L'invention concerne un procédé d'obtention d'un matériau comprenant un substrat revêtu d'un revêtement photocatalytique ainsi qu'au substrat revêtu d'un revêtement photocatalytique ainsi obtenu. Un procédé couramment employé à l'échelle industrielle pour le dépôt de couches minces, notamment sur substrat verrier, est le procédé de pulvérisation cathodique, notamment assisté par champ magnétique, appelé dans ce cas procédé « magnétron ». Dans ce procédé, un plasma est créé sous un vide poussé au voisinage d'une cible comprenant les éléments chimiques à déposer. Les espèces actives du plasma, en bombardant la cible, arrachent lesdits éléments, qui se déposent sur le substrat en formant la couche mince désirée. Ce procédé est dit « réactif » lorsque la couche est constituée d'un matériau résultant d'une réaction chimique entre les éléments arrachés de la cible et le gaz contenu dans le plasma. L'avantage majeur de ce procédé réside dans la possibilité de déposer sur une même ligne un empilement très complexe de couches en faisant successivement défiler le substrat sous différentes cibles, ce généralement dans un seul et même dispositif.

La vitesse de dépôt des couches d'oxyde, telles que l'oxyde de titane, généralement bien plus faible que la vitesse de dépôt de métaux, limite cependant les cadences de production, ce qui augmente le coût de production des empilements comprenant des couches d'oxydes déposées par pulvérisation cathodique. La demande WO 2011/039488 décrit un procédé de dépôt de couche mince comprenant une étape de de dépôt d'une couche intermédiaire de métal, nitrure ou carbure et une étape d'oxydation de cette couche intermédiaire à l'aide d'un traitement thermique rapide, notamment par rayonnement laser. Ce procédé permet d'obtenir des couches d'oxyde métallique avec des cadences de production plus élevées.

Un traitement laser tel que décrit dans WO 2011/039488 permet de chauffer des revêtements minces à des températures élevées, de l'ordre de plusieurs centaines de degrés, tout en préservant le substrat sous-jacent. Les vitesses de traitement sont bien entendu de préférence les plus élevées possibles, avantageusement au moins de plusieurs mètres par minute. Afin de pouvoir traiter à grande vitesse des substrats de grande largeur, tels que les feuilles de verre plat de taille « jumbo » (6 m x 3,21 m) sortant des procédés de float, il est nécessaire de disposer de lignes laser elles-mêmes très longues (>3m). La fabrication d'optiques monolithiques permettant l'obtention d'une ligne laser unique n'étant pas envisageable pour de telles longueurs, des lignes laser élémentaires de moindre dimension (quelques dizaines de centimètres) sont généralement combinées entre elles pour former une ligne laser suffisamment longue.

Les couches de métal devant être oxydées lors du traitement laser doivent en général avoir une épaisseur minimale pour pouvoir atteindre, après oxydation, les spécifications du produit souhaitées. Par exemple, pour qu'une couche de titane possède, une fois oxydée, les propriétés photocatalytiques et optiques souhaitées, celle- ci a avantageusement une épaisseur avant oxydation d'au moins 5 nm. Il est alors difficile de réaliser une oxydation complète et/ou homogène de cette couche, notamment à des vitesses de défilement élevées. Les variations d'intensité du laser peuvent en effet entraîner des différences d'oxydation dans certaines zones, notamment aux zones de recouvrement des lignes laser élémentaires. Ce phénomène, appelé « stitching », particulièrement exacerbé aux vitesses de traitement élevées, peut provoquer des défauts visibles sur le produit final, tel que des bandes inhomogènes sur la longueur du substrat, qui ne sont pas acceptables du point de vue esthétique. Par ailleurs, les vitesses de traitement élevées souhaitées du point de vue du coût de production peuvent entraîner une oxydation incomplète de la couche à traiter, ce qui a pour effet d'augmenter l'absorption lumineuse résiduelle du revêtement après traitement.

La présente invention a pour but de pallier les inconvénients précités. La Demanderesse a mis en évidence qu'il était possible de d'améliorer l'oxydation d'une couche de titane par traitement laser, notamment à des vitesses de traitement élevées, en séparant la couche à traiter en deux couches de titane d'épaisseur totale équivalente séparées par une couche de titane au moins partiellement oxydée.

