極10� �T字形や梯子形にして、バス電極11をストレ� �ト形にしてもよい。

 表示電極2X、2Yの上には、表示電極2X、2Yを� �うように誘電体層3が形成されている。誘電� ��層3は、低融点ガラス粉末を主成分とするフ リットペーストを、前面基板1a上にスクリー� ��印刷法で塗布し、焼成することにより形成� ��ている。また、シート状の誘電体層を貼り� ��けて焼成する方法もある。さらに誘電体層3 は、プラズマCVD法でSiO ₂ 膜を成膜することにより形成してもよい。

 誘電体層3の上には、表示の際の放電によ り生じるイオンの衝突による衝撃から誘電体 層3を保護するための保護層4が形成されてい� ��。保護層4の詳細は、後述する。

1-2.背面基板、アドレス電極、誘電体層、隔� �、蛍光体層(背面側基板構体)
 背面基板9aの種類は、特に限定されず、背� �基板9aは、例えば、ガラス基板等の透明基板 からなる。

 背面基板9aの内側面には、平面的に見て� �示電極2X、2Yと交差する方向に複数のアドレ� ��電極8が形成され、そのデータ電極8を覆っ� �誘電体層7が形成されている。アドレス電極8 は、表示電極2Yとの交差部で発光セルを選択� ��るためのアドレス放電を発生させるもので� ��り、例えばCr/Cu/Crの3層構造で形成されてい� ��。

 アドレス電極8は、この他に、例えばAg、A u、Al、Cu、Crなどで形成することもできる。� �ドレス電極8も、表示電極2X、2Yと同様に、Ag� ��Auについてはスクリーン印刷のような厚膜� �成技術を用い、その他の金属については蒸� �法やスパッタ法などの薄膜形成技術とエッ� �ング技術を用いることにより、所定の本数� �厚さ、幅および間隔で形成することができ� �。

 背面基板の誘電体層7は、前面基板1a上の� ��電体層3と同じ材料、同じ方法を用いて形成 することができる。

 隣接する2つのアドレス電極8間の誘電体� �7の上には、放電空間を仕切る複数の隔壁5が 形成されている。本実施形態の隔壁5の形状� �ストライプ状である。隔壁5の形状は、ミア� ��ダ形、格子形又は梯子形であってもよい。

 隔壁5は、サンドブラスト法、フォトエッ チング法などにより形成することができる。 例えば、サンドブラスト法では、低融点ガラ スフリット、バインダー樹脂、溶媒などから なるフリットペーストを誘電体層7上に塗布� �て乾燥させた後、そのフリットペースト層� �に隔壁パターンの開口を有する切削マスク� �設けた状態で切削粒子を吹き付けて、マス� �の開口部に露出したフリットペースト層を� �削し、さらに焼成することにより形成する� �また、フォトエッチング法では、切削粒子� �切削することに代えて、バインダー樹脂に� �光性の樹脂を使用し、マスクを用いた露光� �よび現像の後、焼成することにより形成す� �。

 隔壁5で区切られた放電空間の側面および 底面には、赤(R)、緑(G)、青(B)の蛍光体層6R、6 G、6Bが形成されている。蛍光体層6R、6G、6Bは 、蛍光体粉末とバインダー樹脂と溶媒とを含 む蛍光体ペーストを隔壁で区切られた放電空 間内にスクリーン印刷またはディスペンサを 用いた方法などで塗布し、これを各色ごとに 繰り返した後、焼成することにより形成して いる。

 蛍光体層6R、6G、6Bは、蛍光体粉末と感光� ��材料とバインダー樹脂とを含むシート状の� ��光体層材料(いわゆるグリーンシート)を使� �し、フォトリソグラフィー技術で形成する� �ともできる。この場合、所定の色のシート� �基板上の表示領域全面に貼り付けて、露光� �現像を行い、これを各色ごとに繰り返すこ� �で、対応する隔壁5間に各色の蛍光体層6を形 成することができる。

