Title:
電子近接効果の補正のための方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2016529728
Kind Code:
A
Abstract:
電子ビームをターゲットに投射する方法は、ターゲットにおける電子の散乱効果の補正を備える。この補正は、区分多項式関数に従う半径方向の変化を有する点像分布関数の計算ステップによって可能になる。
Inventors:
Nader, Jeddy
Patrick, Schiavone
Jean-Elbe, Tortay
Tiago, Figueira
Patrick, Schiavone
Jean-Elbe, Tortay
Tiago, Figueira
Application Number:
JP2016537363A
Publication Date:
September 23, 2016
Filing Date:
August 28, 2014
Export Citation:
Assignee:
Aserta nano graphics
International Classes:
H01L21/027; H01J37/04; H01J37/24; H01J37/28; H01J37/305
Domestic Patent References:
| JP2003151885A | 2003-05-23 | |||
| JP2013042137A | 2013-02-28 | |||
| JP2001237175A | 2001-08-31 |
Foreign References:
| US20060183025A1 | 2006-08-17 | |||
| US20030093767A1 | 2003-05-15 | |||
| US20130043389A1 | 2013-02-21 |
Attorney, Agent or Firm:
Hiroyuki Nagai
Yukitaka Nakamura
Yasukazu Sato
Satoru Asakura
Takeshi Sekine
Hiroshi Yoshimoto
Yukitaka Nakamura
Yasukazu Sato
Satoru Asakura
Takeshi Sekine
Hiroshi Yoshimoto