Ainsi la présente invention concerne un procédé d'obtention d'un matériau comprenant un substrat revêtu d'un revêtement photocatalytique, ledit procédé comprenant :

une étape de dépôt sur ledit substrat d'un empilement de couches minces comprenant successivement une première couche de titane métallique ayant une épaisseur de 1 à 3 nm, une couche intermédiaire de titane au moins partiellement oxydé ayant une épaisseur de 0,5 à 5 nm, et une deuxième couche de titane métallique ayant une épaisseur de 2 à 5 nm ; et

une étape d'oxydation à l'aide d'un traitement thermique par rayonnement laser, dans lequel l'empilement est en contact avec une atmosphère oxydante.

Le procédé selon l'invention permet de réduire les phénomènes de stitching et/ou l'absorption lumineuse résiduelle, notamment à des vitesses de traitement élevées, typiquement supérieure à 2 m/min, voire supérieure à 3 m/min, ou même supérieure à 4 m/min, voire supérieure à 5 m/min. La présence d'une couche intermédiaire partiellement oxydée entre les deux couches métalliques permet une oxydation plus complète et/ou plus homogène des couches métalliques.

Le procédé selon l'invention comprend une première étape de dépôt sur un substrat d'un empilement de couches minces comprenant une couche intermédiaire de titane au moins partiellement oxydé entre deux couches de titane métallique. Les couches de titane métallique sont en contact direct avec la couche intermédiaire de titane au moins partiellement oxydé. La première couche de titane métallique peut être en contact direct avec le substrat. Cependant, dans certains modes de réalisation, d'autres couches, telles qu'une couche barrière aux alcalins par exemple à base d'oxyde de silicium, peuvent être déposées entre le substrat et la première couche de titane métallique. En général, aucune autre couche n'est déposée sur la deuxième couche de titane métallique de sorte que la couche photocatalytique d'oxyde de titane obtenue à l'issue du procédé selon l'invention soit la dernière couche du revêtement en contact avec l'atmosphère. Le substrat est de préférence une feuille de verre, de vitrocéramique, ou d'une matière organique polymérique. Il est de préférence transparent, incolore (il s'agit alors d'un verre clair ou extra-clair) ou coloré, par exemple en bleu, vert, gris ou bronze. Le verre est de préférence de type silico-sodo-calcique, mais il peut également être en verre de type borosilicate ou alumino-borosilicate. Les matières organiques polymériques préférées sont le polycarbonate ou le polyméthacrylate de méthyle ou encore le polyéthylènetérephtalate (PET). Le substrat présente avantageusement au moins une dimension supérieure ou égale à 1 m, voire 2 m et même 3 m. L'épaisseur du substrat varie généralement entre 0,5 mm et 19 mm, de préférence entre 0,7 et 9 mm, notamment entre 2 et 8 mm, voire entre 4 et 6 mm. Le substrat peut être plan ou bombé, voire flexible.

Le substrat de verre est de préférence du type flotté, c'est-à-dire susceptible d'avoir été obtenu par un procédé consistant à déverser le verre fondu sur un bain d'étain en fusion (bain « float »). Dans ce cas, la couche à traiter peut aussi bien être déposée sur la face « étain » que sur la face « atmosphère » du substrat. On entend par faces « atmosphère » et « étain », les faces du substrat ayant été respectivement en contact avec l'atmosphère régnant dans le bain float et en contact avec Γ étain fondu. La face étain contient une faible quantité superficielle d'étain ayant diffusé dans la structure du verre. Le substrat de verre peut également être obtenu par laminage entre deux rouleaux, technique permettant en particulier d'imprimer des motifs à la surface du verre.

Les première et deuxième couches de titane métallique sont déposées par pulvérisation cathodique. Le dépôt de couches métalliques a pour avantage de permettre des vitesses de dépôt très élevées comparé à un dépôt de couche d'oxyde. La couche intermédiaire peut être également déposée par pulvérisation cathodique. Cette couche ayant une très faible épaisseur, la vitesse de production de l'empilement ne sera que peu impactée par le dépôt de la couche de titane oxydé. La couche intermédiaire peut également être obtenue par oxydation partielle de la première couche de titane métallique par exemple en exposant le substrat à l'air ou à un plasma oxydant après le dépôt de la première couche de titane métallique.