 以上に述べてきた前面側基板構体1と背面 側基板構体9とを、表示電極2X、2Yとアドレス� ��極8とが交差するように対向配置し、周囲を 封止し、隔壁5で囲まれた放電空間にNeを主成 分としXeを含む放電ガスを充填することによ� ��PDPが完成する。このPDPでは、表示電極2X、2Y とアドレス電極8との交差部の放電空間が、� �示の最小単位である1つのセル(単位発光領域 )となる。1画素はR、G、Bの3つのセルで構成さ れる。

1-3.保護層
 次に、本発明が特徴とする保護層4について 詳細に説明する。保護層4は、MgO膜4a上に配向 の揃った複数のMgO単結晶4bが付着されて構成� ��れる。

 MgO膜4aは、電子ビーム蒸着法やスパッタ法� �ような当該分野で公知な薄膜プロセスで形� �することができる。
 MgO単結晶4bは、MgOのみからなってもよいが� �結晶構造に影響を与えない程度に少量の別� �成分(例えば、フラックスの残渣)を含んでい てもよい。MgO単結晶4bは、立方晶であり、全� ��の結晶面は、物理的及び化学的性質におい� ��等価である。このため、複数のMgO単結晶4b� �MgO膜4a上に付着され、各MgO単結晶4bの何れか� ��結晶面がMgO膜4aの表面と接触すると、複数� �MgO単結晶4bの配向は同じ方位に揃う。つまり 、複数のMgO単結晶4bの配向は、MgO単結晶4bの� �晶面とMgO膜4aとの間に挟まるような微小な粒 子によって阻害されない限り同じ方位に揃う 。なお、「配向の揃った」とは、立方晶の結 晶面の法線方向が互いに一致していることを 意味し、この方向が一致していれば、立方晶 がその法線周りに回転していても構わない。

 ここで、電子ビーム蒸着法で成膜した下� ��MgO膜4aの表面は微視的には柱状結晶構造の� �凸を持ち柱状結晶の登頂間に微細な隙間が� �る。従って、前記凹凸間隔が付着させるMgO� �結晶の粒径より小さいと下地膜面は実質的� �平坦と見做すことができ、配向面を揃える� �に都合が良い。すなわち、前記下地MgO膜の� �状結晶の登頂間隔の2倍より小さい粒径のMgO� ��結晶が多く混在していると、その単結晶は� ��記登頂間の隙間に傾いて入り込み全体の配� ��面が揃わなくなる。かかる観点から本発明� ��おいては、複数のMgO単結晶4bの粒度分布で� �累積50%値は、0.6μm以上が好ましく、0.9μm以� �がさらに好ましい。すなわち配向を揃える� �めの技術要件としては単位体積当り半分以� �のMgO単結晶の粒径が0.6μm以上であることが� �要であり、好ましくは0.9μm以上さらには1.3μ m以上のものを用いる。粒径が小さすぎると� �記のようにMgO単結晶4bの角がMgO膜4a面の凹凸� ��入り込むので、0.1μm以下の粒径のものは含� ��ないことが望ましい。また、上記累積50%値� ��、30μm以下が好ましい。粒径が大きすぎる� �2次電子放出機能を担う下地MgO膜の露出面積� ��狭くなり放電電圧が上昇するからである。M gO単結晶4bの粒度分布は、レーザー回折式の� �度分布計を用いて求めることができる。

 複数のMgO単結晶4bの粒度分布での累積50%� �は、具体的には、例えば、0.6、0.7、0.8、0.9� �1、1.1、1.2、1.3、1.4、1.5、1.6、1.7、1.8、1.9、2 、2.1、2.2、2.3、2.4、2.5、2.6、2.7、2.8、2.9、3� �4、5、10、15、20、25、30μmである。上記累積50 %値の範囲は、ここで例示した数値の何れか2� ��の間の範囲内であってもよい。

