Title:
エピタキシャルシリコン堆積用の高容量且つ低コストのシステムのためのガス排気
Document Type and Number:
Japanese Patent JP3199711
Kind Code:
U
Abstract:
【課題】排気ガスを除去するための装置を提供する。【解決手段】装置は、基板処理ツール内で一つ又は複数の基板を支持するためのキャリアであって、第１排気出口を有する、キャリアと、排気アセンブリであって、キャリアの第１排気出口からプロセス排気を受け入れるためにキャリアに近接して配置される第１入口、洗浄ガスを受け入れるための第２入口、及びプロセス排気及び洗浄ガスを除去するための出口を含む排気アセンブリとを含むことができる。【選択図】図６Ａ
Inventors:
Carlson, David K.
Rice, Michael Earl.
Shah, Carl Tick Bee.
Maxwood, Kashif
Nawankar, Prabin Khe.
Rice, Michael Earl.
Shah, Carl Tick Bee.
Maxwood, Kashif
Nawankar, Prabin Khe.
Application Number:
JP2015600075U
Publication Date:
September 10, 2015
Filing Date:
August 20, 2013
Export Citation:
Assignee:
APPLIED MATERIALS,INCORPORATED
International Classes:
C23C16/44
Attorney, Agent or Firm:
Sonoda/Kobayashi Patent Business Corporation
Previous Patent: モジュール式織物
Next Patent: POLYMER MADE FROM MONOMER PREPARED BY BONDING CHOLIC ACID, DEOXYCHOLIC ACID, OR LITHOCHOLIC ACID DER...
Next Patent: POLYMER MADE FROM MONOMER PREPARED BY BONDING CHOLIC ACID, DEOXYCHOLIC ACID, OR LITHOCHOLIC ACID DER...