La première couche de titane métallique a une épaisseur de 1 à 3 nm, de préférence de 1 à 2 nm, et la deuxième couche de titane métallique a une épaisseur de 2 à 5 nm, de préférence de 2 à 4 nm. Une première couche de titane métallique trop épaisse induit en effet une délamination importante du revêtement lors du traitement thermique. Par ailleurs, une deuxième couche de titane métallique trop épaisse peut affecter l'efficacité de l'oxydation de la première couche de titane métallique. La somme des épaisseurs des première et deuxième couches de titane métallique est de préférence supérieure ou égale à 4 nm, voire supérieure ou égale à 5 nm afin d'obtenir, après traitement thermique, un revêtement photocatalytique présentant une activité satisfaisante.

La couche intermédiaire de titane au moins partiellement oxydé a de préférence une épaisseur de 0,5 à 3 nm, plus préférentiellement de 0,5 à 2 nm. La couche intermédiaire de titane au moins partiellement oxydé peut être une couche d'oxyde de titane, éventuellement sous-stœchiométrique. Ce dernier sera noté TiO _x . Selon un mode de réalisation particulier, la valeur de x est de préférence inférieure ou égale à 1,8. Dans ce cas, la couche intermédiaire participe à l'absorption du rayonnement laser et permet ainsi d'améliorer l'activation de la couche photocatalytique finale. Selon un autre mode de réalisation particulier, la valeur x est de préférence supérieure ou égale à 1,8, notamment la couche de titane au moins partiellement oxydée est une couche d'oxyde de titane Ti0 ₂ . Ce mode de réalisation a pour avantage permettre une oxydation plus complète de l'empilement et de réduire ainsi l'absorption résiduelle de celui-ci. Le procédé selon l'invention comprend également une étape d'oxydation de l'empilement. L'oxydation de l'empilement, en particulier des couches de titane métallique, est réalisée par traitement thermique à l'aide d'un laser, l'empilement étant en contact avec une atmosphère oxydante. L'atmosphère oxydante est de préférence de l'air, notamment à la pression atmosphérique. Si besoin, la teneur en oxygène de l'atmosphère peut être augmentée afin de favoriser encore l'oxydation de la couche intermédiaire.

Le traitement thermique permet en une seule étape d'oxyder le titane métallique en oxyde de titane et d'obtenir une couche photocatalytique, donc cristallisée au moins en partie. La couche d'oxyde de titane obtenue après traitement thermique est de préférence au moins partiellement cristallisée sous la phase anatase, la phase rutile pouvant optionnellement être également présente.

Le traitement thermique par rayonnement laser a l'avantage de présenter un coefficient d'échange thermique très élevé, typiquement supérieur à 400 W/(m ² .s). La puissance surfacique du rayonnement laser au niveau de la couche intermédiaire est même de préférence supérieure ou égale à 20 ou 30 kW/cm ² . Cette très forte densité d'énergie permet d'atteindre au niveau de la couche intermédiaire la température souhaitée extrêmement rapidement (en général en un temps inférieur ou égal à 1 seconde) et par conséquent de limiter d'autant la durée du traitement, la chaleur générée n'ayant alors pas le temps de diffuser au sein du substrat.

Ainsi, chaque point traité de l'empilement est de préférence soumis au traitement thermique pour une durée généralement inférieure ou égale à 1 seconde, voire 0,5 seconde. Grâce au très fort coefficient d'échange thermique associé au procédé selon l'invention, même la partie du verre située à 0,5 mm de la couche intermédiaire ne subit généralement pas de températures supérieures à 100°C. De préférence, la température du substrat pendant le traitement thermique ne dépasse pas 100°C, notamment 50°C. Il s'agit notamment de la température au niveau de la face opposée à la face sur laquelle est déposée la couche intermédiaire. Cette température peut être mesurée par exemple par pyrométrie. Ce procédé rend également possible l'intégration d'un dispositif de traitement laser sur les lignes de production continue existantes. Le laser peut être ainsi intégré dans une ligne de dépôt de couches, par exemple une ligne de dépôt par pulvérisation cathodique assistée par champ magnétique (procédé magnétron). La ligne comprend en général des dispositifs de manutention des substrats, une installation de dépôt, des dispositifs de contrôle optique, des dispositifs d'empilage. Les substrats défilent, par exemple sur des rouleaux convoyeurs, successivement devant chaque dispositif ou chaque installation. Le laser est de préférence situé juste après l'installation de dépôt de la couche, par exemple à la sortie de l'installation de dépôt. Le substrat revêtu peut ainsi être traité en ligne après le dépôt de la couche, à la sortie de l'installation de dépôt et avant les dispositifs de contrôle optique, ou après les dispositifs de contrôle optique et avant les dispositifs d'empilage des substrats. Il est également possible dans certains cas de réaliser le traitement thermique selon l'invention au sein même de l'enceinte de dépôt sous vide. Le laser est alors intégré à l'installation de dépôt. Par exemple, le laser peut être introduit dans une des chambres d'une installation de dépôt par pulvérisation cathodique.