 複数のMgO単結晶4bの粒度分布での累積10%� �は、特に限定されないが、累積50%値の0.5倍� �上であることが好ましい。この場合、複数� �MgO単結晶4b中の微細なMgO単結晶4bの割合が小� ��い。微細なMgO単結晶4bは、比較的サイズが� �きなMgO単結晶4bの結晶面とMgO膜4aとの間に挟� ��り、MgO単結晶4bの結晶面とMgO膜4aとの接触を 妨げ、複数のMgO単結晶4bの配向が揃うのを妨� ��る。累積10%値が累積50%値の0.5倍以上である� ��合、微細なMgO単結晶4bの割合が小さくなり� �複数のMgO単結晶4bの配向が揃いやすい。

 複数のMgO単結晶4bの粒度分布での累積10%� �は、具体的には、例えば、累積50%値の0.5、0. 55、0.6、0.65、0.7、0.75、0.8、0.85、0.9、0.95倍で ある。上記累積10%値は、ここで例示した数値 の何れか2つの間の範囲内であってもよく、� �れか1つ以上であってもよい。累積10%値が累� ��50%値に近いほど複数のMgO単結晶4bの配向が� �いやすい。

 複数のMgO単結晶4bの配向が揃っているか� �うかは、X線回折(XRD)での(200)面の信号強度と (111)面の信号強度との比に基づいて判断する� ��とができる。(200)面は、(100)面と等価であり 、(200)面の信号は、複数のMgO単結晶4bの配向� �揃っている場合に強く、複数のMgO単結晶4bの 配向が揃っていない場合には非常に弱くなる 。一方、(111)面の信号は、主にMgO膜4aからの� �号であり、複数のMgO単結晶4bの配向が揃って いるかどうかにはほとんど依存しない。従っ て、{(200)面の信号強度/(111)面の信号強度}の� �は、複数のMgO単結晶4bの配向が揃っているか どうかを示しており、一例では、規格化後の (200)面の信号強度が、MgO膜1μmあたりの(111)面� ��信号強度の1倍以上である場合に複数のMgO単 結晶4bの配向が揃っていると判断することが� ��きる。なお、規格化とは、(111)面と(200)面の 存在比が1/1の時、実測の信号強度比は11.6/100� ��なるのを勘案し、(111)面を基準として、(200) 面の実測の信号強度に0.116を掛けることであ� ��。

 MgO単結晶4bの作製方法は、特に限定され� �いが、一例では、気相法で作製したMgO種結� �と少量のフラックス(反応促進剤)を混合して 焼成し、得られた焼成物を解砕することによ って作製することができる。気相法で作製し たMgO種結晶は、サイズが小さくかつサイズの ばらつきが大きいので、気相法で作製したMgO 種結晶をMgO膜4a上に散布してもその配向は揃� ��ない。一方、上記方法で作製したMgO単結晶4 bは、サイズが比較的大きく且つサイズのば� �つきが小さい。従って、このMgO単結晶4bをMgO 膜4a上に散布すると複数のMgO単結晶4bの配向� �揃う。フラックスとしては、例えば、マグ� �シウムのハロゲン化物(フッ化マグネシウム� ��)を用いることができる。

 焼成は、例えば、1000~1700℃で、1~5時間行� ��。一般に、MgO単結晶4bのサイズは、焼成温� �が高くなるほど、焼成時間が長くなるほど� �フラックスの添加量が多いほど大きくなる� �また、サイズが小さなものほど焼成時の結� �成長の速度が速いので焼成温度が高くなる� �ど、焼成時間が長くなるほど、フラックス� �添加量が多いほどサイズのばらつきが小さ� �なる。従って、MgO単結晶4bの粒度分布が所望 の状態になるように焼成温度、時間及びフラ ックスの添加量を適宜設定する。焼成の温度 は、例えば、1000、1100、1200、1300、1400、1500、 1600又は1700℃である。焼成の温度は、ここで� ��示した何れか2つの数値の間の範囲内であっ てもよい。焼成の時間は、例えば、1、2、3、 4又は5時間である。焼成の時間は、ここで例� ��した何れか2つの数値の間の範囲内であって もよい。フラックスの添加量は、例えば、0.0 01~0.1wt%であり、具体的には、例えば、0.001、0 .002、0.005、0.01、0.02、0.03、0.04、0.05、0.06、0.0 7、0.08、0.09又は0.1wt%である。フラックスの添 加量は、ここで例示した数値の何れか2つの� �の範囲内であってもよい。焼成物の解砕を� �う方法は、特に限定されないが、例えば、� �成物を乳鉢に入れて、それを乳棒ですり潰� �て粉体状にする方法が挙げられる。

