Title:
露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2011129369
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明の態様に係る露光装置は、所定の円筒面に沿って設けられたパターンを前記円筒面の円周方向に回転させつつ前記パターンを基板に転写する露光装置であって、前記パターンのうち前記円筒面の第１領域に配置される第１部分パターンの像を第１投影領域に投影する第１投影光学系と、前記パターンのうち前記第１領域と異なる第２領域に配置される第２部分パターンの像を、前記第１投影領域と異なる第２投影領域に投影する第２投影光学系と、前記パターンの前記円周方向への回転に同期して、前記第１投影領域及び前記第２投影領域に前記基板を案内する案内装置と、を備える。
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Inventors:
Toru Kiuchi
Hideo Mizutani
Hideo Mizutani
Application Number:
JP2012510673A
Publication Date:
July 18, 2013
Filing Date:
April 13, 2011
Export Citation:
Assignee:
NIKON CORPORATION
International Classes:
H01L21/027; G03F7/20
Domestic Patent References:
| JPH07273000A | 1995-10-20 | |||
| JPH08130178A | 1996-05-21 | |||
| JP2007299918A | 2007-11-15 | |||
| JP2007102200A | 2007-04-19 | |||
| JP2006235533A | 2006-09-07 | |||
| JP2008098325A | 2008-04-24 | |||
| JPH11265848A | 1999-09-28 | |||
| JP2011221537A | 2011-11-04 | |||
| JP2011221538A | 2011-11-04 | |||
| JP2013511737A | 2013-04-04 | |||
| JPS6019037U | 1985-02-08 | |||
| JP2000075497A | 2000-03-14 | |||
| JP2000275865A | 2000-10-06 | |||
| JP2003516563A | 2003-05-13 | |||
| JP2004525404A | 2004-08-19 | |||
| JP2006073784A | 2006-03-16 | |||
| JP2007227438A | 2007-09-06 | |||
| JP2007506991A | 2007-03-22 | |||
| JP2011203311A | 2011-10-13 |
Foreign References:
| WO2008129819A1 | 2008-10-30 |
Attorney, Agent or Firm:
Masatake Shiga
Tadashi Takahashi
Tadashi Takahashi