Que le laser soit en dehors de ou intégré à l'installation de dépôt, ces procédés, dits en ligne ou en continu, sont préférables à un procédé en reprise dans lequel il serait nécessaire d'empiler les substrats de verre entre l'étape de dépôt et le traitement thermique.

Les procédés en reprise peuvent toutefois avoir un intérêt dans les cas où la mise en œuvre du traitement thermique selon l'invention est faite dans un lieu différent de celui où est réalisé le dépôt, par exemple dans un lieu où est réalisée la transformation du verre. Le dispositif de rayonnement peut donc être intégré à d'autres lignes que la ligne de dépôt de couches. Il peut par exemple être intégré à une ligne de fabrication de vitrages multiples (doubles ou triples vitrages notamment), ou à une ligne de fabrication de vitrages feuilletés. Dans ces différents cas, le traitement thermique selon l'invention est de préférence réalisé avant la réalisation du vitrage multiple ou feuilleté. Le rayonnement laser est de préférence issu d'au moins un faisceau laser formant une ligne (appelée « ligne laser » dans la suite du texte) qui irradie simultanément toute la largeur du substrat. Le faisceau laser en ligne peut notamment être obtenu à l'aide de systèmes optiques de focalisation. Afin de pouvoir irradier simultanément des substrats de grande largeur (>3m), la ligne laser est généralement obtenue en combinant plusieurs lignes laser élémentaires. L'épaisseur des lignes laser élémentaires est de préférence comprise entre 0,01 et 1 mm. Leur longueur est typiquement comprise entre 5 mm et 1 m. Les lignes laser élémentaires sont généralement juxtaposées côte à côte pour former une ligne laser unique de sorte que toute la surface de l'empilement soit traitée. Chaque ligne laser élémentaire est de préférence disposée perpendiculairement à la direction de défilement du substrat.

Les sources laser sont typiquement des diodes laser ou des lasers fibrés, notamment des lasers à fibre, à diodes ou encore à disque. Les diodes laser permettent d'atteindre de manière économique de fortes densités de puissance par rapport à la puissance électrique d'alimentation, pour un faible encombrement. L'encombrement des lasers fibrés est encore plus réduit, et la puissance linéique obtenue peut être encore plus élevée, pour un coût toutefois plus important. On entend par lasers fibrés des lasers dans lesquels le lieu de génération de la lumière laser est déporté spatialement par rapport à son lieu de délivrance, la lumière laser étant délivrée au moyen d'au moins une fibre optique. Dans le cas d'un laser à disque, la lumière laser est générée dans une cavité résonnante dans laquelle se trouve le milieu émetteur qui se présente sous la forme d'un disque, par exemple un disque mince (d'environ 0,1 mm d'épaisseur) en Yb:YAG. La lumière ainsi générée est couplée dans au moins une fibre optique dirigée vers le lieu de traitement. Le laser peut également être à fibre, au sens où le milieu d'amplification est lui-même une fibre optique. Les lasers à fibre ou à disque sont de préférence pompés optiquement à l'aide de diodes laser. Le rayonnement issu des sources laser est de préférence continu.

La longueur d'onde du rayonnement laser, donc la longueur d'onde de traitement, est de préférence comprise dans un domaine allant de 800 à 1300 nm, notamment de 800 à 1100 nm. Des diodes laser de puissance émettant à une ou plusieurs longueurs d'onde choisie parmi 808 nm, 880 nm, 915 nm, 940 nm ou 980 nm se sont révélées particulièrement bien appropriées. Dans le cas d'un laser à disque, la longueur d'onde de traitement est par exemple de 1030 nm (longueur d'onde d'émission pour un laser Yb :YAG). Pour un laser à fibre, la longueur d'onde de traitement est typiquement de 1070 nm.