 気相法によるMgO種結晶の作製は、例えば� ��特開2004-182521号公報に記載された方法や、� �材料』昭和62年11月号、第36巻第410号の第1157~ 1161頁の『気相法によるマグネシア粉末の合� �とその性質』に記載された方法で行うこと� �できる。また、気相法で作製したMgO種結晶� �、宇部マテリアルズ株式会社から購入して� �よい。

 複数のMgO単結晶4bは、MgO膜4aに対する被覆率 の標準偏差の3倍を被覆率の平均値で除した� �が20%以下である。この場合、面内ばらつき� �抑えられ、パネル点灯時の画面内における� �暗のムラを抑制することができる。
 被覆率の標準偏差の3倍を被覆率の平均値で 除した値は、具体的には、例えば、0、1、5、 10、15、20%である。被覆率の標準偏差の3倍を� ��覆率の平均値で除した値は、ここで例示し� ��数値の何れか2つの間の範囲内であってもよ い。また、被覆率の平均値は、10%を超えると 、雰囲気中から保護層4に吸着される不純物� �増加し、吸着された不純物により緑色蛍光� �が劣化して緑色発光が弱くなり表示色に赤� �が増しいわゆる画面内における赤ムラが顕� �になるため、10%以下(例えば0.1~10%)が望まし� �、具体的には例えば、0.1、0.3、0.5、1、1.5、2 、2.5、3、4、5、10%である。また、被覆率の平 均値は、ここで例示した数値の何れか2つの� �の範囲内であってもよい。

1-4.保護層の形成方法
 保護層4の形成方法は、特に限定されないが 、一例では、保護層4は、MgO膜4aに対するMgO単 結晶4bの被覆率の標準偏差の3倍を被覆率の平 均値で除した値が20%以下となるように複数の MgO単結晶4bをMgO膜4a上に付着させることによ� �て形成することができる。
 また、MgO単結晶4bをMgO膜4a上に付着させる方 法を特に限定されない。一例では、MgO単結晶 4bの濃度が0.01~2wt%であるスラリーをスプレー� ��布の霧化圧が150kPa以上300kPa以下の条件でMgO� ��4aの上方からスプレーすることによって、Mg O単結晶4bをMgO膜4a上に付着させることができ� ��。MgO単結晶4bは、MgO膜4a上の全面または一部 に付着させることができる。

 スラリーの分散媒は特に限定されないが� ��水酸基やカルボニル基やニトリル基のよう� ��極性の高い分子構造を持ち、MgOの単結晶を� ��かさない化合物が好ましく、2-プロパノー� �(イソプロピルアルコール、IPA)のようなアル コールがさらに好ましい。

 スラリー中のMgO単結晶4bの濃度は、0.01~2wt %である。スラリーの濃度が濃すぎるとスプ� �ー塗布の際に霧化された液滴中でMgO単結晶4b が凝集して均一な塗布状態を実現できなくな る場合があるからである。MgO単結晶4bの濃度� ��、具体的には例えば、0.01、0.05、0.1、0.2、0. 3、0.4、0.5、0.6、0.7、0.8、0.9、1.0、1.5、2wt%で� ��る。MgO単結晶4bの濃度は、ここで例示した� �値の何れか2つの間の範囲内であってもよい� ��

 スラリーのスプレー塗布は、一例では、� ��3に示すような塗布装置を用いて行うことが できる。図3の塗布装置では、タンク22に入っ た上記組成のスラリー23は、ポンプ25の作用� �よって、配管24、26を通ってスプレーガン28� �移送され、スプレーガン28から基板29に向け� ��吐出される。また、ポンプ25の作用によっ� �スラリー23を移送する代わりに、タンク22に� ��けられた気体導入管21を通じて空気や窒素� �どの気体で圧力をかけて、スラリー23をスプ レーガン28まで圧送してもよい。

