変性フェノール性水酸基含有化合物、変性フェノール性水酸基含有化合物の製造方法、感光性組成物、レジスト材料及びレジスト塗膜

Title:

変性フェノール性水酸基含有化合物、変性フェノール性水酸基含有化合物の製造方法、感光性組成物、レジスト材料及びレジスト塗膜

Document Type and Number:

Japanese Patent JPWO2015174199

Kind Code:

A1

Abstract:

本発明は、光感度及び耐熱性に優れる変性フェノール性水酸基含有化合物、当該化合物を含有する感光性組成物、当該感光性組成物からなるレジスト材料、及び当該レジスト材料からなる塗膜を提供することを目的として、下記一般式（１）［式中、Ｒ１は３級アルキル基、アルコキシアルキル基、アリールオキシアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ原子含有環状脂肪族炭化水素基、又はトリアルキルシリル基を表し、Ｒ２は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、又はハロゲン原子を表し、Ｒ３は置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。］で表される分子構造（但し、下記一般式（２）で表される分子構造を除く。）からなる変性フェノール性水酸基含有化合物を提供する。

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Inventors:

Tomoyuki Imada

Application Number:

JP2015543614A

Publication Date:

April 20, 2017

Filing Date:

April 16, 2015

Export Citation:

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Assignee:

DIC Corporation

International Classes:

C07C39/14; C07C41/06; C07C43/23; C07C68/06; C07C69/96; C07D309/12; G03F7/039

Attorney, Agent or Firm:

Kono Tsuyo

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