De préférence, l'absorption de l'empilement à la longueur d'onde du rayonnement laser est supérieure ou égale à 20%, notamment 30%. L'absorption est définie comme étant égale à la valeur de 100% auxquelles sont soustraites la transmission et la réflexion de la couche. Afin de traiter toute la surface du substrat revêtu, on crée un déplacement relatif entre d'une part le substrat revêtu de la couche et la ligne laser. Le substrat peut ainsi être mis en déplacement, notamment en défilement en translation en regard de la ligne laser fixe, généralement en dessous, mais éventuellement au-dessus de la ligne laser. Ce mode de réalisation est particulièrement appréciable pour un traitement en continu. De préférence, la différence entre les vitesses respectives du substrat et du laser est supérieure ou égale à 2 mètre par minute, voire 3 et même 4, 5, 8 ou 10 mètres par minute, ce afin d'assurer une grande vitesse de traitement.

Le substrat peut être mis en mouvement à l'aide de tous moyens mécaniques de convoyage, par exemple à l'aide de bandes, de rouleaux, de plateaux en translation. Le système de convoyage permet de contrôler et réguler la vitesse du déplacement. Si le substrat est en matière organique polymérique souple, le déplacement peut être réalisé à l'aide d'un système d'avance de films sous forme d'une succession de rouleaux.

Toutes les positions relatives du substrat et du laser sont bien entendu possibles, du moment que la surface du substrat peut être convenablement irradiée. Le substrat sera le plus généralement disposé de manière horizontale, mais il peut aussi être disposé verticalement, ou selon toute inclinaison possible. Lorsque le substrat est disposé horizontalement, le laser est généralement disposé de manière à irradier la face supérieure du substrat. Le laser peut également irradier la face inférieure du substrat. Dans ce cas, il faut que le système de support du substrat, éventuellement le système de convoyage du substrat lorsque ce dernier est en mouvement, laisse passer le rayonnement dans la zone à irradier. C'est le cas par exemple lorsque l'on utilise des rouleaux de convoyage : les rouleaux étant disjoints, il est possible de disposer le laser dans une zone située entre deux rouleaux successifs. Lorsque les deux faces du substrat sont à traiter, il est possible d'employer plusieurs lasers situés de part et d'autre du substrat, que ce dernier soit en position horizontale, verticale, ou selon toute inclinaison. La présente invention concerne également un substrat revêtu d'un empilement de couche mince comprenant successivement une première couche de titane métallique ayant une épaisseur de 1 à 3 nm, de préférence de 1 à 2 nm, une couche intermédiaire de titane au moins partiellement oxydée ayant une épaisseur de 0,5 à 5 nm, de préférence de 0,5 à 3 nm, voire de 0,5 à 2 nm, et une deuxième couche de titane métallique ayant une épaisseur de 2 à 5 nm, de préférence de 2 à 4 nm. Ce substrat est destiné à subir une oxydation à l'aide d'un traitement thermique par rayonnement laser, l'empilement étant en contact avec une atmosphère oxydante, afin d'obtenir un substrat revêtu d'un revêtement photocatalytique. La présente invention concerne également un substrat revêtu d'un revêtement photocatalytique susceptible d'être obtenu par le procédé selon l'invention. Le substrat obtenu selon l'invention est de préférence incorporé à un vitrage. Le vitrage peut être simple ou multiple (notamment double ou triple), au sens où il peut comprendre plusieurs feuilles de verre ménageant un espace rempli de gaz. Le vitrage peut également être feuilleté et/ou trempé et/ou durci et/ou bombé.

La face du substrat opposée à la face sur laquelle est déposée l'empilement, ou le cas échéant une face d'un autre substrat du vitrage multiple, peut être revêtue d'une autre couche fonctionnelle ou d'un empilement de couches fonctionnelles. Il peut notamment s'agir de couches ou d'empilements à fonction thermique, notamment antisolaires ou bas-émissifs, par exemple des empilements comprenant une couche d'argent protégée par des couches diélectriques. Il peut encore s'agir d'une couche miroir, notamment à base d'argent. Il peut enfin s'agir d'une laque ou d'un émail destiné à opacifier le vitrage pour en faire un panneau de parement de façade appelé allège. L'allège est disposée sur la façade aux côtés des vitrages non opacifiés et permet d'obtenir des façades entièrement vitrées et homogènes du point de vue esthétique.