 スプレーガン28としては、スラリーと空� �とを2液化状態に霧化して吐出する、いわゆ� ��2流体エア霧化方式のものを使用する。この とき、スラリーを霧化するための空気の圧力 いわゆる霧化圧を高圧にすることで霧化され たスラリーの液滴が細かくなり、液滴中での MgO単結晶4bの凝集が起こりにくくなる。さら� ��、液滴が細かくなることで、液滴がMgO膜4a� �着弾後すぐに溶媒が蒸発するので、着弾後� �溶媒が蒸発する前に液滴どうしが互いに結� �することでMgO単結晶4bが凝集することを防ぐ ことができ、MgO膜4aに対するMgO単結晶4bの被� �率が均一になるように分散配布することが� �きる。ただし、霧化圧が高すぎると、液滴� �細かくなりすぎ、着弾する前に溶媒が蒸発� �てしまい、MgO膜4aにMgO単結晶4bが付着しない� ��

 かかる観点から、MgO膜4aに対するMgO単結� �4bの被覆率が均一になるように分散配布する ためには、スプレーガンにかかる霧化圧は150 kPa以上300kPa以下が好ましい。具体的には、例 えば、150、160、170,180,190、200、210,220,230,240,250 、300kPaである。霧化圧は、ここで例示した数 値の何れか2つの間の範囲内であってもよい� �

2.効果実証実験
 以下の効果実証実験では、MgO膜4aに対するMg O単結晶4bの被覆率の標準偏差の3倍を被覆率� �平均値で除した値が20%以下の場合と、20%を� �える場合とで点灯時の画面内における明暗� �ムラを比較することにより、本発明の効果� �実証した。

2-1.MgO単結晶の製造方法
 以下の方法でMgO単結晶4bを作製した。
 まず、MgO種結晶(宇部マテリアルズ株式会社 製、商品名:気相法高純度超微粉マグネシア(2 000A))にフラックスとしてMgF ₂ (フルウチ化学株式会社製、純度:99.99%)を48ppm� ��加した。これを乳鉢と乳棒ですり潰すこと� ��よって混合及び粉砕を実施した。

 次に、混合及び粉砕後の上記原料を大気� ��で、焼成時間を1時間、温度を1450℃で焼成� �行った。次に、乳鉢と乳棒を用いて焼成物� �解砕し、MgO単結晶4bを作製した。

 ここで得られたMgO単結晶4bについて、レ� �ザー回折式の粒度分布計(型式:HELOS&RODOS、 Sympatec社製)を用いて粒度分布を求めた。その 結果、累積10%値、累積50%値、累積90%値は、そ れぞれ、0.8μm、1.2μm、2.1μmであった。累積10% 値は、累積50%値の0.67倍であり、得られたMgO� �結晶4bは、微細な粒子の含有量が少ないこと が分かる。

2-2.PDPの製造方法
 次に、MgO膜4a上に配向の揃った複数のMgO単� �晶4bを付着させたPDPを以下の方法で製造した 。

2-2-1.概要
 図1に示すようにガラスからなる前面基板1a� ��に表示電極2X、2Y、誘電体層3、保護層4(MgO膜 4a及びその上に付着した配向の揃った複数のM gO単結晶4b)を形成することによって前面側基� ��構体1を作製した。また、ガラスからなる背 面基板9a上にアドレス電極8、誘電体層7、隔� �5及び蛍光体層6G、6B、6Rを形成することによ� ��て背面側基板構体9を作製した。次に、前面 側基板構体1と背面側基板構体9を重ね合わせ� ��周縁部を封着材で封止することによって内� ��に気密な放電空間を有するパネルを作製し� ��。次に、放電空間内を排気後、放電ガスを� ��入し、PDPを完成させた。

2-2-2.MgO膜4a上にMgO単結晶4bを付着させる方法
 MgO単結晶4bは、以下の方法でMgO膜4a上に付着 させた。
 まず、MgO単結晶4bをIPA(関東化学株式会社製� ��電子工業用)に混合し、超音波分散機で分散 させて凝集解砕させ、スラリーを作製した。

 次に、MgO膜4a上に塗装用スプレーガンを用� �て上記スラリーをスプレー塗布し、MgO単結� �4bをMgO膜4a上に付着させた。スプレーガンは� ��2流体エア霧化方式のものを用いた。スラリ ー中のMgO単結晶4bの濃度と、スプレーガンに� ��かる霧化圧は、表1のように設定した。MgO単 結晶4bは、MgO単結晶4bの密度が1m ² 当り0.1gとなるように付着させた。

[規則26に基づく補充 14.03.2008] 

 MgO単結晶4bを付着させた後に顕微鏡を用� �て被覆率の測定を行った。顕微鏡の倍率は� �10倍であり、視野範囲は、0.6mm×0.6mmの正方形 であった。被覆率は、バス電極11に対して、0 度、45度、90度の方向に10mm間隔でそれぞれ12� �測定した。また、得られた被覆率の値を用� �て、被覆率の標準偏差の3倍を被覆率の平均� ��で除した値を算出した。その結果を表2~表4� ��示す。

[規則26に基づく補充 14.03.2008] 

[規則26に基づく補充 14.03.2008] 

[規則26に基づく補充 14.03.2008] 

 表2~表4を参照すると、被覆率の標準偏差� ��3倍を被覆率の平均値で除した値は、比較例 では、バス電極11に対して0度の方向では39%、 バス電極11に対して45度の方向では46%、バス� �極11に対して90度の方向では26%であった。こ� ��に対し、実施例で、バス電極11に対して0度� ��方向では20%、バス電極11に対して45度の方向 では17%、バス電極11に対して90度の方向では17 %であった。

2-2-3.その他
 その他の条件は、以下の通りにした。

前面側基板構体1:
 透明電極10の幅:270μm
 バス電極11の幅:95μm
 放電ギャップの幅:100μm
 誘電体層3:低融点ガラスペーストの塗布焼� �により形成、厚さ:30μm
 MgO膜4a:電子ビーム蒸着によるMgO層、厚さ:1.1 μm
背面側基板構体9:
 アドレス電極8の幅:70μm
 誘電体層7:低融点ガラスペーストの塗布焼� �により形成、厚さ:10μm
 アドレス電極8の真上での蛍光体層6G、6B、6R の厚さ:20μm
 隔壁5の高さ:140μm 頂部での幅:50μm
 隔壁5のピッチ:360μm
 放電ガス:Ne96%-Xe4%、500Torr

2-3.点灯試験
 次に、製造した各PDPについて点灯試験を行� ��画面内における明暗のムラを評価した。点� ��試験の結果を表5に示す。明暗のムラの評価 は、目視によって行った。

 表5を参照すると、実施例では明暗のムラが 改善されていることが分かる。この結果は、 被覆率の標準偏差の3倍を被覆率の平均値で� �した値が20%以下でMgO単結晶4bがMgO膜4aに付着� ��れたPDPは、MgO単結晶4bが均一に付着されて� �ることで、良好な放電特性を得ることがで� �ることを示している。
 また、以下の関連実験で示すように、MgO膜4 a上において複数のMgO単結晶4bの配向を揃える ことによって放電遅れを大幅に改善すること ができる。
 以上より、本発明によれば放電遅れが大幅� ��改善され且つ明暗のムラが改善されたPDPが� ��られることが実証された。

3.関連実験
 次に、「2-1.MgO単結晶の製造方法」で示した 方法で製造したMgO単結晶4bを用いれば、MgO膜4 a上において複数のMgO単結晶4bの配向を揃える ことができ、これによって放電遅れを大幅に 改善することができることを示す関連実験に ついて説明する。
 この関連実験では、PDPは、基本的に、上記� ��「2-2.PDPの製造方法」の項で説明した方法で 製造した。但し、MgO単結晶4bは、以下の方法� ��MgO膜4a上に付着させた。PDPの製造後に放電� �れ試験を行った。
 以下、詳細に説明する。