D'autres couches ou empilements situés sur la face du substrat opposée à la face sur laquelle est déposée la couche d'oxyde peuvent voir leurs propriétés améliorées grâce au traitement thermique selon l'invention. Il peut notamment s'agir de propriétés liées à une meilleure cristallisation de couches fonctionnelles, par exemple de couches d'argent. Il a ainsi été observé, en particulier dans le cas de substrats en verre dont l'épaisseur est au plus de 6 mm, que le traitement thermique d'oxydation selon l'invention pouvait également diminuer l'émissivité et/ou la résistivité d'empilements bas-émissifs contenant au moins une couche d'argent.

Selon un mode de réalisation de l'invention, on dépose donc sur une face du substrat un empilement de couches mince comprenant tel que décrit ci-dessus, comprenant une couche intermédiaire de titane au moins partiellement oxydé entre deux couches de titane métallique, et sur l'autre face dudit substrat un empilement de couches bas-émissif comprenant au moins une couche d'argent, puis l'on traite ladite couche intermédiaire à l'aide d'au moins un rayonnement laser de sorte que l'émissivité ou la résistivité de l'empilement bas-émissif soit réduite d'au moins 3%. Les gains en émissivité ou en résistivité sont d'au moins 3%, voire 5% et même 10%. On peut ainsi à l'aide d'un seul traitement thermique améliorer les propriétés d'émissivité d'un empilement bas-émissif et obtenir une couche photocataly tique. Cela est rendu possible par le fait que le rayonnement laser n'a été absorbé qu'en partie par les couches de titane de l'empilement et le substrat, de sorte que l'empilement bas-émissif situé sur l'autre face reçoit une partie de l'énergie du rayonnement, qu'il utilise pour améliorer les propriétés de cristallisation de la ou de chaque couche d'argent. Le produit obtenu possède une fonction photocatalytique, autonettoyante sur une face, qui sera donc plutôt orientée vers l'extérieur d'un bâtiment, et une fonction d'isolation thermique sur l'autre face, qui sera donc plutôt orientée vers l'intérieur du bâtiment.

L'invention est illustrée à l'aide des exemples de réalisation non limitatifs qui suivent.

EXEMPLES

Trois échantillons (Il à 13) comprenant un revêtement photocatalytique obtenus par le procédé selon l'invention ont été préparés comme suit.

On dépose sur un substrat de verre clair de type silico-sodo-calcique un empilement de couche minces constitué successivement d'une première couche de titane métallique, une couche intermédiaire d'oxyde de titane Ti02, et une deuxième couche de titane métallique.

Les couches de titane métallique sont déposées par pulvérisation cathodique à d'aide d'une cible en titane sous un plasma d'argon. La couche intermédiaire d'oxyde de titane Ti02 est déposée également pas pulvérisation cathodique à l'aide d'une cible en Ti02 sous plasma d'argon.

Les échantillons sont traités à l'aide d'un laser en ligne, obtenu par juxtaposition de plusieurs lignes élémentaires, émettant un rayonnement d'une longueur d'onde de 1030 nm, en regard duquel le substrat revêtu vient défiler en translation. Les échantillons II et 12 ont été traité avec une vitesse de défilement de 2 m/min, tandis que l'échantillon 13 a été traité à une vitesse de défilement de 3 m/min. A titre de comparaison, des échantillons (RI à R3) comprenant un revêtement photocatalytique obtenu par traitement laser d'un revêtement constitués respectivement d'une unique couche de titane métallique de 5 nm, d'une couche d'oxyde de titane de 6 nm surmontée d'une couche de titane métallique de 4 nm, et d'une couche de titane métallique de 6 nm surmontée d'une couche d'oxyde de titane de 6 nm ont été préparés. Les échantillons RI à R3 ont été traités avec une vitesse de défilement de 2 m/min.

Le phénomène de « stitching » a été évalué en réflexion sur fond noir et en transmission sur fond blanc par un observateur entraîné pour chacun des échantillons traités.

Le tableau 1 ci-dessous résume les caractéristiques de chacun des échantillons et les résultats de l'évaluation du phénomène de « stitching ». Les observations du phénomène de « stitching » ont été noté comme suit : « x » indique des marques visibles, « O » indique un marquage très léger visible après recherche, et « ® » indique une absence de marques visibles.

L'activité photocatalytique a également été mesurée pour chacun des échantillons.

Les échantillons selon l'invention présentent une activité photocatalytique comparable à celle des références RI et R2.