3-1.MgO膜4a上にMgO単結晶4bを付着させる方法
 まず、MgO単結晶4bをIPA(関東化学株式会社製� ��電子工業用)1Lに対して2gの割合で混合し、� �音波分散機で分散させて凝集解砕させ、ス� �リーを作製した。

 次に、MgO膜4a上に塗装用スプレーガンを用� �て上記スラリーをスプレー塗布し、その後� �ドライエアを吹き付けて乾燥させる工程を� �回繰り返すことによってMgO単結晶4bをMgO膜4a� ��に付着させた。スプレーガンは、2流体エア 霧化方式のものを用いた。スプレーガンにか かる霧化圧は、60kPaとした。MgO単結晶4bは、Mg O単結晶4bの密度が1m ² 当り0.3gとなるように付着させた。

 MgO単結晶4bを付着させる前後にXRD測定を� �った。その結果を図4に示す。図4を参照する と、MgO単結晶4bを付着させる前には(111)面の� �号と(222)面の信号が観測され、MgO単結晶4bを� ��着させた後には(111)面の信号と(222)面の信号 に加えて(200)面の信号が観察された。(111)面� �信号強度と(222)面の信号強度は、MgO単結晶4b� ��付着させる前後で変化しなかった。規格化� ��の(200)面の信号強度は、MgO膜1μmあたりの(111 )面の信号強度の1.9倍であった。この結果は� �複数のMgO単結晶4bの配向が揃っていることを 示している。また、上記のMgO種結晶を同様の 方法でMgO膜4a上に付着させたものについてもX RD測定を行ったところ、(200)面の信号強度は� �極めて小さく、規格化後の(200)面の信号強度 は、MgO膜1μmあたりの(111)面の信号強度の0.5倍 未満であった。

 また、MgO単結晶4bを付着させる前後に光� �を測定し、光沢変化率を求めた。光沢は、� �式会社堀場製作所製ハンディ光沢計IG-331を� �いて測定角60度で測定した。その結果、光沢 変化率は、30%であった。この値は、MgO単結晶 4bによるMgO膜被覆率に換算すると、6%程度と� �えられる。

3-2.放電遅れ試験
 次に、製造した各PDPについて放電遅れ試験� ��行った。放電遅れ試験では、アドレス電極8 に電圧を印加し、この電圧印加時から実際に 放電が開始されるまでの時間を測定した。放 電開始までの時間は1000回測定した。放電遅� �と累積放電成功確率の関係を図5に示す。
 図5に、配向の揃った複数のMgO単結晶4bがMgO� ��4a上に付着している場合と、付着していな� �場合の結果を示す。図5を参照すると、前者� ��場合に放電遅れが改善されていることが分� ��る。この結果は、MgO膜4a上に配向の揃った� �数のMgO単結晶4bが付着した構造の保護層4を� �つPDPは、放電遅れなどの放電特性の改善が� �られて、良好な放電特性を得ることができ� �ことを示している。

 以上より、「2-1.MgO単結晶の製造方法」で 示した方法で製造したMgO単結晶4bを用いれば� ��MgO膜4a上において複数のMgO単結晶4bの配向を 揃えることができ、これによって放電遅れを 大幅に改善することができることが実証され た。

 以上の実施形態では前記基板に一対の表� ��電極、背面基板にアドレス電極を配置した3 電極面放電型PDPを例にとって説明したが、本 発明はこれに限らず例えば前面基板上にアド レス電極と一対の表示電極とを配置した3電� �面放電型PDPにも適用でき、この場合アドレ� �電極上に絶縁層を介して表示電極が配置さ� �、表示電極上に誘電体層と保護層が設けら� �る。この他、対向する基板上に対をなすXお� ��びYの表示電極を振り分けて配置したAC駆動� ��式の2電極対向放電型PDPへの適用も可能であ る。